接近式曝光装置以及接近式曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种照明光学系统（70），其具有：光源部（73）；复眼透镜（74），其由多个透镜单元组成的蝇眼透镜构成，对来自光源部（73）的光的强度进行均衡化处理；和遮光部件（78），其能够移动，设置在复眼透镜（74）的入射面侧，可变地设定为预定的准直半角的方式，对入射到多个透镜单元的任一单元中的光进行遮光。由此，能够可变设定准直半角，得到具有期望线宽的高分辨率图案。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：富樫工，川岛洋德，
申请(专利权)人：恩斯克科技有限公司，
类型：
国别省市：