【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种硅类化工产品,特别是一种硅化镁制备硅烷方法工艺技术,适合于化工合成硅烷。
技术介绍
目前,微电子技术是现代信息技术和军事技术的主要基石,是推动科技进步、产业发展、经济腾飞和社会前进的关键因素之一。集成电路是微电子技术的核心,其发展水平和产业规模已成为衡量一个国家经济实力的重要标志。电子特种气体(如硅烷),尤其是高纯电子气体作为电子化工材料这一新门类,是制约集成电路可靠性和成品率的重要因素。随着电子信息技术的飞速发展,集成度越来越高,对基础原材料(如硅烷)的纯度要求已经提高到了 6N级(99. 9999% ),甚至7N以上,因此制备高纯电子特种气体技术更显得迫在眉睫。而有能力生产6N级以上高纯电子气体的只有少数国家,而高纯气体在电子产品、航空航天、高效太阳能电池、军事工业方面有着广泛的应用,硅烷的制备技术尚未完善,制作方法工艺复杂,较难掌握,生产的产品尚不能全面满足相关电子产品的需要,质量差,问题多, 只能用于制造低规格的产品,因此,给用户带来了较大的麻烦,这种状况严重地制约了电子技术的发展。
技术实现思路
本专利技术所要解决的问题在于,克服现有技术 ...
【技术保护点】
1.一种硅化镁制备硅烷方法工艺技术,其特征在于:制备硅烷方法工艺为:原料准备系统→硅烷气体制备系统、→分子筛吸附提纯硅烷液化、汽化系统。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:李中元,
申请(专利权)人:天津市泰亨气体有限公司,
类型:发明
国别省市:12
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