一种两张单面板同时曝光框架制造技术

技术编号:8148633 阅读:283 留言:0更新日期:2012-12-28 18:39
一种两张单面板同时曝光框架,以解决现有技术存在曝光速度慢,效率低的问题。其特征在于包括框架本体,框架本体成横向“工”字形状。本实用新型专利技术通过将两张单面板背靠背装进框架本体内,再在两个待曝光的面上贴上菲林,放入曝光机上,采用双面曝光的方式,即防止了单面操作时导致的产品皱折,也提升了曝光机50%的利用率,同时也提高了50%的生产效率。(*该技术在2022年保护过期,可自由使用*)

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及到ー种两张单面板同时曝光框架
技术介绍
现有单面板曝光方式直接在曝光机的框架上贴上线路菲林,然后放置单面产品进行曝光,采用这种方式一次只能曝光一次,曝光速度慢,效率低。
技术实现思路
本技术的目的在于提供ー种两张单面板同时曝光框架,以解决现有技术存在曝光速度慢,效率低的问题。达到本技术的目的所采取的技术方案是ー种两张单面板同时曝光框架,其 特征在于包括框架本体,框架本体成横向“エ”字形状。本技术达到的有益效果是本技术通过将两张单面板背靠背装进框架本体内,再在两个待曝光的面上贴上菲林,放入曝光机上,采用双面曝光的方式,即防止了单面操作时导致的产品皱折,也提升了曝光机50%的利用率,同时也提高了 50%的生产效率。附图说明图I :本技术的结构示意图。具体实施方式以下结合附图更详尽地说明本技术的结构特征。參照图1,一种两张单面板同时曝光框架1,其特征在于包括框架本体1,框架本体I成横向“エ”字形状。通过将两张单面板背靠背装进框架本体I内,再在两个待曝光的面上贴上菲林,放入曝光机上,采用双面曝光的方式即防止了单面操作时导致的产品皱折,也提升了曝光机50%的利用率,同时也提高了 50%的生产效率。权利要求1.ー种两张单面板同时曝光框架,其特征在于包括框架本体,框架本体成横向“エ”字形状。专利摘要一种两张单面板同时曝光框架,以解决现有技术存在曝光速度慢,效率低的问题。其特征在于包括框架本体,框架本体成横向“工”字形状。本技术通过将两张单面板背靠背装进框架本体内,再在两个待曝光的面上贴上菲林,放入曝光机上,采用双面曝光的方式,即防止了单面操作时导致的产品皱折,也提升了曝光机50%的利用率,同时也提高了50%的生产效率。文档编号G03F7/20GK202631949SQ20122020556公开日2012年12月26日 申请日期2012年5月9日 优先权日2012年5月9日专利技术者吴文一, 秦海, 李森林 申请人:深圳市嘉之宏电子有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种两张单面板同时曝光框架,其特征在于包括框架本体,框架本体成横向“工”字形状。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:吴文一秦海李森林
申请(专利权)人:深圳市嘉之宏电子有限公司
类型:实用新型
国别省市:

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