曝光装置和曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种使用微透镜阵列，能够将微细的曝光图案以高分辨率和较短的生产节拍间隔时间曝光转印到基板上的曝光装置和曝光方法。本发明专利技术的曝光装置具有：掩模装载台（10）；基板装载台（20）；用于照射图案曝光用光的照明光学系统（30）；具有由多个微透镜（42）在平面上定向配置而成并沿Y方向直线状延伸的微透镜阵列（41），并配置在掩模（M）和基板（W）之间的微透镜载置板（62）；和用于使微透镜载置板（62）沿X方向移动的微透镜驱动机构（60），在使微透镜载置板（62）沿X方向移动的状态下，照射图案曝光用光，借助微透镜（42），将掩模图案曝光转印到基板（W）上。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，更具体而言，涉及能够将微细的曝光图案以高分辨率曝光转印到基板的整个表面上的。
技术介绍
现有的曝光装置通过将掩模和基板隔着微小间隙而互相接近，经由掩模照射来自照明光学系统的图案曝光用光，将形成在掩模上的图案曝光转印到基板上。但是，在这样的曝光装置中，由于是通过垂直透过掩模的曝光用光将形成在掩模上的掩模图案原样转印到基板上，因此，有可能因为光的折射，而使得基板上的图案的图像模糊不清、分辨率下降，以致不能对微细的图案进行曝光。 为了应对这样的问题，公开了一种曝光装置和光掩模，其在掩模的各开口分别对应设置微透镜，利用快门间歇照射曝光用光，以高分辨率将各开口的图像成像在被曝光体上(例如，参照专利文献I)。此外，已知还有一种，其具有分割成条块区域的空间光调制元件，和按照该空间光调制元件的每个条块区域而被分割的焦点距离不同的微透镜阵列，通过选择微透镜阵列的条块区域的至少一部分进行曝光，就能在不需要采用复杂的结构下实现高精度的聚焦控制(例如，参照专利文献2)。进而，还公开了一种曝光装置，其具有在与基板的传送方向大致垂直的方向上形成多个掩模图案的多个掩模图案列，和对应于各掩模图本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种曝光装置，其特征在于，具有：基板装载台，其用于载置作为被曝光件的基板；掩模装载台，其具有用于保持掩模的掩模保持框，并配置在所述基板装载台的上方；微透镜装载台，其具有用于载置由多个微透镜在平面上定向配置而成的微透镜阵列的微透镜载置板，和用于使所述微透镜载置板沿预定方向移动的微透镜驱动机构，所述微透镜装载台配置在所述基板装载台与所述掩模装载台之间；和照明光学系统，其经由所述掩模和所述微透镜阵列向所述基板照射图案曝光用光，在使所述微透镜载置板沿所述预定方向移动的状态下，由所述照明光学系统照射所述图案曝光用光，经由多个所述微透镜，将形成在所述掩模上的掩模图案曝光转印到所述基板上。

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：佐治伸仁，小林健一，原田种真，桐生恭孝，小柳秀昭，今井克喜，长谷川一也，
申请(专利权)人：恩斯克科技有限公司，
类型：发明
国别省市：