用于金属化合物的清洁溶剂和清洁方法技术

公开了用于在光伏工业或半导体工业中向生产设备供应有机金属化合物的设备上所沉积的金属化合物的清洁溶剂和清洁方法。所公开的清洁溶剂和清洁方法不仅在不腐蚀该设备的情况下选择性移除所述金属化合物，而且改善了常规清洁方法。此外，所公开的清洁溶剂和清洁方法改善了供应系统的维护成本，这是因为该设备可在不从供应系统中拆卸的情况下清洁。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】相关申请的交叉引用本申请要求2010年6月17日提交的美国非临时申请12/817，777的权益，该非临时申请要求2010年3月3日提交的美国临时申请61/310，134的权益，其全部内容以引用方式并入本文。
技术介绍
有机金属化合物用作多种目的的材料，如作为用于制造光伏电池和平板显示器的透明导电氧化物。许多有机金属化合物如二乙基锌(DEZn)容易分解且在分解时产生金属化合物。在DEZn的情况下，分解产生固体Zn和乙烷/乙烯，乙烷/乙烯因其与DEZn之间的蒸气压差而倾向于积聚在蒸气区中并使储存容器中的压力增大。在将有机金属化合物供应至生产设备期间，所述金属化合物逐渐沉积在储槽、供应设备零件和注入管中。由于金属化合物不仅污染生产工艺，而且造成供应系统中所用的零件堵塞，因此这成为一个问题。图I为向生产设备400供应有机金属化合物211的典型系统的图。为了向生产设备400供应有机金属化合物211，将载气250经由载气进入管251、载气进入阀252和分布器253引入起泡器210中，随后使载气250分散于起泡器210中的有机金属化合物211中。引入起泡器210中的载气250被有机金属化合物211饱和且本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2010.03.03 US 61/310,134;2010.06.17 US 12/817,7771.一种清洁光伏或半导体工业中所用的设备零件的方法，所述方法包括使被金属化合物污染的所述设备零件表面与包含如下组分的清洁溶剂接触 选自乙腈、丙酮和四氢呋喃的稀释剂； 包含胺类化合物的促进剂； 具有式R1-C0-CH-R2-C0-R3的二酮化合物，其中Rl和R3独立地选自烷基和被氧取代的烷基，其中R2选自氢、烷基和被氧取代的烷基，所述二酮化合物能与所述金属化合物形成￠-二酮合物配合物，其中所述清洁溶剂不含水或超临界CO2 ;和移除所述清洁溶剂，从而从所述设备零件的表面移除所述金属化合物，其中所述金属化合物选自Al、Ga、In、Sn、Zn、Cd、其金属氧化物及其混合物。2.如权利要求I的方法，其中所述清洁溶剂包含 约3-约5体积％的三乙胺； 约3-约5体积％的乙酰丙酮；和 构成所述清洁溶剂余量的乙腈。3.如权利要求2的方法，其中所述金属化合物为Zn和ZnO。4.如权利要求2的方法，进...

【专利技术属性】
技术研发人员：坂田洋一，
申请(专利权)人：乔治洛德方法研究和开发液化空气有限公司，
类型：发明
国别省市：