新型镀膜容器制造技术

技术编号:15098895 阅读:132 留言:0更新日期:2017-04-08 01:32
本实用新型专利技术公开一种新型镀膜容器,包括坩埚和衬锅;所述衬锅内盛放蒸镀源并放置在所述坩埚内,其特征在于:所述衬锅的上开口具有向内延伸的突起部。通过调整衬锅的上开口的突起部,在保证镀膜的均匀性和厚度的情况下,使得蒸镀源在镀膜过程中降低其蒸发角度,从而降低其材料耗用。

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种真空蒸发设置,具体为一种新型镀膜容器
技术介绍
蒸镀法是属于一种物理气相沉积的真空镀膜技术。通常是将蒸镀源的材料直接放在坩埚里或者放置于衬锅之中,再将衬锅放在坩埚之中(如图1所示),通过对材料进行施加热能,使材料从固态转化为气态的原子、原子团或分子,然后凝聚在到待镀膜的基片表面形成薄膜,该技术广泛应用于太阳能薄膜、半导体晶片、平板显示、光学晶片等多个领域。衬锅是蒸镀设备所使用的重要元件之一。现有的真空镀膜机主要是利用电子枪将蒸镀材料进行加热,并将蒸镀材料蒸发到光学元件表面形成薄膜。现有的蒸镀材料一般直接放在坩埚内,也有用衬锅装载再放在坩埚里。其蒸发薄膜的厚度主要决定于蒸镀源的蒸发速率和时间,并与源与基片的距离有关。对于大面积或较大量的镀膜,常采用旋转基片或多蒸镀源的方式以保证膜厚厚度的均匀性。从蒸镀源到基片的距离应小于蒸汽分子在残余气体中的平均自由程。因此在保证均匀性的情况下,基片与源的距离固定不变。镀膜机台在镀膜时会有一蒸发角度,蒸发角度对于不同的蒸镀源、不同镀膜参数会存在一定的差异。黄金在LED制作中消耗非常大,而在镀膜过程中黄金会变成液体其蒸发面积大于其余金属源,所以其蒸发角度也会大于其余金属蒸发角度。目前LED蒸镀的成本主要在于贵重金属如黄金的耗量部分,通过设计新的衬锅可以使黄金的蒸发角度降低,从而降低消耗的黄金。
技术实现思路
针对上述技术问题,本技术公开一种新型镀膜容器,包括坩埚和衬锅;所述衬锅内盛放蒸镀源并放置在所述坩埚内,其特征在于:所述衬锅的上开口具有向内延伸的突起部。优选地,所述向内延伸的突起部呈环形状。优选地,所述向内延伸的突起部宽度为1mm~10mm。优选地,所述衬锅的上开口外径为40~60mm。优选地,所述衬锅的上开口内径为15~30mm。优选地,所述衬锅的高度为20mm~30mm。优选地,所述衬锅的材料为石英玻璃或钼或钨或无氧铜高熔点金属。优选地,所述蒸镀源的材料为铬或铂或钛或银或铝或金或前述组合与现有技术相比,本技术具有以下有益效果:通过在衬锅的上开口设置向内延伸的突起部,在保证镀膜的均匀性和厚度的情况下,降低蒸发材料的蒸发角度,使得单位时间内蒸发出来的材料下降,从而降低材料的使用耗量。此外,通过设计不同的宽度的突起部,还可以用以调整蒸发角度。本技术部分极易设计,生产过程管控简单,便于产业化生产。附图说明图1为现有的光学镀膜容器的结构剖视图。图2为本技术所述新型光学镀膜容器的结构剖视图。图示说明:1:坩埚;2:衬锅;3:突起部。具体实施方式以下结合实施例来进一步解释本专利技术,但实施例并不对本专利技术做任何限定。下面结合附图对本技术做进一步的详细说明,以令本领域技术人员参照说明书文字能够据以实施。如图2所示,本技术公开一种新型镀膜容器,包括坩埚1和衬锅2;衬锅2内盛放蒸镀源(图中未示出)并放置在所述坩埚3内衬锅2的上开口具有向内延伸的突起部3。具体地,蒸镀源的材料可以选用铬或铂或钛或银或铝或金,本实施例优选金;衬锅的上开口外径R1为40~60mm,优选49mm,上开口内径R2为15~30mm,优选25mm,高度H为20mm~30mm,优选27mm。衬锅选用导热系数较高、耐高温并且不与镀膜材料发生化学反应的材料,可以诸如石英玻璃或钼或钨或无氧铜高熔点金属。突起部3从衬锅2的内侧壁,沿上开口向内延伸形成,为了保证镀膜的厚度均匀性,优选规则周期分布,本实施例优选突起部3呈环形状,宽度D为1mm~10mm,优选5mm。通过在衬锅上开口设置突起部,可以在保证镀膜的均匀性和厚度前提下,使得贵重金属如黄金的镀膜角度变小,减少了在镀膜过程中源的耗量,从而降低镀膜成本。经试验比对,采用本技术的镀膜容器,其相同厚度的膜层,蒸镀源的材料耗量下降了10%左右,蒸发角度缩小6°左右。通过设计不同宽度的突起部,用以调整蒸发角度。本技术部分极易设计,生产过程管控简单,便于产业化生产。尽管本技术的实施方案已公开如上,但其并不仅仅限于说明书和实施方式中所列运用,它完全可以被适用于各种适合本技术的领域,对于熟悉本领域的人员而言,可容易地实现另外的修改,因此在不背离权利要求及等同范围所限定的一般概念下,本技术并不限于特定的细节和这里示出与描述的图例。本文档来自技高网...

【技术保护点】
新型镀膜容器,包括坩埚和衬锅;所述衬锅内盛放蒸镀源并放置在所述坩埚内,其特征在于:所述衬锅的上开口具有向内延伸的突起部。

【技术特征摘要】
1.新型镀膜容器,包括坩埚和衬锅;所述衬锅内盛放蒸镀源并放置在所述坩埚内,其特征在于:所述衬锅的上开口具有向内延伸的突起部。2.根据权利要求1所述的新型镀膜容器,其特征在于:所述向内延伸的突起部呈环形状。3.根据权利要求1所述的新型镀膜容器,其特征在于:所述向内延伸的突起部宽度为1mm~10mm。4.根据权利要求1所述的新型镀膜容器,其特征在于:所述衬锅的上开口外径为40...

【专利技术属性】
技术研发人员:廖齐华郭明兴邓有财冯岩许亚红张家豪
申请(专利权)人:厦门三安光电有限公司
类型:新型
国别省市:福建;35

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