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本发明提供一种蚀刻装置，对于大型的基板亦能均匀地蚀刻其整个表面，且不会产生蚀刻形状的恶化。蚀刻装置（１）包括：具有电浆生成空间（９）及处理空间（６）的腔室（２）；配设在与电浆生成空间（９）对应的部分的外方的线圈（１６）；设置于处理空间（６）...
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