【技术实现步骤摘要】
本专利技术是关于一种半导体装置及其制法,特别是关于一种封装多个芯片作为存储卡的半导体装置及其制法以及用于该半导体装置的载件。
技术介绍
现有多芯片模块存储卡(MMC)如第6,040,622号美国专利所揭示,请参照图1A,该多芯片模块存储卡1是由一封装件10嵌设于盖体11中构成的,该封装件10的基板100底面的电性连接垫(Conductive Pads或Gold Fingers)101外露于大气中,同时,该多芯片模块存储卡1具有导角13(Chamfer),用于使用方向的识别。再参照图1B,该嵌设于基板11中的封装件10包括基板100;多个被动元件(Passive Components)102,接置于基板100上预定位置;闪存芯片(Flash Memory Chip)103与控制芯片(Controller Chip)104;多条金线105与106,电性连接该闪存芯片103与控制芯片104;以及胶体107,形成于该基板100上,包覆该被动元件102、闪存芯片103、控制芯片104及金线105、106。为避免模压作业(Molding)进行时,形成胶体107用的树脂化合物(Resin Compound)会溢胶(Flash)至基板100的底面100a上的电性连接垫101,目前通用的方式是令形成于该基板100上的胶体107,仅覆盖住基板100的顶面100b的内部分110(Inner Portion),使该基板100的顶面100b环绕该内部分的外部分120(Outer Portion)外露出胶体107。因而,在进行模压作业时,该外部分120能被模具12有效地夹固(Cl ...
【技术保护点】
一种半导体装置,其特征在于,该装置包括:具有导角的盖体;以及供该盖体盖接其上的封装件,该封装件包括:具有斜边的基板;接置在该基板上的至少一个被动元件与至少一个芯片,且该芯片是借由多个导电元件电性连接到该基板;以及包覆该至少一个被动元件、至少一个芯片及导电元件的胶体,该胶体形成有对应于该基板斜边的截角,使该基板斜边与胶体的截角间形成外露出该胶体的外露部,除了该外露部外,该基板的表面均被胶体所覆盖。
【技术特征摘要】
1.一种半导体装置,其特征在于,该装置包括具有导角的盖体;以及供该盖体盖接其上的封装件,该封装件包括具有斜边的基板;接置在该基板上的至少一个被动元件与至少一个芯片,且该芯片是借由多个导电元件电性连接到该基板;以及包覆该至少一个被动元件、至少一个芯片及导电元件的胶体,该胶体形成有对应于该基板斜边的截角,使该基板斜边与胶体的截角间形成外露出该胶体的外露部,除了该外露部外,该基板的表面均被胶体所覆盖。2.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,该盖体盖接到基板上后,该基板的斜边接合在该盖体的导角。3.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,该胶体的侧边与基板的侧边齐平,形成共平面的关系。4.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,该胶体的侧边是从基板的侧边由外朝内倾斜,使胶体的截面呈楔形的形状。5.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,该基板的斜边是直线边、具有至少一个转折点的线性边、弧形边及具有至少一个转折点的弧形边中的一种。6.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,该基板的斜边与基板的侧边是用不同程序形成的。7.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,该基板的斜边须对应该盖体导角的形状。8.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,该导电元件是焊线。9.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,该基板外露出该半导体装置的表面上形成有多个电性连接垫,使该半导体装置与外界装置形成电性连接关系。10.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,该至少一个芯片是大尺寸的存储芯片、控制芯片与存储芯片的组合或二个存储芯片组合中的一种。11.一种半导体装置的制法,其特征在于,该制法包括下列步骤制备具有至少一个开孔的载件,该载件上包括至少一个预定成型的基板,并且该基板与该至少一个开孔上形成的一斜边形成切接关系;在该载件的预定成型是基板的区域上粘置至少一个被动元件与至少一个芯片;电性连接该芯片与该载件;进行模压作业,在该载件上形成包覆该至少一个被动元件与至少一个芯片的胶体,除对应于该载件开孔斜边的部位外,形成胶体的侧边须至少不小于载件上预定成型基板的侧边;成形后的胶体对应于该载件上开孔的斜边处具有一截角,使该胶体的截角与开孔的斜边间形成有一预定的距离;沿该载件上预定成型的基板的侧边进行直线切割,形成以基板为承载件且尺寸与基板面积相同的封装件,其中,该基板与开孔的斜边所切接的部分即形成基板的斜边,且该基板的斜边与胶体的截角间的未被胶体覆盖的部分成为该基板的外露部;以及将具有导角的盖体盖接在该封装件上,从而形成该半导体装置,且该盖体与封装件组接完成后,该封装件基板的斜边接合到该盖体的导角。12.如权利要求11所述的制法,其特征在于,该开孔是以冲压方式或回切方式形成的。13.如权利要求11所述的制法,其特征在于,该开孔的形状是直角三角形、钝角三角形、锐角三角形或等边三角形中的一种,且...
【专利技术属性】
技术研发人员:蔡云隆,蔡育杰,陈建志,黄建屏,
申请(专利权)人:矽品精密工业股份有限公司,
类型:发明
国别省市:71[中国|台湾]
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