【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及用于一种镀膜装置及使用该装置的镀膜方法。
技术介绍
在物理气相沉积(Ph ysical Vapor Deposition, PVD)的过程中，祀材原子或离子沉积在基材上成膜，但是因为待加工的工件特殊的结构和形状，如，其表面具有孔洞或其本身结构具有中空腔体，使得其孔洞或中空腔体内部，因物理气相沉积中的阴影效应，而导致其无法形成完整的在工件的孔洞或中空腔体内部镀上膜层，直接影响了产品的镀膜品质和良率。
技术实现思路
有鉴于此，有必要提供一种能内孔镀膜、且结构简单的镀膜装置。一种镀膜装置，用于对带有中空腔体的待镀膜工件镀膜，该镀膜装置包括一仿形本体及若干磁体，该仿形本体的形状与该待镀膜工件外形大致相当，若干磁体间隔且等间距的设置于仿形本体的外周壁上，且每一磁体的S极和N与邻近磁体的S极和N极交错设置。另外，本专利技术还提供一种对带有中空腔体的待镀膜工件的镀膜方法 提供一镀膜装置，该镀膜装置包括一仿形本体、若干磁体，该仿形本体的形状与该待镀膜工件外形大致相当，若干磁体间隔且等间距的设置于仿形本体的外周壁上，且每一磁体的S极和N与邻近磁体的S极和N极交错设置；...
【技术保护点】
一种镀膜装置，用于对带有中空腔体的待镀膜工件进行镀膜，其特征在于：该镀膜装置包括一仿形本体及若干磁体，该仿形本体的形状与该待镀膜工件外形大致相当，所述若干磁体间隔且等间距的设置于仿形本体的外周壁上，且每一磁体的S极和N与邻近磁体的S极和N极交错设置。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：陈文荣，陈正士，李聪，
申请(专利权)人：鸿富锦精密工业深圳有限公司，鸿海精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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