一种掩膜板及其制作方法技术

本发明专利技术实施例提供了一种掩膜板及其制作方法，该掩膜板，应用于大尺寸接近式曝光机光学系统，该掩膜板包括多个区域，每个区域为以掩膜板的中心点为圆心且按照设定规则形成的区域，并且离掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高；离掩膜板的中心点越远的区域，其对应的透过率越低。在本发明专利技术实施例中，在接近式曝光机光学系统曝光时，由于掩膜板上离掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高，这样就使得这些区域的曝光量较高，可以相对弥补此区域的曝光间距较小对图形尺寸的影响，从而提高曝光出的图形尺寸的均一度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光学领域，尤其涉及。
技术介绍
随着显示技术的发展，大尺寸，高品质，低成本的显示器件成为一种发展趋势，那么，对于作为显示器件(例如TFT-LCD显示器件)的主要组成部分之一的彩色滤光片，它的质量直接决定显示器件的显示效果。目前，在制作彩色滤光片时，多采用接近式曝光机光学系统曝光的方式，通常在使用接近式曝光机光学系统中的基板101 (例如玻璃基板)、掩膜板102和光刻胶103制作彩色滤光片时，弯曲前的掩膜板102与基板101之间的距离一般在一百微米至数百米以内，这样的话，对于掩膜板而言，在曝光时其弯曲将会造成掩膜板102上中心区域和边缘区域与基板101在垂直方向上形成的曝光间距不同，例如掩膜板102上中心区域与基板101之间的曝光间距G2小于掩膜板102上边缘区域与基板101之间的曝光间距Gl (如图1所示)，通常在制作工艺过程中，由于接近式曝光机光学系统在曝光时受衍射角、光线平行度等因素的影响，基板上曝光出的图形尺寸(CD)随着各区域的曝光间距的增大而增大(如图2所示，)，这样一来，在曝光量相同的情况下，由于中心区域的曝光间距小，边缘区域的曝光间距大，从而造成中心区域本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩膜板，应用于大尺寸接近式曝光机光学系统，其特征在于，所述掩膜板包括多个区域，每个区域为以所述掩膜板的中心点为圆心且按照设定规则形成的区域，并且离所述掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高；离所述掩膜板的中心点越远的区域，其对应的透过率越低。

【技术特征摘要】
1.一种掩膜板,应用于大尺寸接近式曝光机光学系统，其特征在于，所述掩膜板包括多个区域，每个区域为以所述掩膜板的中心点为圆心且按照设定规则形成的区域，并且离所述掩膜板的中心点越近的区域，其对应的透过率越高；离所述掩膜板的中心点越远的区域，其对应的透过率越低。2.如权利要求1所述的掩膜板，其特征在于，该掩膜板，具体包括普通掩膜板和光学薄膜； 所述光学薄膜，贴附于所述普通掩膜板上，所述光学薄膜包括多个区域，每个区域为以所述光学薄膜的中心点为圆心且按照设定规则形成的区域，并且离所述光学薄膜的中心点越近的区域，其对应的透过率越高；离所述光学薄膜的中心点越远的区域，其对应的透过率越低。3.如权利要求2所述的掩膜板，其特征在于，所述透过率为60% 100%。4.如权利要求1-3中任一项所述的掩膜板，其特征在于，所述每个区域为圆形区域或椭圆形区域。5.如权利要求4所述的掩膜板，其特征在于，离所述掩膜板的中心点最近的区域的透过率为100%。6.如权利...

【专利技术属性】
技术研发人员：黎敏，吴洪江，姜晶晶，张思凯，万冀豫，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：发明
国别省市：