本发明提供一种曝光方法和曝光装置，能够抑制在基板及掩模发生损伤，并且使基板具有期望的曲率。包括以下工序：将基板(3)载置到多个波纹管(17)上的工序；通过将波纹管(17)的内部抽真空，从而使波纹管(17)的上端(17a)吸附于基板(3)...

本发明提供一种曝光装置和曝光方法，即使在校正了反射镜的曲率的情况下，也能够改善曝光光的曝光区域的照度分布而提高曝光精度。曝光装置(PE)包括对照射到工件(W)的曝光光的照度进行测定的照度计(40)，在将工件(W)曝光前，使用照度计(40...

本发明涉及一种照明光学系统（70），其具有：光源部（73）；复眼透镜（74），其由多个透镜单元组成的蝇眼透镜构成，对来自光源部（73）的光的强度进行均衡化处理；和遮光部件（78），其能够移动，设置在复眼透镜（74）的入射面侧，可变地设定...

本发明涉及一种接近式曝光装置及曝光方法，其能以简单结构对掩模挠曲进行修正并保持掩模，以高精度进行曝光复制。该掩模载置台（1）具有：将掩模（M）真空吸附并保持于其下表面的掩模保持架（26）；保持于掩模保持架（26）上表面侧的玻璃盖片（32...

本发明提供一种曝光装置，其能够防止或降低掩模与基板之间产生的按压力，从而防止或抑制基板的破裂。该曝光装置（100）在掩模保持架（11）或基板载置台（12）其中一方上设有多个配置在掩模（M）或基板（W）的周围，能够调节自身长度的间隙限制机...

本发明涉及一种使用微透镜阵列，能够将微细的曝光图案以高分辨率和较短的生产节拍间隔时间曝光转印到基板上的曝光装置和曝光方法。本发明的曝光装置具有：掩模装载台（10）；基板装载台（20）；用于照射图案曝光用光的照明光学系统（30）；具有由多...

本发明涉及一种接近式曝光装置(PE)，其具备：由具有第一定子(31)及与其对置的第一转子(32)的第一直线电动机(30)、和具有第二定子(41)及与其对置的第二转子(42)的第二直线电动机(40)构成的工件驱动部；沿转子(32、42)配...

本发明提供一种能够提高处理能力，并能够更高效地进行多个基板的曝光的曝光装置和曝光方法、曝光单元以及使用该单元的曝光方法。该接近式曝光装量（11）具有：用于保持具有多个图案（P1、P2）的掩模（M）的掩模载置台（21）；具有用于保持作为被...

本发明提供能够高再现性地进行工作台的角度调整的支承装置和曝光装置。弹簧构件(450)安装在移动部件(439)的臂部(439c)的上表面和基板支承部(442)的下表面而可一体地沿Z轴方向移动，因此与和壳体(431)连结的情况相比可抑制弹簧...

本发明提供能够抑制随着光源部的照射时间的增加而导致的照度下降的曝光装置用光照射装置、光照射装置的控制方法、曝光装置以及曝光方法。该曝光装置用光照射装置具备：多个光源部(73)，其包括发光部(71)和反射光学系统(72)；多个闸盒(81)...

掩模台(10)具有：掩模台基座(11)；能够分别吸附保持掩模M各边的四个掩模架(71，72)；分别设置在用于吸附保持掩模台基座(11)侧和掩模M短边侧的一对掩模架(72)之间的线性导轨(73)；使短边侧的掩模架(72)移动的驱动机构(7...

本发明提供可不使用高价掩模而改善析像度的曝光装置用光照射装置、接近曝光装置、接近曝光方法和基板制造方法。此外，本发明提供可高效地制造滤色器或液晶面板的掩模、被曝光基板、曝光装置和曝光方法。接近曝光装置使从多个光源部(73)射出的光的主光...