一种多功能组合式化学气相沉积系统装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种多功能组合式化学气相沉积系统装置，包括主体炉，所述主体炉包括带有导轨的支架，所述支架上设有可沿导轨滑动的高温管式炉，所述高温管式炉中的炉腔内设有穿透高温管式炉炉壁设置的炉管，该炉管两端固定在支架上，所述高温管式炉一侧设有冷却风扇；所述主体炉外可单独或组合加设连接在炉管上的真空泵、等离子发生器、密封法兰装置及强制制冷器。本实用新型专利技术结构简单、组合方便，滑动式的加热冷却模块设计有效的实现了其快热快冷的功能需求，另外通过与等离子发生器等功能模块的组装配合使用，基本完成以上所有的CVD实验功能，极大的满足了所有材料实验室的材料制备方案。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种化学气相沉积(CVD)装置，具体涉及一种具有多种组合状态，可快速实现物体冷却及加热的滑动式化学气相沉积系统装置。
技术介绍
CVD(化学气相沉积)是材料实验室研究薄膜技术的必备方法。通过薄膜研究至今，主要的CVD制备方式有低压CVD (LPCVD)，常压CVD (APCVD)，亚常压CVD(SACVD)，超高真空CVD (UHCVD)，等离子体增强CVD (PECVD)，高密度等离子体CVD (HDPCVD)以及快热CVD(RTCVD)这几种。由于材料实验室的研究方式的不确定性，所以上述的几种设备都有被 使用到的可能，不仅资金消耗巨大，而且维护起来也比较不方便。
技术实现思路
本技术的目的在于克服上述现有技术的不足，提供一种多功能组合式化学气相沉积系统装置。一种多功能组合式化学气相沉积系统装置，包括主体炉，所述主体炉包括带有导轨的支架，所述支架上设有可沿导轨滑动的高温管式炉，所述高温管式炉中的炉腔内设有穿透高温管式炉炉壁设置的炉管，该炉管两端固定在支架上，所述高温管式炉一侧设有冷却风扇；所述主体炉外可单独或组合加设连接在炉管上的真空泵、等离子发生器、密封法兰装置及强制制冷器。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种多功能组合式化学气相沉积系统装置，其特征在于：包括主体炉，所述主体炉包括带有导轨的支架，所述支架上设有可沿导轨滑动的高温管式炉，所述高温管式炉中的炉腔内设有穿透高温管式炉炉壁设置的炉管，该炉管两端固定在支架上，所述高温管式炉一侧设有冷却风扇；所述主体炉外可单独或组合加设连接在炉管上的真空泵、等离子发生器、密封法兰装置及强制制冷器。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：邾根祥，王伟，
申请(专利权)人：合肥科晶材料技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：