IL-8受体拮抗剂制造技术

本发明专利技术涉及新的式（Ｉ）化合物及其组合物，它可用于治疗趋化因子白介素－８（ＩＬ－８）介导的疾病。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

【技术保护点】
式（Ⅰ）化合物：＊＊＊ （Ⅰ）其中Ｒ选自氰基，ＯＲ↓［１１］，Ｃ（Ｏ）ＮＲ↓［１５］Ｒ↓［１６］，Ｒ↓［１８］，Ｃ（Ｏ）ＯＲ↓［１１］，Ｃ（Ｏ）Ｒ↓［１１］和Ｓ（Ｏ）↓［２］Ｒ↓［１７］；Ｒ′Ｒ″独立地选自氢，ＮＲ↓［６］Ｒ ↓［７］，ＯＨ，ＯＲａ，Ｃ↓［１－５］烷基，芳基，芳基Ｃ↓［１－４］烷基，芳基Ｃ↓［２－４］链烯基，环烷基，环烷基Ｃ↓［１－５］烷基，杂芳基，杂芳基Ｃ↓［１－４］烷基，杂芳基Ｃ↓［２－４］链烯基，杂环基，杂环基Ｃ↓［１－４］烷基和杂环基Ｃ↓［２－４］链烯基基团，所有这些基团都是未取代的或独立地由取代基取代１－３次的，所述取代基选自卤素，硝基，卤素取代的Ｃ↓［１－４］烷基，Ｃ↓［１－４］烷基，氨基，一和二－Ｃ↓［１－４］烷基取代的胺，ＯＲ↓［ａ］，Ｃ（Ｏ）Ｒ↓［ａ］，ＮＲ↓［ａ］Ｃ（Ｏ）ＯＲ↓［ａ］，ＯＣ（Ｏ）ＮＲ↓［６］Ｒ↓［７］，羟基，ＮＲ↓［９］Ｃ（Ｏ）Ｒ↓［ａ］，Ｓ（Ｏ）↓［ｍ′］Ｒ↓［ａ］，Ｃ（Ｏ）ＮＲ↓［６］Ｒ↓［７］，Ｃ（Ｏ）ＯＨ，Ｃ（Ｏ）ＯＲ↓［ａ］，Ｓ（Ｏ）↓［ｔ］ＮＲ↓［６］Ｒ↓［７］和ＮＨＳ（Ｏ）↓［ｔ］Ｒ↓［ａ］；或者两个Ｒ↓［ｂ］取代基连接起来形成３－１０元未取代的或取代的并且除了包含未取代的或取代的Ｃ↓［１－４］烷基外，独立地包含１－３个ＮＲａ，Ｏ，Ｓ，ＳＯ和ＳＯ↓［２］基团的不饱和或饱和环。Ｒ′″是Ｙ，选自氢，卤素 ，硝基，氰基，卤素取代的Ｃ↓［１－１０］烷基，Ｃ↓［１－１０］烷基，Ｃ↓［２－１０］链烯基，Ｃ↓［１－１０］烷氧基，卤素取代的Ｃ↓［１－１０］烷氧基，叠氮化物，（ＣＲ↓［８］Ｒ↓［８］）↓［ｑ］Ｓ（Ｏ）↓［ｔ］Ｒ↓［ａ］，（ＣＲ↓［８］Ｒ↓［８］）↓［ｑ］ＯＲ↓［ａ］，羟基，羟基取代的Ｃ↓［１－４］烷基，芳基，芳基Ｃ↓［１－４］烷基，芳氧基，芳基Ｃ↓［１－４］烷氧基，芳基Ｃ↓［２－１０］链烯基，杂芳基，杂芳基烷基，杂芳基Ｃ↓［１－４］烷氧基，杂芳基Ｃ↓［２－１０］链烯基，杂环基，杂环基Ｃ↓［１－４］烷基，杂环基Ｃ↓［２－１０］链烯基，（ＣＲ↓［８］Ｒ↓［８］）↓［ｑ］ＮＲ↓［４］Ｒ↓［５］，Ｃ↓［２－１０］链烯基Ｃ（Ｏ）ＮＲ↓［４］Ｒ↓［５］，（ＣＲ↓［８］Ｒ↓［８］）↓［ｑ］Ｃ（Ｏ）ＮＲ↓［４］Ｒ↓［５］，（ＣＲ↓［８］Ｒ↓［８］）↓［ｑ］Ｃ（Ｏ）ＮＲ↓［４］Ｒ↓［１０］，Ｓ（Ｏ）↓［３］Ｒ↓［８］，（ＣＲ↓［８］Ｒ↓［８］）↓［ｑ...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：迈克尔R帕洛维克，凯瑟琳L威多森，聂红，
申请(专利权)人：史密丝克莱恩比彻姆公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]