具备多个坩埚的薄膜沉积装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种薄膜沉积装置，其包括：沉积腔室，在其内部支撑有基板；分配管，其通过形成于上部的多个喷嘴喷射由用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料的多个坩埚汽化的沉积材料；分配管加热器，其被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，其用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；和上部板，其具有与所述喷嘴对应的排出口并被设置于所述分配管的上部，所述薄膜沉积装置具有如下效果：能够通过缩减坩埚的高度来降低腔室的高度，并且能够通过使对基板的左/右沉积彼此独立而进行对称或非对称沉积。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种薄膜沉积装置，更详细而言，涉及一种具备多个坩埚的薄膜沉积装置，其能够通过缩减坩埚的高度来降低腔室的高度，并且能够通过使对基板的左/右沉积彼此独立而实现对称或非对称沉积。
技术介绍
沉积工艺为半导体器件的制造或平板显示器件的制造中被广泛使用的方法，为了将半导体器件及平板显示器件的制造中所使用的沉积物质涂布到基板上，通过加热装入有沉积物质的坩埚而使沉积物质从表面蒸发并使经蒸发的有机物沉积在高真空腔室内的基板上。一般而言，薄膜沉积装置包括：腔室，形成为真空；基板支撑部，被设置于所述腔室内并支撑基板；和分配管，配置成面向所述基板支撑部并用于通过使原料物质蒸发而向基板供给。在自下而上的沉积方式中，所述分配管被设置于腔室内的下部，具体而言，所述分配管被配置成与待沉积薄膜的基板的一面相隔开并面向彼此，发挥以多个路径向基板的一面均匀地分配并供给经蒸发的原料物质的功能。在由本申请人申请并授权的韩国授权专利第10-1057552号中公开了现有的分配管，现有的分配管以圆筒形形状形成，在所述分配管的中央部分连接有收容沉积物质的坩埚，并且具备用于加热所述分配管的加热器。由于所述分配管通过其本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种薄膜沉积装置，包括：沉积腔室，在其内部支撑基板；多个坩埚，其用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料；分配管，其中沿管轴配置有一列与所述多个坩埚分别连通的多个结合口，并且通过形成于上部的多个喷嘴喷射由所述多个坩埚汽化的沉积材料；分配管加热器，其被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，其用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；以及上部板，具有与所述喷嘴对应的排出口并被设置于所述分配管的上部。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.07.07 KR 10-2014-0084799;2014.07.07 KR 10-2011.一种薄膜沉积装置，包括：沉积腔室，在其内部支撑基板；多个坩埚，其用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料；分配管，其中沿管轴配置有一列与所述多个坩埚分别连通的多个结合口，并且通过形成于上部的多个喷嘴喷射由所述多个坩埚汽化的沉积材料；分配管加热器，其被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，其用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；以及上部板，具有与所述喷嘴对应的排出口并被设置于所述分配管的上部。2.一种薄膜沉积装置，包括：沉积腔室，其在内部支撑有基板；多个坩埚，其用于收容待沉积到所述基板上的沉积材料；多个分配管，与所述坩埚分别结合并被配置成一列以通过多个喷嘴喷射经汽化的沉积材料；分配管加热器，被独立设置为面向所述分配管的外表面以加热所述分配管；坩埚加热器，用于通过加热所述坩埚而使所述沉积材料汽化；以及上部板，具有与所...

【专利技术属性】
技术研发人员：吴泳晚，崔在秀，李淳哲，金秀彬，金明洙，李荣钟，宋基民，朴荣信，徐泰源，裵荣陈，金政泽，李程均，
申请(专利权)人：铣益系统有限责任公司，
类型：发明
国别省市：韩国;KR