【技术实现步骤摘要】
本技术涉及ー种太阳能硅片加工设备，具体涉及ー种硅片扩散设备。
技术介绍
目前使用的太阳能电池硅片扩散炉，如图I所示，通常都是采用扩散气体进入炉体I后垂直于娃片3表面流动的方式,这种扩散方式使得扩散气体在受到娃片3表面的阻挡后，难以在硅片3背面及硅片3的间隙内均匀分布，造成硅片3表面方块电阻均匀性较差，硅片3中部方阻偏大，而四周偏小，硅片3表面的方块电阻极值差为10Ω / ロ
技术实现思路
本技术的目的在于克服现有技术中存在的缺陷，提供ー种硅片扩散设备，解决由于扩散气体在娃片上分布不均而造成的娃片表面方块电阻均勻性较差的问题。为实现上述目的，本技术的技术方案是设计ー种硅片扩散设备，所述扩散设备包括炉体，在炉体内设有石英舟，硅片被放置于石英舟上，在炉体上还设有用于扩散气体进入炉体内的进气管和扩散处理后排放尾气的排放管，排放管位于石英舟下方，其特征在于，所述的进气管内所流向硅片的扩散气体沿平行于硅片表面的方向流动，进气管在位于硅片的部位设有若干个喇叭形喷气嘴。其中优选的技术方案是，所述的进气管从炉体的侧面伸入到炉体内部且位于石英舟上方，放置在石英舟上的硅片表面垂直于炉体的水...
【技术保护点】
一种硅片扩散设备，所述扩散设备包括炉体(1)，在炉体内设有石英舟(2)，硅片(3)被放置于石英舟(2)上，在炉体(1)上还设有用于扩散气体进入炉体(1)内的进气管(4)和扩散处理后排放尾气的排放管(5)，排放管(5)位于石英舟(2)下方，其特征在于，所述的进气管(4)内所流向硅片(3)的扩散气体沿平行于硅片(3)表面的方向流动，进气管(4)在位于硅片(3)的部位设有若干个喇叭形喷气嘴(42)。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：沈彪，李向清，胡德良，
申请(专利权)人：江苏爱多光伏科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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