本发明专利技术涉及定制专用工件，比如芯片、平板或其它通过直接写入自定义图案而在基板上生产的电子装置。定制可以按装置、按基板、按批次进行或者用于其它一些无法使用自定义掩模或掩模组的小型存储媒体。特别地，本发明专利技术涉及定制在基板上的辐射敏感层中形成的潜像，合并标准图案数据和自定义图案数据以形成用于生产定制的潜像的自定义图案。很多种基板可得益于本发明专利技术所公开的技术。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及定制专用工件，比如芯片、平板或其它通过直接写入自定义图案而在基板上生产的电子装置。定制可以按装置、按基板、按批次进行或者用于其它一些无法使用自定义掩模或掩模组的小型存储媒体。特别地，本专利技术涉及定制在基板上的辐射敏感层中形成的潜像，合并标准图案数据和自定义图案数据以形成用于生产定制的潜像的自定义图案。很多种基板可得益于本专利技术所公开的技术。
技术介绍
将自定义、个性化或独特的信息永久性地装入集成电路有时候是有用的。这种用处已导致多种一次性可编程或单次写入存储器的开发。一个例子在名为“包括各向异性的半导体薄片的单次写入存储器的二极管一熔丝存储器元件(Diode-and-Fuse MemoryElements for a Write-Once MemoryComprising an Anisotropic Semi ConductorSheet) ”的美国专利No. 6，813，182中找到。该专利所描述的交叉点存储元件可以从熔丝完好状态转换成熔丝烧断状态仅一次，进而提供单次写入存储。另一个例子在名为“半导体设备及其数据元件和制造方法(SemiconductorDevice, Data Element Thereof and Method of Fabricating theSame) ” 的美国专利公开2010/0001330A1中找到。该申请描述了工厂编程ROM类别中的非易失性存储器(也称掩模ROM)，以及现场可编程存储器。与熔丝存储方法相相比，Micronic Laser/Micronic Mydata的开发团队以前曾提出将步进光刻机的特征与SLM结合以将来自掩模的标准数据和来自SLM的自定义数据在光学上合并。该
公开的两项专利包括同样名为“半导体个性化生产的方法和设备(Method and Apparatus forPersonalization of Semiconductor)，，的美国专利No. 6，813，058 以及 No. 7，842，525。于是，有机会提供新技术将自定义、个性化或独特的信息永久性地装入集成电路。新技术可以更好地集成到产品中、更为可靠、更为灵活或更具成本效益。
技术实现思路
本专利技术涉及定制专用工件，比如集成电路、平板或其它通过直接写入自定义图案而在基板上生产的电子装置。定制可以按装置、按基板、按批次进行或者用于其它一些无法使用自定义掩模或掩模组的小型存储媒体。特别地，本专利技术涉及定制在基板上的辐射敏感层中形成的潜像，合并标准图案数据和自定义图案数据以形成用于生产定制的潜像的自定义图案。很多种基板可得益于本专利技术所公开的技术。本专利技术的具体各方面在权利要求书、说明书和附图中描述。附图说明图I示出了 SLM图案生成器的总体布局。 图2示出了具有三个臂的扫描系统以及被写入在中枢相对的两侧上的一对工件。图3示出了包括重采样至调制器栅格的通用数据通路。图4是合并标准图案数据和自定义图案数据的数据流的高级框图。图5示出了其上形成有多块裸片(dies)的圆形晶片和矩形基板。图6示出了不同像素尺寸和瓦块尺寸的栅格。图7示出了多种用于生产潜像的调制器和载置台的类型。具体实施例方式以下详细描述是参考附图做出的。描述优选实施例是用于说明本专利技术，而并非用于限制权利要求所限定的保护范围。本领域的技术人员会意识到关于以下描述的多种等效变化。图4 一 6公开了标准数据和自定义数据的重采样和合并，以及使用合并的数据通过直接写入装置在基板上的至少一层辐射敏感层中形成潜像。图4是合并标准图案数据和自定义图案数据的数据流的高级框图。合并重采样部件(merging and resampling component) 433在两条数据通路上接收标准图案数据401和自定义图案数据431。数据通路可以是物理上分离的或交错的，就像在单条数据总线或存储器访问通道上。所谓“数据通路”，我们指的是如何将数据送至合并重采样部件433。数据可以来自向量数据或栅格数据，并且可以储存在旋转式或非旋转式存储器上。设计数据，通常是向量数据集，被转换成用于制造的、常见的向量格式。向量域几何处理适用于这种格式。随后，向量格式的数据演变成几何像素图，产生了我们所谓的“标准图案数据”。应用了像素域图像处理并且所述数据被重采样成用于打印的、与调制器相关的格式。为实现生产许多相同或近似相同的面板的批量打印，反复使用之前生成的数据是有益的，以避免多次重复做同样的工作。然而，在图像格式版本演变期间，不能反复使用最终的调制器像素图，因为它含有针对正在成像的特定面板的补偿。此类补偿的例子包括对齐信息和畸变补偿。标准图案数据可以在多块面板之间通用并且可以反复使用，或者，它可能仅仅是应用了定制的基础数据。在多块板之间反复使用意味着几何图被生成一次之后相同的图被反复用于一个批次中的多块面板。这样，与几何图必须为每块面板反复生成时相t匕，计算量有所降低并且硬件构造变小。几何图可以在进行实际打印之前很长时间就生产出来。实际上，为了以后的使用，可以提前将多幅几何图备好并予存档。该方案也允许在打印之前对图进行检查。可重复使用的标准图案数据本质上使面板相同，这通常是所希望的。然而，在有些使用情况中，独 特性对于某些面板或者某些面板的零件是期望的，比如用于包装的基板或用于编程的存储元件。独特性的例子包括单元序列号，生产批次(或生产时间及日期)，生产基板或其它生产数据。在其它一些情况中，裸片的边缘需要与裸片主面不同的图案，例如在大面积掩模中。为了这些目的，可以使用自定义图案数据的第二像素图。我们公开了标准图案数据与自定义图案数据的合并及重采样，例如在当数据正用于形成潜像时。合并可以在不同时间进行，在重采样之前或之后。于是，合并及重采样由单个方框表示并且可以声称为一个单独的动作，因为合并及重采样的顺序取决于标准图案数据和自定义图案数据的性质。在一些使用情况中，合并可以在重采样之前完成，允许加工在线下进行，其中时间不是很要紧。随后，线上加工更接近由时间决定的，允许计算能力的优化。重采样操作使一幅输入图变成一幅输出图，这简化了重采样操作。结合的像素图可以在打印之前访问检查。当在重采样期间进行合并时，自定义图案数据像素图可以恰好在打印之前生成，恰好在调制器像素图生成之前。在生产时间附近生成的、最近的自定义图案数据的一个例子是将精确的生产时间合并到图案去。当在重采样之后进行合并时，可将额外的像素图合并到已有的调制器像素图中。当以需要在打印之前合并多个调制器像素图的方式分割数据流时，这可能是有益的。在合并期间，可以检测自定义图案数据以决定在特定的区域、画面格或瓦片中是否需要定制。瓦片是根据来自调制器的要求所设置的多片调制器数据。瓦片也可以定义为具有空间范围的数据块。如果没有定制的话，可以通过完全省略合并或在标准图案数据中进行将不改变像素值的合并而使合并优化。如果没有定制的话，将有很少或没有要处理的自定义图案数据。几何像素底图中的标准图案数据与(一幅或多幅)额外几何像素图中的自定义图案数据之间的合并可以对匹配的或很不同的像素栅格进行。首先，可以将相同且对齐的像素栅格合并。以最简单的形式，合并在多幅像素图上进行，在这些像素图中的栅格和瓦片是匹配的，也就是，像素尺寸和图的本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.03.05 US 61/311,276;2011.03.02 US 13/039,2061.ー种在基板上的辐射敏感层中形成自定义潜像的方法，所述方法包括 在第一数据通路上接收标准图案数据； 在第二数据通路上接收自定义图案数据； 将标准图案数据和自定义图案数据重采样并合并以形成合并的光栅化图案数据，所述光栅化图案数据代表将在辐射敏感层中形成的物理自定义潜像；并且 使用直接写入装置由合并的光栅化图案数据在辐射敏感层中形成自定义潜像。2.如权利要求I所述的方法，其中，标准图案数据和自定义图案数据都是在对齐的栅格上的光栅化数据，还包括在重采样之前合并标准图案数据和自定义图案数据。3.如权利要求I所述的方法，其中，将标准图案数据和自定义图案数据重采样至对齐的栅格之后再将它们合并。4.如权利要求3所述的方法，还包括，使用截然不同的处理逻辑电路并行重采样标准图案数据和自定义图案数据。5.如权利要求I至4中...
【专利技术属性】
技术研发人员：L伊万森，A奥斯特伯格，
申请(专利权)人：麦克罗尼克迈达塔有限责任公司，
类型：
国别省市：
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