曝光装置用光照射装置、曝光装置、曝光方法、基板制造方法、掩模和被曝光基板制造方法及图纸

本发明专利技术提供可不使用高价掩模而改善析像度的曝光装置用光照射装置、接近曝光装置、接近曝光方法和基板制造方法。此外，本发明专利技术提供可高效地制造滤色器或液晶面板的掩模、被曝光基板、曝光装置和曝光方法。接近曝光装置使从多个光源部(73)射出的光的主光轴(L)分散入射到积分器(74)的周边部上。此外，掩模具有：形成有曝光到被曝光基板上的图案的曝光图案；形成在与曝光图案的外缘的第一边相邻的位置上的第一校准标识；和形成在与曝光图案的外缘的跟第一边相对置的第二边相邻的位置的第二校准标识；第一校准标识配置在从步进方向观察时与形成第二校准标识的位置不重叠的位置上。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及曝光装置用光照射装置、曝光装置、曝光方法、基板制造方法、掩模和被曝光基板，更具体而言，涉及可适用于在液晶显示器和等离子显示器等大型平板显示器的基板上曝光转写掩模的掩模图案的曝光装置中的曝光装置用光照射装置、曝光装置、曝光方法、基板制造方法、掩模和被曝光基板。
技术介绍
以往，作为用于制造平板显示器装置的滤色器等的面板的装置，已知有在基板与掩模之间设置预定间隙的状态下将曝光用光经掩模对基板照射的接近曝光装置。在接近曝光装置中的、分割逐次接近曝光装置中，在用掩模台保持比基板小的掩模，并且将基板用工作台保持以使两者接近地相对配置之后，使工作台相对于掩模步进移动以在各步从掩模侧向基板照射图案曝光用光，由此将描绘于掩模上的多个图案曝光转写到基板上，而在一个基板上制作多个面板。此外，在扫描曝光装置中，在相对于掩模设置预定间隙的状态下，经掩模对以一定速度输送的基板照射曝光用光，将掩模图案曝光转写在基板上。此外，在采用其他曝光方法的投影曝光装置中，设计出在光学积分器的射出侧设置光圈，以确定二维光源形状的构成(例如参照专利文献1)。另外，在专利文献2中公开了一种曝光装置，其送入比由掩模支架保持的图案形成用的掩模更大的曝光对象基板，并将其保持在曝光卡盘上，使该曝光卡盘相对于该掩模在沿着步进移动轴的方向上步进移动，由此使该曝光对象基板相对于该掩模分成多次地在不同的曝光位置依次定位，在已定位的各曝光位置分别进行曝光处理。此外，在专利文献3中公开了一种滤色器基板的曝光装置，其使用一个掩模来在基板上进行多个着色图案的曝光，其特征在于，具备对位构件，其在掩模和基板的每个着色图案上以不同的间隔具有多个校准标识，以进行掩模与基板的对位；多个图像获取构件， 其获取掩模的校准标识和基板的校准标识的图像以输出图像信号；图像信号处理构件，其处理上述多个图像获取构件所输出的图像信号，并检测掩模的校准标识的位置与基板的校准标识的位置之间的偏移量；以及控制构件，其根据上述图像信号处理构件的检测结果来控制上述对位构件，以使设置于掩模上的多个校准标识的位置与设置于基板上的多个校准标识的位置分别对齐。专利文献1 日本专利第3212197号公报；专利文献2 日本专利第3936546号公报；专利文献3 日本特开2007-256581号公报。但是，在接近曝光装置中，掩模和基板之间存在100 μ m左右的间隙，因此不能使曝光用光成像，由此析像度存在限度，析像度比投影光学系统低。即，在接近曝光那样的非相干光学系统的情况下，不能使用透镜来成像得到高析像度。此外，通过使用所谓的灰色调掩模或半色调掩模，并积极研究光的相位和透射率来改良曝光面的光学图像，可得到高析像度，但是，存在掩模的成本高的问题。在专利文献1记载的曝光装置中，根据掩模图案来改变光圈，并且变为最佳的NA， 但是，在接近曝光装置中，不存在NA的概念。此外，如专利文献2和专利文献3所记载那样，曝光装置一边使用校准标识等来进行基板与掩模的对位，一边进行曝光，由此抑制滤色器的形成位置偏移。这里，为了以高精度将基板与掩模进行对位，而需要在基板上形成校准标识，但是，形成校准标识的区域不能用作滤色器。因此，在形成校准标识时在基板上产生多余的区域。
技术实现思路
本专利技术是鉴于上述问题而研制成的，其第一目的是提供不使用高价的掩模也可改善析像度的曝光装置用光照射装置、接近曝光装置、接近曝光方法和基板制造方法。此外， 本专利技术的第二目的是提供可高效地制造滤色器或液晶面板的掩模、被曝光基板、曝光装置和曝光方法。本专利技术的上述目的通过以下构成实现。(1) 一种接近曝光装置，具备用于保持作为被曝光材料的基板的基板保持部；与上述基板对置地保持掩模的掩模保持部；以及照明光学系统，其具有多个光源部、积分器、 准直镜以及开闭器，该多个光源部分别包括发光部和使从该发光部发出的光带有指向性地射出的反射光学系统，该积分器被入射来自该多个光源部的光，该准直镜将从该积分器射出的光转换为大体平行光，该开闭器进行开关闭控制以使来自该光源部的光透射或被遮断；在上述基板与上述掩模之间设置有预定间隙的状态下，将来自上述照明光学系统的光经上述掩模对上述基板进行照射，其特征在于，从上述多个光源部中的至少一个光源部射出的光的主光轴经过上述积分器的偏离中心的位置而入射到上述积分器上。(2)根据(1)记载的接近曝光装置，其特征在于，上述照明光学系统具备能分别安装预定数量的上述光源部的多个暗盒(cassette)和能安装该多个暗盒的支承体，在上述各暗盒中安装上述预定数量的光源部，以使从上述预定数量的光源部射出的光的各主光轴的交点大体一致，在上述支承体上安装上述多个暗盒，以使从上述各暗盒的预定数量的光源部射出的光的各主光轴的交点处于不同的位置上。(3) 一种接近曝光装置，具备用于保持作为被曝光材料的基板的基板保持部；与上述基板相对置地保持掩模的掩模保持部；以及照明光学系统，其具有包括发光部和使从该发光部发出的光带有指向性地射出的反射光学系统的光源部、来自该光源部的光入射的积分器、将从该积分器射出的光转换为大体平行光的准直镜以及进行开闭控制以使来自该光源部的光透射或被遮断的开闭器，在上述基板与上述掩模之间设置预定间隙的状态下，将来自上述照明光学系统的光经上述掩模对上述基板照射，其特征在于，在上述光源部的出射面附近，设置有用于调整从该出射面射出光的强度的光强度调整部。(4)根据(3)记载的接近曝光装置，其特征在于，上述光强度调整部是包含上述出射面的中央部在内地进行局部遮断的光圈。(5)根据(3)或(4)记载的接近曝光装置，其特征在于，上述光源部具备分别包括上述发光部和上述反射光学系统的多个光源部，上述光强度调整部分别设置在上述多个光源部上。(6)根据(5)记载的接近曝光装置，其特征在于，上述照明光学系统具备能分别安装预定数量的上述光源部的多个暗盒和能安装该多个暗盒的支承体，上述光强度调整部是对各出射面以包含在上述暗盒内安装的上述预定数量的光源部全部的各出射面的中央部在内的方式进行局部遮断的光圈。(7) 一种接近曝光装置，具备用于保持作为被曝光材料的基板的基板保持部；与上述基板相对置地保持掩模的掩模保持部；以及照明光学系统，其具有多个光源部、积分器、准直镜以及开闭器，该多个光源部分别包括发光部和使从该发光部发出的光带有指向性地射出的反射光学系统，该积分器被入射来自该多个光源部的光，该准直镜将从该积分器射出的光转换为大体平行光，该开闭器进行开关闭控制以使来自该光源部的光透射或被遮断；在上述基板与上述掩模之间设置预定间隙的状态下，将来自上述照明光学系统的光经上述掩模对上述基板照射，其特征在于，在上述积分器的入射面，设置有用于调整向该入射面入射的光的强度的光强度调整部。(8)根据(7)记载的接近曝光装置，其特征在于，上述积分器是纵横排列有多个透镜元件的复眼积分器或棒状积分器，上述光强度调整部是包含上述各透镜元件的入射面的中央部在内地进行局部遮断的多个光圈。(9)根据⑴ ⑶中任一个记载的接近曝光装置，其特征在于，在上述光源部与上述积分器之间，设置有使来自上述光源部的光扩散的扩散透镜。(10) 一种曝光装置用光照射装置，其特征在于，具备分别包括发光部和使从该发光部发出的光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：川岛洋德，桥永宙，富樫工，松坂昌明，
申请(专利权)人：恩斯克科技有限公司，
类型：发明
国别省市：