【技术实现步骤摘要】
EMI专用真空溅镀治具制作工艺
本专利技术涉及一种EMI专用真空溅镀治具制作工艺,属于机械加工
。
技术介绍
电磁干扰(EMI)是干扰电缆信号并降低信号完好性的电子噪音,EMI通常由电磁辐射发生源,如马达和机器产生。EMI有传导干扰和辐射干扰两种,在PCB及系统设计中,高频信号线、集成电路的引脚、各类接插件等都可能成为具有天线特性的辐射干扰源,能发射电磁波并影响其他系统或本系统内其他子系统的正常工作。电子消费类产品,如笔记本电脑、手机、导航仪等,都容易产生EMI辐射性,传统的方法是通过电镀、喷涂等方法,在产品的表面覆上一层导电金属,但传统的方法效率低、成本高、污染严重,而真空溅镀在电子产品表层镀上导电金属,使电磁波被导电金属吸收或反射,采用真空溅镀方法具有经济、高效、无污染的优点。在真空溅镀工艺中,可防止被溅镀的塑胶件不变形、溅镀区域精准、可批量循环使用并保护塑胶件的治具至关重要。现有技术中,有用PC材料制作的治具,保护精度、强度不高,可修复性不强,达不到反复使用的目的;普通的铝材制作成的治具,加工时困难点较多,如材料加工变形、成品毛刺较多且难清 ...
【技术保护点】
一种EMI专用真空溅镀治具制作工艺,所述EMI专用真空溅镀治具包括上盖和底座,所述底座上设置有与待真空溅镀产品配套的定位块,所述上盖包括遮蔽块,所述遮蔽块通过架桥连接,所述架桥连接至所述上盖的主体,其特征在于,所述制作工艺包括如下步骤:a:首先根据待真空溅镀产品,确定产品需要EMI遮蔽的区域;b:在确定待EMI遮蔽区域的基础上进行3D造型制图,采用MASTERCAM、CIMATRON与UG三种编程软件混合使用,生成一个G代码文件,用于确定专用EMI真空溅镀治具的加工路径;c:将b步骤编写的程序输入机床的PLC控制器中,同时将待切割成EMI专用真空溅镀治具的金属板材放置在机床 ...
【技术特征摘要】
1.一种EMI专用真空溅镀治具制作工艺,所述EMI专用真空溅镀治具包括上盖和底座,所述底座上设置有与待真空溅镀产品配套的定位块,所述上盖包括遮蔽块,所述遮蔽块通过架桥连接,所述架桥连接至所述上盖的主体,其特征在于,所述制作工艺包括如下步骤: a:首先根据待真空溅镀产品,确定产品需要EMI遮蔽的区域; b:在确定待EMI遮蔽区域的基础上进行3D造型制图,采用MASTERCAM、CIMATRON与UG三种编程软件混合使用,生成一个G代码文件,用于确定专用EMI真空溅镀治具的加工路径; c:将b步骤编写...
【专利技术属性】
技术研发人员:范新宇,
申请(专利权)人:昆山福冈电子有限公司,
类型:发明
国别省市:
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