一种PECVD的沉积装置及其沉积槽用锁紧装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供了一种PECVD的沉积槽用锁紧装置，用于将沉积槽固定于托架上，该锁紧装置包括：第一锁件；和用于贯穿沉积槽的侧壁的第二锁件，第二锁件包括用于与托架固定相连的固定端和用于外伸于沉积槽的自由端，第二锁件的自由端开设有用于夹住第一锁件的紧固槽。本实用新型专利技术提供的PECVD的沉积槽用锁紧装置，拆卸和安装沉积槽的过程较简单、快捷，与现有技术将多个螺丝和螺母拆除和安装相比，减少了工作人员的工作量，进而减少了拆卸和安装沉积槽所需的时间，提高了工作效率。本实用新型专利技术还提供了一种具有上述PECVD的沉积槽用锁紧装置的PECVD的沉积装置。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及光伏电池生产设备
，更具体地说，涉及一种PECVD的沉积装置及其沉积槽用锁紧装置。技术背景 光伏电池生产过程中，需要在光伏电池的半成品电池即硅片的表面镀上一层减反射膜。目前，采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD, Plasma Enhanced Chemical VaporDeposition)的方法在娃电池片表面形成减反射膜。链式上镀膜PECVD的反应腔室中，将硅电池片放置在沉积槽内，氢化硅和氨气在等离子状态下，在硅电池片的表面形成氮化硅膜。在硅电池片表面镀膜的过程中，氮化硅不可避免的会沉积到沉积槽表面，在沉积槽表面形成氮化硅粉末。当沉积槽上的氮化硅粉末沉积的较多时，较易脱离沉积槽并掉落到硅电池片表面，严重影响了镀膜的质量，最终降低了硅电池片将光能转换为电能的转换效率。所以氮化硅粉末沉积的较多时，需要将沉积槽拆卸下来，对沉积槽进行清洗或者更换新的沉积槽。沉积槽固定在反应腔室内壁上，一般反应腔室内壁上设置有用于支撑沉积槽的托架，然后通过多个螺丝和多个螺母将沉积槽固定在托架上。需要清洗或者更换新的沉积槽时，要将沉积槽拆卸下来，然后再安装上。在拆卸或者安装沉积槽本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种PECVD的沉积槽用锁紧装置，用于将所述沉积槽(7)固定于托架(2)上，其特征在于，包括：第一锁件(6)；和用于贯穿所述沉积槽(7)的侧壁的第二锁件(4)，所述第二锁件(4)包括用于与所述托架(2)固定相连的固定端和用于外伸于所述沉积槽(7)的自由端，所述第二锁件(4)的自由端开设有用于夹住所述第一锁件(6)的紧固槽(41)。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：孙双庆，杜颖涛，李江超，
申请(专利权)人：英利能源中国有限公司，
类型：实用新型
国别省市：