本公开涉及一种紫外固化装置、衬底处理设备及衬底处理方法。衬底处理方法包括：制备涂布有光固化材料的衬底；将衬底安置在衬底支撑件上；在衬底上方使用衬底的局部区域形成用于衬底的处理空间；在处理空间中形成惰性气体气氛；以及在其中形成有惰性气体气氛的处理空间中辐照紫外光。由于用于衬底的处理空间局部地形成在衬底上方，因此可改善衬底处理效率。因此可改善衬底处理效率。因此可改善衬底处理效率。
【技术实现步骤摘要】
紫外固化装置、衬底处理设备及衬底处理方法
[0001]本公开涉及一种紫外(ultraviolet，UV)固化装置、衬底处理设备及一种衬底处理方法，且更具体来说，涉及能够在衬底上方局部地形成衬底处理空间以改善衬底处理效率的一种UV固化装置、衬底处理设备及一种衬底处理方法。
技术介绍
[0002]一般来说，涂布(coating)代表在对象的表面上形成膜的特征，目的是防止对象的表面上的损伤及外来物质贴合且调节反射率。尽管存在各种涂布方法，但UV固化涂布最近得到广泛使用。
[0003]UV固化涂布是以下方法：所述方法用于形成膜，使得将作为光固化材料(photocurable material)的UV涂布溶液施加在对象的表面上，且使用UV光辐照UV涂布溶液以使UV涂布溶液固化。如上所述形成的膜具有例如高光泽、高硬度及耐化学性等性质。另外，由于UV涂布溶液的固化速度比热固化方法快，因此可改善生产率，且由于省略热处置工艺，因此可减少工艺的数目。另外，由于在UV固化涂布中不使用有机溶剂，因此UV固化涂布可最小程度地影响环境，且由于使用UV光，因此可将UV固化涂布容易地施加到容易热变形的对象上。具体来说，由于UV涂布溶液的固化速度在几秒到几十秒之间极快，因此UV涂布溶液对于对显示器的领域中使用的光学膜不间断地实行涂布是非常有利的。
[0004]然而，具有200nm或小于200nm的波长的UV光的局限性在于：UV光吸收空气中的氧气以产生臭氧，且空气中的氧气会限制由UV涂布溶液的UV光引起的化学反应，从而降低固化密度。另外，当UV涂布溶液在光学膜的涂布期间接触氧气时，UV涂布溶液被氧化以使光学功能劣化。
[0005]因此，在将对象装载到腔室中之后实行UV固化涂布，且将腔室的内部转换成氮气气氛以降低氧气浓度。然而，上述方法的局限性在于：随着对象的大小增加，腔室的大小也增加，且对腔室的内部气氛进行转换所需的时间增加，从而降低生产率。
[0006][相关技术文献][0007][专利文献][0008](专利文献1)KR10
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技术实现思路
[0009]本公开提供能够通过减少衬底处理时间来改善生产率的一种UV固化装置、衬底处理设备及一种衬底处理方法。
[0010]根据示例性实施例，一种UV固化装置包括：主体，被安装成沿着待处理对象的上部部分移动；UV灯，安装在所述主体的下部部分上；壁部，连接到所述主体的所述下部部分，以在所述待处理对象与所述主体之间形成处理空间；气体供应部，具有安装在所述壁部上的部分，以向所述处理空间供应惰性气体；以及控制单元，被配置成控制所述气体供应部的操作。
[0011]所述壁部可具有中空形状，所述中空形状具有敞开的上部部分及下部部分。
[0012]所述壁部可包括在垂直方向上延伸的本体部及设置在所述本体部下方且朝向所述主体的内部弯曲的延伸部。
[0013]所述壁部可朝向所述主体的内部及外部的至少一个侧倾斜。
[0014]所述气体供应部可包括：喷嘴，安装在所述壁部的内表面上，以将气体注入到所述空间；气体供应管道，连接到所述喷嘴，以将所述气体供应到所述喷嘴；以及阀，安装在所述气体供应管道上。
[0015]所述气体供应部可还包括辅助喷嘴，所述辅助喷嘴安装在所述壁部的外表面上，以在垂直方向上注入所述气体。
[0016]所述UV固化装置可还包括浓度计，所述浓度计安装在所述壁部上，以对所述处理空间中的氧气浓度进行测量。
[0017]所述浓度计可被设置成低于所述喷嘴。
[0018]所述控制单元可使用所述浓度计中测量的结果来控制所述阀的操作。
[0019]根据另一示例性实施例，衬底处理设备包括：衬底支撑单元，被配置成支撑上面施加有光固化材料的衬底；以及根据权利要求1到权利要求9中的任一项所述的UV固化装置，且所述UV固化装置安装在所述衬底支撑单元上方。
[0020]所述衬底处理设备可还包括温度计，所述温度计安装在所述壁部上，以对所述衬底的温度进行测量。
[0021]所述衬底支撑单元可包括：衬底支撑件，被配置成支撑设置在所述衬底支撑件上的所述衬底；以及冷却装置，被配置成对所述衬底支撑件的温度进行调节，且所述控制单元可使用所述温度计中测量的结果来控制所述冷却装置的操作。
[0022]所述壁部可与所述衬底支撑件间隔开。
[0023]根据又一示例性实施例，一种衬底处理方法包括：制备涂布有光固化材料的衬底；将所述衬底安置在衬底支撑件上；在所述衬底上方使用所述衬底的局部区域形成用于所述衬底的处理空间；在所述处理空间中形成惰性气体气氛；以及在其中形成有所述惰性气体气氛的所述处理空间中辐照UV光。
[0024]所述辐照所述UV光可包括移动其中形成有所述惰性气体气氛的所述处理空间。
[0025]所述形成所述惰性气体气氛及所述辐照所述UV光中的至少一者可包括对所述处理空间中的氧气浓度进行测量。
[0026]所述形成所述惰性气体气氛可包括向所述处理空间供应惰性气体，且所述形成所述惰性气体气氛及所述辐照所述UV光中的至少一者可包括根据所测量的所述氧气浓度对被供应到所述处理空间的所述惰性气体的流动速率进行调节。
[0027]所述移动其中形成有所述惰性气体气氛的所述处理空间可包括相对于其中形成有所述惰性气体气氛的所述处理空间的移动方向而以不同方式对被供应到前侧的惰性气体的流动速率与被供应到后侧的惰性气体的流动速率进行调节。
[0028]所述形成所述惰性气体气氛及所述辐照所述UV光中的至少一者可包括在所述处理空间与所述衬底之间形成惰性气体幕。
[0029]所述辐照所述UV光可包括对所述衬底的温度进行测量。
[0030]所述辐照所述UV光可包括根据所述衬底的所测量的所述温度对所述衬底支撑件
的温度进行调节。
附图说明
[0031]根据以下结合附图的说明，可更详细地理解示例性实施例，在附图中：
[0032]图1是示出根据示例性实施例的衬底处理设备的示意图。
[0033]图2是示出根据示例性实施例的衬底处理设备的放大视图。
[0034]图3是示出UV固化装置的经修改实例的视图。
[0035]图4是示出UV固化装置的另一经修改实例的视图。
[0036]图5是代表当使用根据示例性实施例的衬底处理设备对衬底进行处理时，腔室中的氧气浓度的曲线图。
具体实施方式
[0037]在下文中，将参照附图详细阐述具体实施例。然而，本公开可以许多不同的形式实施，且不应被解释为局限于本文中陈述的实施例；相反，提供这些实施例是为了使本公开将透彻及完整，且将本专利技术的概念完全传达给所属领域中的技术人员。
[0038]图1是示出根据示例性实施例的衬底处理设备的示意图，且图2是示出根据示例性实施例的衬底处理设备的放大视图。
[0039]参照图1及图2，根据示例性实施例的衬底处理设备可包括：衬底支撑单元1本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种紫外固化装置，包括：主体，被安装成沿着待处理对象的上部部分移动；紫外灯，安装在所述主体的下部部分上；壁部，连接到所述主体的下部部分，以在所述待处理对象与所述主体之间形成处理空间；气体供应部，具有安装在所述壁部上的部分，以向所述处理空间供应惰性气体；以及控制单元，被配置成控制所述气体供应部的操作。2.根据权利要求1所述的紫外固化装置，其中所述壁部具有中空形状，所述中空形状具有敞开的上部部分及下部部分。3.根据权利要求2所述的紫外固化装置，其中所述壁部包括在垂直方向上延伸的本体部及设置在所述本体部下方且朝向所述主体的内部弯曲的延伸部。4.根据权利要求2所述的紫外固化装置，其中所述壁部朝向所述主体的内部及外部的至少一个侧倾斜。5.根据权利要求1所述的紫外固化装置，其中所述气体供应部包括：喷嘴，安装在所述壁部的内表面上，以将所述惰性气体注入到所述处理空间；气体供应管道，连接到所述喷嘴，以将所述惰性气体供应到所述喷嘴；以及阀，安装在所述气体供应管道上。6.根据权利要求5所述的紫外固化装置，其中所述气体供应部还包括辅助喷嘴，所述辅助喷嘴安装在所述壁部的外表面上，以在垂直方向上注入所述气体。7.根据权利要求5所述的紫外固化装置，还包括浓度计，所述浓度计安装在所述壁部上，以对所述处理空间中的氧气浓度进行测量。8.根据权利要求7所述的紫外固化装置，其中所述浓度计被设置成低于所述喷嘴。9.根据权利要求7所述的紫外固化装置，其中所述控制单元使用所述浓度计中测量的结果来控制所述阀的操作。10.一种衬底处理设备，包括：衬底支撑单元，被配置成支撑上面施加有光固化材料的衬底；以及根据权利要求1到9中的任一项所述的紫外固化装置，其中所述紫外固化装置安装在所述衬底支撑单元上方。11.根据权利要求10所述的衬底处理设备，还包括温度计，所述温度计安装在壁部上，以对所述衬底的温度进行测量。12.根据权利要求11所述的衬底处理设备，其中...
【专利技术属性】
技术研发人员：梁相熙，刘正必，崔锺权，白种化，
申请(专利权)人：AP系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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