一种核聚变靶材制造技术

一种核聚变靶材。该核聚变靶材按质量百分比为：金属薄膜90%，氕氘成分2%，吸引剂8%，本发明专利技术的优点：成本低。

【技术实现步骤摘要】

：本专利技术属于核工业
，特别涉及一种核聚变靶材。
技术介绍
：目前，核聚变靶材成本较高。
技术实现思路
：本专利技术针对现有技术的不足，提供一种核聚变靶材。该核聚变靶材按质量百分比为：金属薄膜90%，氕氘成分2%，吸引剂8%。本专利技术的优点：成本低。具体实施方式：本专利技术通过以下实施例进行说明：该核聚变靶材按质量百分比为：金属薄膜90%，氕氘成分2%，吸引剂8%。

【技术保护点】
一种核聚变靶材，其特征在于：该核聚变靶材按质量百分比为： 金属薄膜90%，氕氘成分2%，吸引剂8%。

【技术特征摘要】
1.一种核聚变靶材，其特征在于：该核聚变靶材按质量...

【专利技术属性】
技术研发人员：栾清杨，
申请(专利权)人：沈阳创达技术交易市场有限公司，
类型：发明
国别省市：辽宁;21