制备热解氮化硼制品的气相沉积炉及方法技术

本发明专利技术公开了一种制备热解氮化硼制品的气相沉积炉及方法，其中气相沉积炉由炉体和炉盖构成，其中炉体设于相变保护套内，在炉体与相变保护套之间填充有相变保温介质形成相变保温层。体由内至外依次为具有炉腔的石墨筒、加热器、保温隔热层和具有夹层的外壳，石墨筒上设有石墨盖，所述保温隔热层为具有中空部的夹层结构。本发明专利技术的气相沉积炉可有效抑制气相沉积炉因各种原因造成的短时升温，结构简单易于实施。并且保温效果好。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及热解氮化硼制品制备
，具体地说是一种热。
技术介绍
热解氮化硼(简称PBN)具有纯度高、无毒、耐高温、耐酸碱、耐盐及耐有机溶剂、性质稳定；在高温下与绝大多数熔融金属、半导体材料不润湿、不反应；电绝缘性能好和高温下无杂质挥发；抗热震性优异、热导性好和热膨胀系数低；电阻高、介电强度高、介电常数小、磁损耗正切低并且具有良好的透微波和红外线性能等等诸多优点。被广泛用作半导体单晶及III -V族化合物合成用的坩埚、基座；原位合成砷化镓、磷化铟、磷化镓等单晶的液封直拉法系列坩埚；分子束外延(MBE)用的系列坩埚；垂直梯度凝固法(VGF)、垂直布氏(VB)法系列坩埚；热解氮化硼/热解石墨(PBN/PG)复合加热器涂层；高温绝缘流体喷嘴；石墨 加热器绝缘涂层；金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统绝缘板；异形坩埚及异形石墨件涂层；晶片退火工艺用复合加热器等等。气相沉积炉是制备热解氮化硼制品的核心设备。为了达到热解氮化硼的高温反应条件，确保制备高纯度热解氮化硼制品，气相沉积炉内的温度会持续保持在1800 2000度。气相沉积炉的外壳为钢材料制成，钢质外壳内具有碳纤维或陶瓷等高性能本文档来自技高网...

【技术保护点】
制备热解氮化硼制品的气相沉积炉，由炉体和炉盖构成，其特征在于，其中炉体设于相变保护套内，在炉体与相变保护套之间填充有相变保温介质形成相变保温层。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何军舫，王军勇，
申请(专利权)人：北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司，
类型：发明
国别省市：