制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉制造技术

本实用新型专利技术公开了一种制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉，由炉体和炉盖构成，其中炉体底部设有第一原料气体进入的第一进气口，炉体侧壁设有第二原料气体进入的第二进气口。使用本实用新型专利技术所得的产品质地均匀，可有效提高产品的质量及合格率。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及制备热解氮化硼制品的设备的
，具体地说是一种制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉。
技术介绍
热解氮化硼(简称PBN)具有纯度高、无毒、耐高温、耐酸碱、耐盐及耐有机溶剂、性质稳定；在高温下与绝大多数熔融金属、半导体材料不润湿、不反应；电绝缘性能好和高温下无杂质挥发；抗热震性优异、热导性好和热膨胀系数低；电阻高、介电强度高、介电常数小、磁损耗正切低并且具有良好的透微波和红外线性能等等诸多优点。被广泛用作半导体单晶及III -V族化合物合成用的坩埚、基座；原位合成砷化镓、磷化铟、磷化镓等单晶的液封直拉法系列坩埚；分子束外延(MBE)用的系列坩埚；垂直梯度凝固法(VGF)、垂直布氏(VB)法系列坩埚；热解氮化硼/热解石墨(PBN/PG)复合加热器涂层；高温绝缘流体喷嘴；石墨加热器绝缘涂层；金属有机化学气相沉积(MOCVD)系统绝缘板；异形坩埚及异形石墨件涂层；晶片退火工艺用复合加热器等等。气相沉积炉是制备热解氮化硼制品的核心设备。制备高质量的热解氮化硼制品的关键在于高温反应后生成的热解氮化硼均匀地沉积在模具表面，从而得到质地均匀的热解氮化硼制品。现有的气相沉积炉的进气口设置于沉积腔的底部，且进气口为环套形进气口，即两种原料气体分别从进气口的内环和外环进入。这样的设置使原料气体已进入沉积腔即混合发生反应，这就导致模具表面与进气口的距离相差较大时，反应生成的热解氮化硼不能均匀地沉积在模具表面。靠近进气口的位置的沉积厚度会大于远离进气口的位置。这将严重影响产品的质量及合格率。有鉴于上述现有的气相沉积炉存在的诸多问题，本技术的设计人依靠多年的工作经验和丰富的专业知识积极加以研究和创新，最终研发出一种制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉，可有效提高产品的质量及合格率。
技术实现思路
为了解决现有技术中存在的上述问题，本技术提供了一种制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉，所得产品质地均匀，可有效提高产品的质量及合格率。为了解决上述技术问题，本技术采用了如下技术方案制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉，由炉体和炉盖构成，其中炉体底部设有第一原料气体进入的第一进气口，炉体侧壁设有第二原料气体进入的第二进气口。进一步，所述第一进气口和第二进气口的个数均至少为一个。进一步，所述炉体由内至外依次为具有沉积腔的石墨筒、加热器、保温隔热层和具有夹层的外壳，石墨筒上设有石墨盖。进一步，所述保温隔热层为碳纤维或陶瓷材料制成。进一步，所述炉盖由外层的钢质壳体和内层的保温隔热层构成。与现有技术相比，本技术的有益效果在于本技术的制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉通过在炉体的底部和侧壁分别设置进不同原料气体的第一进气口和第二进气口。这样两种不同的原料气体分别从底部和侧壁进入，使其在沉积腔的中部混合反应。从而使生成的热解氮化硼均匀的分布在模具表面。所得产品的质地更加均匀。提高了产品的合格率和质量。附图说明图I为本技术的制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉的剖面结构示意图。具体实施方式以下结合附图和具体实施例对本技术作进一步详细描述，但不作为对本技术的限定。图I为本技术的制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉的结构剖图。如图I所示，制备热解氮化硼制品用的具有相变保温层的气相沉积炉，由炉体和炉盖构成，炉体由内至外依次为具有沉积腔101的石墨筒I、加热器2、碳纤维或陶瓷材料制成的保温隔热层3和具有夹层的外壳4。炉体底部设有第一原料气体进入的第一进气口 5，炉体侧壁设有第二原料气体进入的第二进气口 6。第一进气口 5和第二进气口 6的个数均至少为一个，优选第一进气口 5和第二进气口 6的个数为多个。多个第二进气口 6在炉体的侧壁上沿周向和轴向分布。外壳4内的夹层中通入循环冷却水进行降温。外壳4上具有循环冷却水出、入口(图中未示出)。炉盖由外层的钢质壳体7和内层的由碳纤维或陶瓷制成的保温隔热层8构成。同样，外层的钢质壳体7也为夹层结构，夹层内入循环冷却水进行降温。其上设有循环冷却水出、入口(图中未示出)。石墨筒I上设有石墨盖9。炉盖上具有出气口 10。图中未示出的气相沉积炉应有的其他部件在现有技术中均可得知，在此不在赘述。本技术的制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉在使用时，两种原料气体BCl3和NH3分别从底部和侧壁进入沉积腔内，使两种气体在沉积腔中部混合反应。从而使生成的热解氮化硼均匀地沉积在模具表面，提高了合格率和产品质量。以上实施例仅为本技术的示例性实施例，不用于限制本技术，本技术的保护范围由权利要求书限定。本领域技术人员可以在本技术的实质和保护范围内，对本技术做出各种修改或等同替换，这种修改或等同替换也应视为落在本技术的保护范围内。权利要求1.制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉，由炉体和炉盖构成，其特征在于，其中炉体底部设有第一原料气体进入的第一进气口，炉体侧壁设有第二原料气体进入的第二进气口。2.根据权利要求I所述的制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉，其特征在于，所述第一进气口和第二进气口的个数均至少为一个。3.根据权利要求I所述的制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉，其特征在于，所述炉体由内至外依次为具有沉积腔的石墨筒、加热器、保温隔热层和具有夹层的外壳，石墨筒上设有石墨盖。4.根据权利要求3所述的制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉，其特征在于，所述保温隔热层为碳纤维或陶瓷材料制成。5.根据权利要求I所述的制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉，其特征在于，所述炉盖由外层的钢质壳体和内层的保温隔热层构成。专利摘要本技术公开了一种制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉，由炉体和炉盖构成，其中炉体底部设有第一原料气体进入的第一进气口，炉体侧壁设有第二原料气体进入的第二进气口。使用本技术所得的产品质地均匀，可有效提高产品的质量及合格率。文档编号C23C16/44GK202786419SQ20122042902公开日2013年3月13日 申请日期2012年8月27日 优先权日2012年8月27日专利技术者何军舫, 王军勇 申请人:北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】
制备热解氮化硼制品用的有分离式进气口的气相沉积炉，由炉体和炉盖构成，其特征在于，其中炉体底部设有第一原料气体进入的第一进气口，炉体侧壁设有第二原料气体进入的第二进气口。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：何军舫，王军勇，
申请(专利权)人：北京博宇半导体工艺器皿技术有限公司，
类型：实用新型
国别省市：