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一种两张单面板同时曝光框架，以解决现有技术存在曝光速度慢，效率低的问题。其特征在于包括框架本体，框架本体成横向“工”字形状。本实用新型通过将两张单面板背靠背装进框架本体内，再在两个待曝光的面上贴上菲林，放入曝光机上，采用双面曝光的方式，即防...
该专利属于深圳市嘉之宏电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市嘉之宏电子有限公司授权不得商用。

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