【技术实现步骤摘要】
本技术涉及显示领域，特别是指一种接近式曝光掩膜板。
技术介绍
随着液晶显示技术的发展，大尺寸，高品质，低成本成为未来发发展方向。彩色滤光片作为 TFT-LCD (Thin Film Transistor Liquid Crystal Display,薄膜场效应晶体管液晶显示器)显示器件的主要组成部件，其品质直接决定着液晶显示器件的显示效果。目前，随着对大尺寸的追求，TFT-IXD制造不断向高世代发展。玻璃基板制作时需要的掩膜板也随之增大，掩膜板的弯曲问题越来越明显。现有技术中的接近式曝光掩膜板如图I所示，掩膜板2各个位置的图形4的形状、尺寸均相同，彩色滤光片制作中采用接近式曝光方式，掩膜板2与玻璃基板之间的距离在一百微米至数百微米以内。如图2所示，掩膜板2的弯曲将导致曝光平面倾斜，掩膜板2上的图形4将发生扭曲；同时也将造成掩膜板2上不同位置与玻璃基板I的间距不同中间部分的曝光间距G2小于边缘部分的曝光间距Gl (图2中G2 < Gl);由于曝光时受衍射角、光线平行度等因素的影响，玻璃基板I上的图形尺寸(CD)与曝光间距(Gap)密切相关，如图3所示为图形尺寸⑶与曝光间距Gap之间的对应关系，图形尺寸⑶与曝光间距成正比。因此掩膜板2弯曲将导致玻璃基板I上中间部分的图形的尺寸CD2小于边缘部分的图形尺寸⑶I (图2中⑶2 <⑶I)，影响了液晶显示面板的显示品质。
技术实现思路
本技术要解决的技术问题是提供一种接近式曝光掩膜板，能够解决因掩膜板弯曲造成的玻璃基板上图形尺寸不均一的问题，从而改善液晶显示面板的显示品质。为解决上述技术问题，本技术的实施例提供技...
【技术保护点】
一种接近式曝光掩膜板，其特征在于，从所述掩膜板的边缘到所述掩膜板的中心，所述掩膜板上图形的尺寸逐渐增大。
【技术特征摘要】
1.一种接近式曝光掩膜板，其特征在于，从所述掩膜板的边缘到所述掩膜板的中心，所述掩膜板上图形的尺寸逐渐增大。2.根据权利要求I所述的接近式曝光掩膜板，其特征在于，所述掩膜板上图形上的点在尺寸补偿后距图形的中心点的距离为L2，则L2 =Ll+ACDMask，其中ACDilask为尺寸补偿量，LI为设定图形中与该点对应的点到设定图形中心点的距离。3.根据权利要求2所述的接近式曝光掩膜板，其特征在于，X //y尺寸补偿量AeDMaSk = l+ytx(/Zo_AA)XCDMaSk°，其中，C...
【专利技术属性】
技术研发人员：黎敏，吴洪江，张继凯，王耸，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，北京京东方显示技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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