【技术实现步骤摘要】
本技术涉及显示
，特别是涉及一种在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版。
技术介绍
掩膜版作为转移微细图形的工具，用于阵列基板工艺的批量复制生产，在TFT-IXD生产中具有承上启下的关键作用，是TFT-IXD产业链中不可或缺的重要环节。生产过程中 有多少次光刻就需要多少张不同图形的掩膜版，掩膜版的数量代表了制造过程中采用的光刻工艺子流程的数目，减少掩膜版的数量和光刻的次数是提高成品率、缩短制作周期、降低能耗的关键，也是TFT技术发展的动力。但是掩膜版价格昂贵，若在掩膜版设计、制作、运输、保存等过程中有任何差错，掩膜版就无法使用，给设计者和生产者均带来了很大困扰。另外，目前掩膜版使用数量的减少，往往是从TFT-LCD阵列基板的结构和工艺简化来考虑，但忽略了从掩膜版设计本身来考虑问题。在液晶显示装置的生产过程中，需要在阵列基板和彩膜基板上制备多种对位标记，如对盒标记、取向膜标记、封框胶标记、层对位标记，以及设备对位标记等，从而实现生产过程中对基板位置的准确控制。目前，对位标记的制备是采用掩膜工艺实现的，每制备一种对位标记，都需要一张与之相对应的掩膜版，...
【技术保护点】
一种在阵列基板和/或彩膜基板上形成对位标记的掩膜版，其特征在于，包括至少两组对位标记，所述每组对位标记包括两个对位图形，所述对位图形的图案不同且设置于掩膜版相对的两侧。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李文波，孙中元，邓简，武延兵，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：实用新型
国别省市：
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