使用一个假想剖面来模拟形成于半导体晶片上的结构剖面，用于使用光学计量确定该结构的剖面。选择一个假想剖面，从形成于晶片上的结构中测量的衍射信号获得抽样衍射信号，该抽样衍射信号是对测量的衍射信号的代表性抽样。定义了一个假想剖面，并从获得的抽...

一种采用软件的改进的断面测量数据收集和分析系统，该软件对存储在表示半导体芯片晶片断面的存储器中的库数据进行群集分析，用于实时匹配来自由断面测量仪器收集的数据的数据信号。为了更好地在输入的数据信号与断面库数据之间实时进行匹配为群集，并抽取...

本发明包括从一个测得信号来确定在集成电路内一个结构的形态的方法和系统，用一个量度装置测量来自该结构的信号，在一个形态数据空间中选择测量信号的最佳符合，该数据空间有具有指定非线性程度的数据点，并执行一个精确化程序以确定精确化形态参数，一个...

在一种实施方式中，确定次级计量工具相对于初级计量工具的信号调节矢量（步骤５６０）。在（步骤５００），用初级计量工具测量晶片上预定数目的位置外的衍射信号。计量工具可以是偏振光椭圆计、反射计。初级计量工具是一种具有硬件规格说明的计量工具，该...

用于集成电路的光学计量中的特定波长可利用一个或多个选择准则和终止准则来选择。使用选择准则选择波长，波长的选择被迭代直到满足终止准则。

提供一种使用机器学习系统的对在半导体晶片上形成的结构的光学计量，通过得到用计量装置测量的第一衍射信号，检测在半导体晶片上形成的结构。通过使用机器学习系统产生第二衍射信号，其中，机器学习系统接收一个或更多个表征结构的剖面的参数作为输入，以...

周期性栅的模拟衍射信号（模拟信号）库的一种产生方法，包括获得一个测量衍射信号（测量信号）。假定参数与一假定剖面相关联。这些假定参数在某一范围内变化以产生一组假定剖面。变化假定参数的范围是基于测量信号的。一组模拟信号从假定剖面组产生。

一种生成用于确定半导体晶片上形成的结构的轮廓的一个或多个模拟衍射信号的方法，其中该轮廓在一维以上变化，该方法包括：生成中间计算，其中每个中间计算对应于该结构的一假想轮廓的一部分，以及其中对该假想轮廓在第一维和第二维上 ...

通过以入射角和方位角将入射光束引导到所述结构，来检查形成于半导体晶片上的结构。在方位角的范围内扫描入射光束以获得方位扫描。在方位扫描过程中，测量衍射光束的正交偏振分量。

本发明提供了一种选择衍射级数目的方法，所述衍射级数目用于在光学计量中为二维结构产生模拟的衍射信号，通过使用第一衍射级数目和二维结构的假想轮廓产生第一模拟衍射信号。使用第二衍射级数目和与产生所述第一模拟衍射信号相同的假想轮廓以产生第二模拟...

使用精确的耦合波分析来确定来自周期性光栅轮廓的电磁辐射的衍射，并将中间计算结果进行高速缓存，以缩短计算时间。为了进行计算，周期性光栅被划分为许多层，光栅的各脊截面被离散化为各个矩形部分，并且介电常数、电场和磁场都被表示成沿着光栅的周期性...

形成在晶片（１０４）之上的单一特征（１０２）的分布，可以用这样的方法确定：利用一个光束（１０８）形成一个聚焦在特征（１０２）上的光源（１０６），以及一个用来检测从该特征（１０２）衍射出的光（１１０）的检测器（１１２），来得到该特征的光学...

选取用于晶片（４７）结构（５９）光计量术中的轮廓模型，轮廓模型有与结构（５９）尺寸相关的一组几何参数。利用一个或多个输入衍射信号和一个或多个参数选择准则，选取轮廓模型的一组优化参数。对照一个或多个终止准则，测试选取的轮廓模型和优化参数组...