【技术实现步骤摘要】
本技术涉及一种真空蒸发设置,具体为一种新型镀膜容器。
技术介绍
蒸镀法是属于一种物理气相沉积的真空镀膜技术。通常是将蒸镀源的材料直接放在坩埚里或者放置于衬锅之中,再将衬锅放在坩埚之中(如图1所示),通过对材料进行施加热能,使材料从固态转化为气态的原子、原子团或分子,然后凝聚在到待镀膜的基片表面形成薄膜,该技术广泛应用于太阳能薄膜、半导体晶片、平板显示、光学晶片等多个领域。衬锅是蒸镀设备所使用的重要元件之一。现有的真空镀膜机主要是利用电子枪将蒸镀材料进行加热,并将蒸镀材料蒸发到光学元件表面形成薄膜。现有的蒸镀材料一般直接放在坩埚内,也有用衬锅装载再放在坩埚里。其蒸发薄膜的厚度主要决定于蒸镀源的蒸发速率和时间,并与源与基片的距离有关。对于大面积或较大量的镀膜,常采用旋转基片或多蒸镀源的方式以保证膜厚厚度的均匀性。从蒸镀源到基片的距离应小于蒸汽分子在残余气体中的平均自由程。因此在保证均匀性的情况下,基片与源的距离固定不变。镀膜机台在镀膜时会有一蒸发角度,蒸发角度对于不同的蒸镀源、不同镀膜参数会存在一定的差异。黄金在LED制作中消耗非常大,而在镀膜过程中黄金会变成液体其蒸发面积大于其余金属源,所以其蒸发角度也会大于其余金属蒸发角度。目前LED蒸镀的成本主要在于贵重金属如黄金的耗量部分,通过设计新的衬锅可以使黄金的蒸发角度降低,从而降低消耗的黄金。
技术实现思路
针对上述技术问题,本技术公开一种新型镀膜容器,包括坩埚和衬锅;所述衬锅内盛放蒸镀源并放置在所述坩埚内,其特征在于:所述衬锅的上开口具有向内延伸的突起部。优选地,所述向内延伸的突起部呈环形状。优选地,所述向内延伸的 ...
【技术保护点】
新型镀膜容器,包括坩埚和衬锅;所述衬锅内盛放蒸镀源并放置在所述坩埚内,其特征在于:所述衬锅的上开口具有向内延伸的突起部。
【技术特征摘要】
1.新型镀膜容器,包括坩埚和衬锅;所述衬锅内盛放蒸镀源并放置在所述坩埚内,其特征在于:所述衬锅的上开口具有向内延伸的突起部。2.根据权利要求1所述的新型镀膜容器,其特征在于:所述向内延伸的突起部呈环形状。3.根据权利要求1所述的新型镀膜容器,其特征在于:所述向内延伸的突起部宽度为1mm~10mm。4.根据权利要求1所述的新型镀膜容器,其特征在于:所述衬锅的上开口外径为40...
【专利技术属性】
技术研发人员:廖齐华,郭明兴,邓有财,冯岩,许亚红,张家豪,
申请(专利权)人:厦门三安光电有限公司,
类型:新型
国别省市:福建;35
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。