一种用于真空溅镀的靶材制造技术

技术编号:8283544 阅读:178 留言:0更新日期:2013-01-31 23:38
本实用新型专利技术涉及一种靶材,尤其涉及一种用于真空溅镀的靶材。一种用于真空溅镀的靶材,所述靶材为金属靶A和金属靶B两两交错固定连接。本实用新型专利技术解决了真空溅镀需要两块靶材的成本浪费的问题,用一块靶材达到了两块靶材所达到的效果。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种靶材,尤其涉及一种用于真空溅镀的靶材
技术介绍
由于目前应用于真空溅镀作业的靶材需要成型到一定的大尺寸之后,再进行修整成所需尺寸的靶材,这样靶材的成本很高,而需要不同靶材的情况下,则需要两个靶材,这样才能达到所需的溅镀效果,那么如何制作一种真空溅镀的靶材,使之可以用一个靶材达到两个靶材所达到的效果,以节约大量成本,正是专利技术人要解决的问题。
技术实现思路
本技术解决了真空溅镀套色等制程中需要两块靶材的不足,用一块靶材即可达到两块靶材的效果。其具体技术方案是一种用于真空溅镀的靶材,所述靶材为金属靶A和金属靶B两两交错固定连接。作为优选,所述金属靶A为铜靶,金属靶B为铝靶。作为优选,所述金属靶A为钛靶,金属靶B为银靶。作为优选,所述金属靶A为合金靶,金属靶B为合金靶。本技术解决了真空溅镀需要两块靶材的成本浪费的问题,用一块靶材达到了两块靶材所达到的效果。附图说明图I为本技术结构示意图。具体实施方式实施例I下面结合图I对本技术实施例I作进一步详细描述一种用于真空溅镀的靶材,其特征在于,所述靶材为金属靶Al和金属靶B2两两交错固定连接。所述金属靶Al为铜靶,金属靶B2为铝靶。实施例2下面结合图I对本技术实施例2作进一步详细描述一种用于真空溅镀的靶材,其特征在于,所述靶材为金属靶Al和金属靶B2两两交错固定连接。所述金属靶Al为钛靶,金属靶B2为银靶。实施例3下面结合图I对本技术实施例3作进一步详细描述一种用于真空溅镀的靶材,其特征在于,所述靶材为金属靶Al和金属靶B2两两交错固定连接。所述金属靶Al为合金靶,金属靶B2为合金靶。权利要求1.一种用于真空溅镀的靶材,其特征在于,所述靶材为金属靶A (I)和金属靶B (2)两两交错固定连接。2.根据权利要求I所述的一种用于真空溅镀的靶材,其特征在于,所述金属靶A(I)为铜靶,金属靶B (2)为铝靶。3.根据权利要求I所述的一种用于真空溅镀的靶材,其特征在于,所述金属靶A(I)为钛靶,金属靶B (2)为银靶。4.根据权利要求I所述的一种用于真空溅镀的靶材,其特征在于,所述金属靶A(I)为合金祀,金属革EB (2)为合金革巴。专利摘要本技术涉及一种靶材,尤其涉及一种用于真空溅镀的靶材。一种用于真空溅镀的靶材,所述靶材为金属靶A和金属靶B两两交错固定连接。本技术解决了真空溅镀需要两块靶材的成本浪费的问题,用一块靶材达到了两块靶材所达到的效果。文档编号C23C14/14GK202705457SQ201220296909公开日2013年1月30日 申请日期2012年6月25日 优先权日2012年6月25日专利技术者郑志铭 申请人:浙江柏腾光电科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于真空溅镀的靶材,其特征在于,所述靶材为金属靶A(1)和金属靶B(2)两两交错固定连接。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:郑志铭
申请(专利权)人:浙江柏腾光电科技有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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