【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及输送气体的喷淋装置，尤其涉及MOCVD反应器的喷淋头，包括流通III族气体的III族腔、流通V族气体的V族腔以及流通冷却水的冷却水腔。
技术介绍
MOCVD 是金属有机化学气相沉积(Metal-organic Chemical Vapor Deposition)的英文缩写，为一种非平衡态生长技术，它依赖于先驱物的蒸汽运输和加热区中III族烷基类和V族氢化物的后续反应，将生长气体和掺杂物提供给反应器并将其沉积在衬底表面。·MOCVD反应器中使用的常规喷淋头，诸如Thomas Swan Scientific EquipmentLimited所提供的，具有三腔的“三明治”结构，III族气体经配流管道、III族腔流入反应腔体，V族气体经V族腔流入反应腔体，最下面一层是冷却水腔。随着LED产业的迅速发展，竞争的加剧，市场非常迫切地提出高产量MOCVD的需求；M0CVD的核心部分是反应器，扩大反应器的直径是提高产量的快速而又有效的方法。如果单纯地扩大常规喷淋头的直径，将会碰到下列几个问题第一、喷淋头加工、制造难度急剧增大，并且会伴随着良率的下降；第二、喷淋头的...
【技术保护点】
大直径MOCVD反应器的喷淋头，包括III族腔、V族腔以及冷却水腔，其特征在于，III族腔、V族腔以及冷却水腔均分隔为N个腔体，N是大于等于2的自然数，每腔体均为一单体。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：徐小明，周永君，邬建伟，丁云鑫，
申请(专利权)人：杭州士兰明芯科技有限公司，
类型：发明
国别省市：
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