The present invention provides a method for manufacturing a semiconductor device, the semiconductor device manufacturing method includes: preparation, preparation of semiconductor wafer with a circuit forming the main surface; attaching process, the semiconductor wafer is adhered to the adhesive layer; the first step segmentation, segmentation of the semiconductor chip state along the cutting area of the attached to the adhesive layer the obtained a plurality of semiconductor chips; sealing process, the main surface of a semiconductor chip is attached to the adhesive layer under the condition of a plurality of semiconductor chips with sealing material layer, containing resin composition for sealing semiconductor sealing is formed on the side of the back of the gap between the semiconductor chip and semiconductor chip on the second; and through the segmentation process, the sealing material layer is formed in the gap between the side surface of the semiconductor chip segmentation, and get on the side And a plurality of semiconductor chips formed with a sealing material layer on the back surface.
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】半导体装置的制造方法和半导体装置
本专利技术涉及一种半导体装置的制造方法和半导体装置。
技术介绍
在目前的半导体装置的制造工艺中,利用密封树脂将单片化的半导体芯片个别地进行密封。作为这种技术,例如有专利文献1所记载的技术。在该文献中,记载了利用筒夹拾取半导体芯片并安装在基板后,使用半导体密封用环氧树脂并利用传递模塑法将半导体芯片个别地密封(专利文献1)。专利文献2中记载了从半导体晶片将芯片单片化的技术。具体而言,通过半切割,在半导体晶片的主面形成槽。通过对背面进行研磨,将包含半导体的芯片单片化。单片化的芯片在表面露出基底半导体的状态下被拾取后进行芯片焊接。现有技术文献专利文献专利文献1:日本特开平9-107046号公报专利文献2:日本特开2011-210927号公报
技术实现思路
专利技术所要解决的课题然而,在上述文献记载的半导体封装体的制造工艺中,由于将各半导体芯片个别地进行密封,在生产率方面具有改善的余地。并且,专利技术人进行研究后得知,当利用筒夹拾取芯片时,会产生芯片破裂(碎裂)。即上述文献所记载的技术在可靠性方面具有改善的余地。用于解决课题的方法本专利技术人进一步研究后发现,当拾取半导体芯片时,通过保护半导体芯片的表面能够抑制碎裂。根据这种见解进而深入研究后发现,通过将多个半导体芯片一起密封并且对相邻芯片之间进行分割,能够获得侧面和背面(与电路形成面相反的一侧)被密封材料层覆盖的半导体芯片。而且,发现对该半导体芯片进行操作时的碎裂得到抑制,从而完成本专利技术。根据本专利技术,提供一种半导体装置的制造方法,其包括:准备工序,准备主面形成有电路的半导体晶片 ...
【技术保护点】
一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括:准备工序,准备主面形成有电路的半导体晶片;贴附工序,将所述半导体晶片贴附于粘接层;第一分割工序,通过沿切割区域对贴附于所述粘接层的状态的所述半导体晶片进行分割,而获得多个半导体芯片;密封工序,在多个所述半导体芯片的所述主面贴附于所述粘接层的状态下,将多个所述半导体芯片一起密封,由此在所述半导体芯片的侧面之间的间隙和所述半导体芯片的背面上形成包含半导体密封树脂组合物的密封材料层;和第二分割工序,通过对形成在所述半导体芯片的所述侧面之间的间隙的所述密封材料层进行分割,而获得在所述侧面和所述背面形成有所述密封材料层的多个所述半导体芯片。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2014.08.29 JP 2014-1751351.一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括:准备工序,准备主面形成有电路的半导体晶片;贴附工序,将所述半导体晶片贴附于粘接层;第一分割工序,通过沿切割区域对贴附于所述粘接层的状态的所述半导体晶片进行分割,而获得多个半导体芯片;密封工序,在多个所述半导体芯片的所述主面贴附于所述粘接层的状态下,将多个所述半导体芯片一起密封,由此在所述半导体芯片的侧面之间的间隙和所述半导体芯片的背面上形成包含半导体密封树脂组合物的密封材料层;和第二分割工序,通过对形成在所述半导体芯片的所述侧面之间的间隙的所述密封材料层进行分割,而获得在所述侧面和所述背面形成有所述密封材料层的多个所述半导体芯片。2.如权利要求1所述的半导体装置的制造方法,其特征在于:所述贴附工序包括:将所述半导体晶片的主面贴附于所述粘接层的工序;和通过将所述半导体晶片的背面去除而使所述半导体晶片的膜厚变薄的工序。3.如权利要求2所述的半导体装置的制造方法,其特征在于:使膜厚变薄的所述工序之后的所述半导体晶片的膜厚为100μm以上300μm以下。4.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置的制造方法,其特征在于:所述第二分割工序中的分割宽度比所述第一分割工序中的分割宽度小。5.如权利要求1~4中任一项所述的半导体装置的制造方法,其特征在于:所述第一分割工序包括:通过在所述半导体晶片的所述背面贴附于所述粘接层的状态下对所述半导体晶片进行分割而获得多个所述半导体芯片的工序;和扩大相邻的所述半导体芯片之间的间隔的扩展工序,所述密封工序在扩大所述半导体芯片之间的间隔的状态下实施。6.如权利要求5所述的半导体装置的制造方法,其特征在于:所述第一分割工序在分割所述半导体晶片并在所述粘接层形成切口之后实施所述扩展工序。7.如权利要求1~6中任一项所述的半导体装置的制造方法,其特征在于:在所述准备工序中,所述半导体晶片的所述主面上形成有外部连接用凸块。8.如权利要求1~6中任一项所述的半导体装置的制造方法,其特征在于:在所述密封工序之后,包括在所述半导体晶片的所述主面上形成外部连接用凸块的工序,之后实施所述第二分割工序。9.一种半导体装置的制造方法,其特征在于,包括:准备结构体的工序,该结构体具备粘接部件和贴附于所述粘接部件的粘接面的多个半导体芯片,多个所述半导体芯片相互隔着规定间隔而配置,并且多个所述半导体芯片的电路形成面贴附于所述粘接部件...
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