具备多个坩埚的薄膜沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种薄膜沉积装置，其包括：沉积腔室，在其内部支撑有基板；分配管，其通过形成于上部的多个喷嘴喷射由用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料的多个坩埚汽化的沉积材料；分配管加热器，其被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，其用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；和上部板，其具有与所述喷嘴对应的排出口并被设置于所述分配管的上部，所述薄膜沉积装置具有如下效果：能够通过缩减坩埚的高度来降低腔室的高度，并且能够通过使对基板的左/右沉积彼此独立而进行对称或非对称沉积。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种薄膜沉积装置，更详细而言，涉及一种具备多个坩埚的薄膜沉积装置，其能够通过缩减坩埚的高度来降低腔室的高度，并且能够通过使对基板的左/右沉积彼此独立而实现对称或非对称沉积。
技术介绍
沉积工艺为半导体器件的制造或平板显示器件的制造中被广泛使用的方法，为了将半导体器件及平板显示器件的制造中所使用的沉积物质涂布到基板上，通过加热装入有沉积物质的坩埚而使沉积物质从表面蒸发并使经蒸发的有机物沉积在高真空腔室内的基板上。一般而言，薄膜沉积装置包括：腔室，形成为真空；基板支撑部，被设置于所述腔室内并支撑基板；和分配管，配置成面向所述基板支撑部并用于通过使原料物质蒸发而向基板供给。在自下而上的沉积方式中，所述分配管被设置于腔室内的下部，具体而言，所述分配管被配置成与待沉积薄膜的基板的一面相隔开并面向彼此，发挥以多个路径向基板的一面均匀地分配并供给经蒸发的原料物质的功能。在由本申请人申请并授权的韩国授权专利第10-1057552号中公开了现有的分配管，现有的分配管以圆筒形形状形成，在所述分配管的中央部分连接有收容沉积物质的坩埚，并且具备用于加热所述分配管的加热器。由于所述分配管通过其中央部分与所述坩埚连接，因此整体形状形成为“T”字形状，所述加热器为以包围分配管的外周面的方式构成并对经过分配管的原料物质进行加热的结构。由于这种现有技术为所述坩埚与分配管的中央部分结合并通过单个坩埚供给沉积物质的结构，因此为了供给大量的沉积物质而需要加大坩埚的大小。近年来，由于基板逐渐大面积化，因此对于平板显示器件，为了TV画面的大型化和生产率的提高而需要能够制造大面积基板的沉积装置，为了构成大面积基板制造用沉积装置，可以说大面积基板制造用蒸发源的开发是最重要的问题。为了构成大面积基板制造用蒸发源，需要加大装入沉积物质的坩埚的容量，但如果为了加大坩埚的容量而加长坩埚的长度则腔室的高度进一步增加，因此具有导致沉积装置大型化且设备的制造费用增加的缺点。此外，由于所述加热器缠绕到分配管的外周面而与分配管直接结合，因此具有部件故障时更换及修理非常难的缺点，例如，为了更换蒸发源而需要分解加热器。
技术实现思路
技术问题本专利技术是为了解决上述问题而提出的，其目的在于提供一种薄膜沉积装置，所述薄膜沉积装置具备多个坩埚，即使在沉积相同量的沉积物质的情况下，也能缩减坩埚的长度，从而能降低腔室的高度并使沉积装置小型化。此外，本专利技术的目的在于提供一种薄膜沉积装置，其能够通过分别独立控制由各个坩埚供给的沉积物质而将沉积物质对称或非对称地沉积在基板上。此外，本专利技术的目的在于提供一种薄膜沉积装置，其能够通过分别独立配置用于加热坩埚和分配管的加热器并从上方装卸蒸发源而使分离简便，并且能减少腔室下部的空间并能确保空间。此外，本专利技术的目的在于提供一种薄膜沉积装置，其通过在分配管的两侧设置加热器，在部件故障时容易进行加热器的更换及拆装。技术方案为了实现上述目的，本专利技术提供一种薄膜沉积装置，其包括：沉积腔室，在内部支撑有基板；多个坩埚，用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料；分配管，沿管轴配置有一列与所述多个坩埚分别连通的多个结合口，并且通过形成于上部的多个喷嘴喷射由所述多个坩埚汽化的沉积材料；分配管加热器，被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；以及上部板，具有与所述喷嘴对应的排出口并被设置于所述分配管的上部。此外，为了实现上述目的，本专利技术提供一种薄膜沉积装置，其包括：沉积腔室，在内部支撑有基板；多个坩埚，用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料；多个分配管，与所述坩埚分别结合并被配置成一列以通过多个喷嘴喷射经汽化的沉积材料；分配管加热器，被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；以及上部板，具有与所述喷嘴对应的排出口并被设置于所述分配管的上部。所述分配管加热器可由具有字形的剖面形状的护套加热器(SheathHeater)构成，以便加热所述分配管的侧面及底面。在该情况下，所述分配管加热器可被设置于所述分配管的两侧。另外，所述上部板能够开闭，当开放所述上部板时，能够从上方分离并更换所述分配管。在本专利技术中，可以以滑动方式开闭所述上部板。此外，在所述上部板的底面可设置有反射器，所述反射器被设置为面向所述分配管的上表面并能够通过反射所述分配管的热来进行加热。所述反射器可被设置为多层结构，以有效地进行热的反射。在本专利技术中，在所述沉积腔室的内部可平行地设置有多个所述分配管。在该情况下，优选地，在平行地设置的多个所述分配管中，位于边缘的分配管的喷嘴沿着所述分配管的切线方向延伸形成以具有与所述沉积腔室的中央邻接的位置。专利技术的效果根据如上所述的本专利技术，本专利技术的薄膜沉积装置具有如下效果：即使在沉积相同量的物质的情况下也能大幅减小坩埚的长度，从而能减小腔室的高度并降低设备的制造费用。如果还考虑坩埚的装卸高度，则与具有单个坩埚的现有技术相比，能够将高度缩小两倍左右。此外，能够分别独立控制对基板的左/右沉积而进行对称或非对称沉积。通常，为了调节喷射到基板上的沉积物质量而采取变更喷嘴帽的方式，但该方式具有需要在中断工艺并变更喷嘴帽后重新设置真空等的工艺时间长的缺点，根据本专利技术，由于分别独立控制基板的左/右薄膜厚度而无需变更喷嘴帽，因此具有能减少工艺时间的效果。此外，通过分别独立配置用于加热坩埚和分配管的加热器并从上方装卸蒸发源而使分离简便，从而具有能减小下部空间以及能确保空间的效果。附图说明图1是表示本专利技术的薄膜沉积装置的第一实施例所涉及的主要结构的剖视图。图2是图1中的侧剖视图。图3是表示本专利技术的第一实施例的俯视图。图4是图3中的A-A线剖视图。图5是图3中的B-B线剖视图。图6是放大表示图5中的分配管的剖视图。图7是示意性地表示通过本专利技术的薄膜沉积装置沉积到基板上的沉积膜的剖视图。图8是表示本专利技术的薄膜沉积装置的第二实施例所涉及的主要结构的剖视图。图9是图8中的侧剖视图。图10是表示本专利技术的第二实施例的俯视图。图11是图10中的A-A线剖视图。图12是图10中的B-B线剖视图。图13是放大表示图12中的分配管的剖视图。图14是示意性地表示通过本专利技术的薄膜沉积装置沉积到基板上的沉积膜的剖视图。图15是表示本专利技术的蒸发源的其它实施例的剖视图。具体实施方式下面，参照附图对本专利技术的优选实施例进行详细说明。如图1及图8所示，本专利技术的薄膜沉积装置大体包括：沉积腔室(未图示)；坩埚10，用于收容沉积材料；分配管20，用于将由所述坩埚10汽化的沉积材料喷射到基板上；加热器30、40，用于通过加热所述分配管20及坩埚10而使所述沉积材料汽化；和上部板50，被设置于所述分配管20的上部。本专利技术的特征在于，配置有多个所述坩埚10。在此，在所述分配管20中设置有多个所述坩埚10，可以以在一个分配管20上设置有多个坩埚10的方式实施。此外，所述多个坩埚10也可以被设置为与各个分配管20结合并在沉积腔室内配置有一列多个分配管20。实施例下面，参照附图对本专利技术的优选实施例进行详细说明。首先，在对各图的结构要素标注附图标记时，应注意即使在其它图中显示相同的结构要素，也尽可能使其具本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜沉积装置，包括：沉积腔室，在其内部支撑基板；多个坩埚，其用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料；分配管，其中沿管轴配置有一列与所述多个坩埚分别连通的多个结合口，并且通过形成于上部的多个喷嘴喷射由所述多个坩埚汽化的沉积材料；分配管加热器，其被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，其用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；以及上部板，具有与所述喷嘴对应的排出口并被设置于所述分配管的上部。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.07.07 KR 10-2014-0084799;2014.07.07 KR 10-2011.一种薄膜沉积装置，包括：沉积腔室，在其内部支撑基板；多个坩埚，其用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料；分配管，其中沿管轴配置有一列与所述多个坩埚分别连通的多个结合口，并且通过形成于上部的多个喷嘴喷射由所述多个坩埚汽化的沉积材料；分配管加热器，其被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，其用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；以及上部板，具有与所述喷嘴对应的排出口并被设置于所述分配管的上部。2.一种薄膜沉积装置，包括：沉积腔室，其在内部支撑有基板；多个坩埚，其用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料；多个分配管，与所述坩埚分别结合并被配置成一列以通过多个喷嘴喷射经汽化的沉积材料；分配管加热器，被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；以及上部板，具有与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴泳晚，崔在秀，李淳哲，金秀彬，金明洙，李荣钟，宋基民，朴荣信，徐泰源，裵荣陈，金政泽，李程均，
申请(专利权)人：铣益系统有限责任公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR