【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及集成电路(IC)计量，更具体地，涉及应用在光学计量的测量、处理和/或仿真中的波长选择。
技术介绍
随着当前IC尺寸越来越小的发展趋势，特征测量也因特征尺寸的变小而变得越来越困难。但是，为了确定特征尺寸是否在可接受的范围内，以及是否例如特定的制造过程使得特征侧壁成为锥形、直立、T形顶、倒凹或具有支撑角，对光栅或周期结构的尺寸的了解是必要的。光栅或周期结构的特性如它们的轮廓可采用光学计量来确定。在常规的光学计量中，光学计量数据通常通过对应于取决于光学计量设备的类型和制造商的特定波长的特定数量的测量点来获得。根据通常数量的波长所产生的大量轮廓和光谱库会导致冗长的库产生时间和大量的搜索时间。然而，使用所有或大部分来自计量设备的波长测量数据不一定能提供更准确的数据。在一些情况下，使用所有的波长测量数据偶尔会产生错误的库匹配。
技术实现思路
在一个示例性实施例中，用于集成电路光学计量的特定波长可通过确定一个或多个终止准则，设置一个或多个选择准则，以及根据选择准则选择波长来选择。可以一次或多次反复执行选择步骤，直到满足终止准则。附图说明图1是一个表示使用光学计量测...
【技术保护点】
一种用于选择在具有一个标称轮廓的集成电路结构的光学计量中使用的波长的方法，该方法包括：确定一个或多个终止准则；确定一个或多个选择准则；利用一个或多个所述集成电路结构的输入衍射光谱和选择准则选择波长；并且执行选择步骤直到满足所述终止准则。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：斯瑞尼瓦斯多蒂，劳伦斯莱恩，威沃恩格，迈克尔劳格瑞，鲍君威，凯利巴里，尼克希尔扎卡特达，伊曼纽缀格，
申请(专利权)人：音质技术公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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