【技术实现步骤摘要】
一种用于真空热蒸发沉积金属铝薄膜的蒸发舟
本专利技术属于真空镀膜
,涉及一种用于真空热蒸发沉积金属铝薄膜的蒸发舟。
技术介绍
金属薄膜在近紫外、可见到红外区域具有很高的反射率,在电子及微电子工业、能源、信息科学等领域中的应用越来越广泛。真空热蒸发沉积技术是一种常用的制备金属薄膜的方法。这种方法具有设备简单、工艺简便、成本低等优点。金属薄膜可以采用高熔点金属丝、金属蒸发舟或金属加热体与陶瓷蒸发舟组成的蒸发源在真空条件下通过热蒸发沉积镀膜技术来获得。金属丝、金属蒸发舟和金属加热体的材料可采用高熔点的钽、钥、钨等金属材料;蒸发舟的材料通常采用石墨、氮化硼、氧化铝等材料。真空热蒸发沉积铝薄膜被广泛的应用于光电子器件的电极。金属铝薄膜可以采用钨丝、钨舟、钽舟等在真空条件下热沉积制备。但是,加热过程中所形成的高温金属铝溶液可与高熔点金属相浸润形成合金,进而对金属加热体造成破坏,从而缩短金属加热体的使用寿命。同时,这种直接用高熔点金属热沉积金属铝薄膜的方法很难获得大面积高均匀性的金属铝薄膜。因此这种方法不适用于大规模工业生产。目前大规模工业生产广泛采用由高熔点金属加热体和 ...
【技术保护点】
一种用于真空热蒸发沉积金属铝薄膜的蒸发舟,包括:上端敞口的圆柱形蒸发坩埚(11);其特征在于,该蒸发舟还包括:设置于所述圆柱形蒸发坩埚(11)上端外围的圆形缓冲平台(12);设置于所述圆形缓冲平台(12)外围上方的圆柱形防溢出阻挡层(13)。
【技术特征摘要】
1.一种用于真空热蒸发沉积金属铝薄膜的蒸发舟,包括上端敞口的圆柱形蒸发坩埚(11);其特征在于,该蒸发舟还包括 设置于所述圆柱形蒸发坩埚(11)上端外围的圆形缓冲平台(12); 设置于所述圆形缓冲平台(12)外围上方的圆柱形防溢出阻挡层(13)。2.根据权利要求I所述的蒸发舟,其特征在于,所述圆柱形蒸发坩埚(11)的直径为10-20 mm。3.根据权利要求I所述的蒸发舟,其特征在于,所述圆柱形蒸发坩埚(11)的高度为10-50 mm。4.根据权利要求I所述的蒸发舟,其特征在于,所述圆形缓冲平台...
【专利技术属性】
技术研发人员:苏子生,初蓓,李文连,
申请(专利权)人:中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,
类型:发明
国别省市: