电浆蚀刻装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种蚀刻装置，对于大型的基板亦能均匀地蚀刻其整个表面，且不会产生蚀刻形状的恶化。蚀刻装置（１）包括：具有电浆生成空间（９）及处理空间（６）的腔室（２）；配设在与电浆生成空间（９）对应的部分的外方的线圈（１６）；设置于处理空间（６）中的基板Ｋ载置用的基台（１０）；对电浆生成空间（９）供给处理气体的处理气体供给机构（１９）；对线圈（１６）供给高频电力的高频电力供给机构（１７）；及对基台（１０）供给高频电力的基台电力供给机构（１３）。由接地的导电性材料所构成的圆筒状的电浆密度调整构件（２０）固设在电浆生成空间（９）与基台（１０）之间的腔室（２）内壁上。电浆在通过电浆密度调整构件（２０）时其平面内密度得以平准化，并被导引致基板（Ｋ）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术是关于一种能使蚀刻气体电浆化来蚀刻例如硅基板或玻璃基板等的基板表面的电浆蚀刻装置。
技术介绍
先前，作为电浆蚀刻硅基板的装置，已知于日本专利特开2006-80504号公报(先前技术1)及日本专利特开2006-60089号公报(先前技术2)中所揭示的装置。如图6所示，上述先前例1的电浆蚀刻装置101包括圆筒状的腔室102，其上侧设定有电浆生成空间109，其下侧设定有处理空间110 ；线圈103，其在与电浆生成空间109 对应的腔室102的外方以缠绕于其上的方式而配设；对线圈103供给高频电力的高频电力供给机构104 ；对电浆生成空间109供给蚀刻气体的蚀刻气体供给机构105 ；配设于处理空间110中的基板载置用的基台106 ；对基台106供给高频电力的高频电力供给机构107 ；及对腔室102内的气体进行排气的排气机构108。于该电浆蚀刻装置101中，因对上述线圈103施加高频电力而在电浆生成空间109 中产生感应电场，供给至该电浆生成空间109中的蚀刻气体会因该感应电场而电浆化，从而基台106上的基板K凭借所生成的电浆而被蚀刻。此外，如图7所示，上述先前例2的电浆蚀刻装置2本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种电浆蚀刻装置，其特征在于，包括：非导电性的腔室，该腔室包含圆筒状的主体部、闭塞该主体部的上部的顶板、及闭塞该主体部的底部的底板，且具有设定于该主体部内的上部区域中的电浆生成空间、及设定于该电浆生成空间下方的处理空间；线圈，其是在上述腔室的与上述电浆生成空间对应的部分的外方以缠绕于其上的方式而配设；基台，其配设于上述腔室内的处理空间中，载置作为处理对象的基板；处理气体供给机构，其对上述腔室内的电浆生成空间供给处理气体；线圈电力供给机构，其对上述线圈供给高频电力；基台电力供给机构，其对上述基台供给高频电力；及电浆密度调整构件，其包含上部及下部形成有开口的圆筒状的构件，且其上端部固设在上述电...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：山本孝，
申请(专利权)人：住友精密工业股份有限公司，
类型：发明
国别省市：JP