接近式曝光装置及接近式曝光方法制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种接近式曝光装置及曝光方法，其能以简单结构对掩模挠曲进行修正并保持掩模，以高精度进行曝光复制。该掩模载置台（1）具有：将掩模（M）真空吸附并保持于其下表面的掩模保持架（26）；保持于掩模保持架（26）上表面侧的玻璃盖片（32）；对由掩模保持架（26）、掩模（M）及玻璃盖片（32）界定的空间（33）内的空气进行抽吸，使空间（33）内部减压的抽吸机构（40）；和从外部向减压空间（33）内供给空气的至少一条空气导入槽（35）。在将掩模（M）真空吸附并保持于掩模保持架（26）的下表面，并由抽吸机构（40）抽吸空间（33）内压力的状态下，经空气导入槽（35）向空间（33）供给外部空气，将空间（33）内压力调节为规定压力。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种，更详细而言，涉及适于在将掩模的图案曝光复制在例如液晶显示器和等离子显示器等大型平板显示器等的基板上时所使用的。
技术介绍
接近式曝光是将表面上涂布有感光剂的透光性基板(被曝光件)保持在曝光装置的工作台上，并且使该基板接近于保持在掩模载置台的掩模保持架上的掩模，使两者的间隔为例如数十ym 数百μ m，通过照射装置，从掩模的与基板相反的一侧向掩模照射曝光用光，由此将绘制在掩模上的图案曝光复制在基板上。另外，尽管接近式曝光中存在将掩模做成与基板相同的大小而一次性曝光的方式，但在该方式下，在将掩模的图案曝光复制在大型基板上时，掩模趋于大型化，将在掩模的挠曲导致对图案的精度的影响和成本等方面出现问题。由于这样的原因，迄今为止，在将掩模的图案曝光复制在大型基板上的情况下，有时会采用所谓步进式的接近式曝光方式，即，使用比基板小的掩模，使工作台相对于掩模步进移动，在每一步中，在将掩模配置在接近基板的状态下，照射图案曝光用光，由此，将绘制在掩模上的多个图案曝光复制在基板上。掩模的挠曲对曝光精度有着很大的影响，特别是在大型掩模方面，掩模的挠曲有增大的趋势，因此优选极力减小挠曲。迄今本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种接近式曝光装置，其特征在于，具有：基板载置台，其保持作为被曝光件的基板；掩模载置台，其保持具有需曝光图案的掩模；以及照射单元，其借助所述掩模对所述基板照射图案曝光用光，所述接近式曝光装置在所述掩模与所述基板接近，并以规定的曝光间隙对向配置的状态下，将所述掩模的图案曝光复制在所述基板上，所述掩模载置台具有：掩模保持架，其将所述掩模真空吸附保持于其下表面；玻璃盖片，其被保持在所述掩模保持架的上表面侧；抽吸机构，其抽吸至少由所述掩模保持架、所述掩模及所述玻璃盖片所界定的空间内部的空气，使所述空间内部减压；以及空气导入通路，其从外部向被减压的空间内部供给空气，且所述空气导入通路至少有一条。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：汤口悟，佐藤雅之，
申请(专利权)人：恩斯克科技有限公司，
类型：发明
国别省市：