【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种接近式曝光装置，更具体而言，涉及适用于将掩模图案曝光转印在例如液晶显示器或等离子显示器等大型平板显示器等的基板上的接近式曝光装置。
技术介绍
接近式曝光是将表面涂敷有感光剂的透光性基板(被曝光件)保持在曝光装置的工作台(work stage)上，同时使该基板与保持在掩模装载台的掩模保持框中的掩模接近，使两者的间隙为例如数十微米 数百微米，利用照射装置，从掩模的与基板呈相反侧的一侦U，向掩模照射曝光用光，由此将绘制在掩模上的图案曝光转印到基板上的技术。另一方面，尽管在接近式曝光中存在着使掩模与基板大小相同以集中进行曝光的方式，但在这样的方式中，在将掩模的图案曝光转印到大型基板上时，掩模大型化，将因掩 模的挠曲而对图案的精度造成影响，或在成本等方面发生问题。鉴于该状况，在现有技术中，当在大型基板上进行掩模图案的曝光转印时，有时会采用所谓步进式的接近式曝光方式，即，采用比基板小的掩模，使工作台相对于掩模步进移动，每移动一步，就在掩模与基板接近配置的状态下，照射图案曝光用光，由此将绘制在掩模上的多个图案曝光转印到基板上的方式。用于保持基板的工作台由电机...
【技术保护点】
一种接近式曝光装置，其特征在于，具有：掩模保持部，其保持具有需要曝光的图案的掩模；工件保持部，其保持作为被曝光件的工件；工件驱动部，其驱动所述工件保持部；和照射单元，其借助所述掩模向所述工件照射图案曝光用光，在所述掩模和所述工件互相接近并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将所述掩模的图案曝光转印到所述工件上，所述工件驱动部为具有定子和与所述定子对向配置的转子的直线电动机，并具有：沿所述转子配置的转子侧致冷剂循环通路；向所述转子侧致冷剂循环通路循环供给致冷剂的转子侧致冷剂供给装置；和配置在所述转子侧致冷剂循环通路的入口和出口，用于检测所述转子侧致冷剂循环通路的入口附近和出口附...
【技术特征摘要】
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