本发明的液压装置至少包括一对螺旋齿轮(20、23)、收纳这一对螺旋齿轮(20、23)的主体(3)、支持各齿轮(20、23)的旋转轴(21、24)的轴承部件(40、44)、及呈液密状固定设置在主体的两端面的盖板(7、8、11)。在与受到相...

本实用新型的液压装置包括一对螺旋齿轮(20、23)、收纳这一对螺旋齿轮的主体(3)、支持各齿轮(20、23)的旋转轴(21、24)的轴衬(40、45)、配设在各齿轮(20、23)与轴衬(40、45)之间的侧板(30、33)、介装在轴衬(...

本发明的液压装置包含：一对齿轮(20)，齿部相互咬合；外壳，具有以咬合状态收纳该一对齿轮(20)的液压室；及轴衬，以分别抵接于所述各齿轮的两端面的状态被收纳在外壳的液压室内；且在所述各齿轮的端面的边缘，至少对齿顶与齿底之间的中间部位实施...

金属充填装置1是在形成于半导体芯片K表面的微小空间内充填溶融金属M的装置。此金属充填装置1包含具有将半导体芯片K保持住的处理室5的处理室本体2，溶融金属供给机构5与溶融金属回收机构20。溶融金属供给机构10包含储存溶融金属M的供给用桶槽...

本发明公开一种金属充填装置，不仅可将在处理后的被处理物上所形成的剩余金属层的厚度缩减到最小限度，亦可在被处理物上所形成的开口般的微小空间(贯通孔)内充填熔融金属。金属充填装置1包括保持半导体芯片的保持台H、与保持台H成对向设置的活塞P、...

本实用新型提供一种内啮合齿轮泵，其即便基本性设计条件相同亦可进一步提高其最高喷出量，所述内啮合齿轮泵（1）具备：箱体（2），在内部形成有收纳室（4），且包含本体（3）、罩体（10）及后罩（17）；外啮合齿轮（20）及内啮合齿轮（30），...

本实用新型提供一种内啮合齿轮泵，所述内啮合齿轮泵（1）具备：箱体（2），内部形成有收纳室（4）；外啮合齿轮（20）及内啮合齿轮（30），在各两端面抵接于收纳室（4）的内壁面的状态下收纳于该收纳室（4）内；以及旋转轴（25），贯通箱体（2...

本发明提供一种不使用碱性水溶液即可有效地去除吸附在具有阴离子吸附作用的吸附材上的氯化物离子的螯合材料再生方法、及具有螯合材料再生功能的基板处理装置。基板处理装置包括贮存蚀刻液L的贮存槽、进行蚀刻处理的基板处理机构、及蚀刻液再生装置等，蚀...

本发明提供一种蚀刻装置，对于大型的基板亦能均匀地蚀刻其整个表面，且不会产生蚀刻形状的恶化。蚀刻装置（１）包括：具有电浆生成空间（９）及处理空间（６）的腔室（２）；配设在与电浆生成空间（９）对应的部分的外方的线圈（１６）；设置于处理空间（...

本发明提供一种无论基板的种类如何，均可均一地对基板的整个面进行蚀刻的电浆蚀刻装置。电浆蚀刻装置（１）包括：处理腔室（１１），上腔室（１２）的外径形成得小于下腔室（１３）的外径，且上腔室（１２）设置于该下腔室（１３）的上表面中央部；接地的...

本发明提供一种生产的前置时间短且可实现小型化的蚀刻装置。本发明的蚀刻装置沿搬送方向依序配设有：搬送基板K的搬送装置2；第1蚀刻部10，其将蚀刻液供给至基板K上以对金属膜进行蚀刻；对金属膜蚀刻后的基板K进行清洗的第1清洗部15；使清洗后的...