【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及集成电路(IC)量度，更具体地讲，涉及用量度系统和形态库或形态数据空间以确定IC结构的临界尺寸(CD)和形态。
技术介绍
随着当前朝集成电路特征更小几何尺寸的努力，当特征的尺寸变得更小时，特征的测量就愈益困难。然而为了确定特征的尺寸是否在容许的范围内以及一个具体的制造过程是否引起特征的侧壁被变细，变垂直，形成T形顶，下部凹陷或有基脚，对栅或周期结构尺寸的知识是必要的。传统地，把一个样品解理并用一扫描电子显微镜(SEM)或类似装置来检查。截面SEM方法通常是慢，昂贵，并具有破坏性的方法，而CD SEM方法只提供从特征的顶部看到的一个测量数据。光谱反射率测量术和椭率测量术被用来把光照射到该结构上并测量反射信号的谱。当前的做法基本上用一种经验的方法，其中对在一结构中特征的某一又知宽度，测量其反射光的谱。这个过程是费时并昂贵，即使对于结构尺寸的形态和有关的反射/衍射光谱数据的一个有限的库。另外，如果这个库是以精细的分辨率，对于结构形态的一个大的范围内建立的，那么建立库的过程是费时并成本高到不能接受的。随着IC的特征变得更小，对于一个库就需要有更加精细的分...
【技术保护点】
一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法，该方法包括：用一种量度装置，测量来自一个结构的信号，该测量产生一个测得信号；在一个形态数据空间中选择该测得信号的最佳符合，该形态数据空间具有指定非线性程度的数据点，这些数据点代表形 态参数和相关的信号，该形态参数表征集成电路结构的形态，最佳符合是形态数据空间中的这样一个数据点，它具有的信号与测得信号最接近；以及用一种精确化程序，基于所选信号的形态参数，确定对应于测得信号的精确化形态参数；其中精确化程序包 括一系列步骤，被设计成用测得信号、与最佳符合信号相关联的数据、以及从...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】US 2002-2-12 10/075,9041.一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法，该方法包括用一种量度装置，测量来自一个结构的信号，该测量产生一个测得信号；在一个形态数据空间中选择该测得信号的最佳符合，该形态数据空间具有指定非线性程度的数据点，这些数据点代表形态参数和相关的信号，该形态参数表征集成电路结构的形态，最佳符合是形态数据空间中的这样一个数据点，它具有的信号与测得信号最接近；以及用一种精确化程序，基于所选信号的形态参数，确定对应于测得信号的精确化形态参数；其中精确化程序包括一系列步骤，被设计成用测得信号、与最佳符合信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的和/或推导出的其他数据来确定精确化形态参数。2.权利要求1的方法，其中在形态数据空间中选择测得信号的最佳符合，该数据空间具有指定非线性程度的数据点，包括指定在形态数据空间的数据点之间的非线性程度；以及检证在形态数据空间的数据点之间存在指定的非线性程度。3.权利要求2的方法，其中指定在形态数据空间的数据点之间的非线性程度包含建立对每一个形态参数的阈值偏离。4.权利要求2的方法，其中检证在形态数据空间的数据点之间存在指定的非线性程度包括计算在形态数据空间中的数据点的精确化分辨率，该精确化分辨率被设计成确保在数据点之间存在指定的非线性程度；以及用所计算得到的精确化分辨率来建立形态数据空间的数据点。5.权利要求4的方法，其中计算形态数据空间中的数据点的精确化分辨率包括计算一个灵敏度矩阵，该灵敏度矩阵是由于形态参数的变化引起信号的变化的一个量度；对每一个形态参数确定一个最大精确化分辨率，同时保持相关的在形态数据空间数据点之间的非线性程度。6.权利要求1的方法，其中量度装置是一个光学量度装置，一个电学量度装置，一个电子量度装置或一个力学量度装置。7.权利要求1的方法，其中确定对应于测得信号的精确化形态参数包括在形态数据空间中选择一个多面体，该多面体包括最佳符合数据点，以及具有这样的角，这些角对应于邻近最佳符合数据点的所选形态参数数据点；以及把总代价函数最小化，而总代价函数包括对应于所选形态参数数据点的信号相对于测得信号的代价函数以及最佳符合信号相对于测得信号的代价函数。8.权利要求7的方法，其中所选的多面体有一个角与每一个形态参数相关联。9.权利要求7的方法，其中所选的多面体有两个角与每一个形态参数相关联。10.权利要求7的方法，其中把总代价函数最小化包括选择一组权重矢量，每一个权重矢量具有矢量元，每一个矢量元与对应于一个选定数据点的信号相关联；对于权重矢量组的每一个权重矢量计算总代价函数；以及选择产生最小总代价函数的权重矢量。11.权利要求10的方法，还包括用与最小总代价函数相关联的权重矢量计算精确化形态参数。12.权利要求1的方法，其中确定对应于检测得信号的精确化形态参数包括计算一个灵敏度矩阵，而该灵敏度矩阵是形态参数的变化引起的信号变化的一种量度。用计算得到的灵敏度矩阵确定形态参数的调整值，以及把形态参数的调整值加到在形态数据空间中的最佳符合数据点的相应的形态参数上，从而算出精确化形态参数。13.权利要求12的方法，其中确定形态参数调整值包括计算最佳符合信号与测得信号的差值；用最佳符合信与测得信号的差值以及算得的灵敏度矩阵来计算调整值。14.权利要求1的方法，其中用以确定精确化形态参数的精确化程序利用双线性精确化，拉格朗日精确化，Cubic Spline精确化，Aitken精确化，权重平均精确化，多-二次精确化，双-立方精确化，Turran精确化，波包精确化，贝塞尔精确化，Everett精确化，有限-差值精确化，高斯精确化，厄米特精确化，牛顿分差异精确化，密切精确化，或Thiele’s精确化算法。15.一种从测得信号确定一集成电路结构的形态的方法，该方法包括用一种量度装置测得来自一个结构的信号，该测量产生一个测得信号；把测量信号与簇代表的信号加以比较以选择测量信号的最佳符合，而簇代表选自形态数据空间的数据点的簇，簇代表有一个相关联的调整乘数因子矩阵以用来把信号转换为形态参数，形态数据空间的数据点有指定的非线性程度，数据点代表形态参数和相关信号，形态参数表征集成电路结构的形态；以及把测得信号和一个调整乘数因子矩阵相乘以计算精确化形态参数。16.权利要求15的方法，其中通过把测量信号与簇代表的信号比较以选择测量信号的最佳符合包括把形态数据空间的数据点分组成簇；对于每一个簇选出簇代表；以及对于每一簇的簇代表的每一个形态参数推导调整乘数因子矩阵。17.权利要求15的方法，还包括相对于预置标准，检测精确化形态参数对比最佳符合形态参数的准确性；以及如果精确化形态参数不满足预置标准，应用一个改正措施。18.一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法，包括用量度装置测量来自一个结构的信号，该测量产生一个测得信号；选择数据空间中给定数目的与测量信号最邻近的数据点，数据空间的数据点表示形态参数和相关的信号，形态参数表征集成电路结构的形态，数据空间的数据点具有指定的非线性程度；推导一个调整乘数因子，该调整乘数因子用来把与所选的多个数据点相关的信号转换成相应的形态参数；以及通过把测得信号和调整乘数因子相乘，计算对应于测得信号的精确化形态参数。19.一种从测量信号来确定集成电路结构的形态的方法，该方法包括用一种量度装置，测量来自一个结构的信号，该测量产生一个测得信号；在一个形态数据空间选择该测得信号的最佳符合，该形态数据空间具有指定非线性程度的数据点，这些数据点代表形态参数和相关的信号，该形态参数表征集成电路结构的形态，最佳符合是形态数据空间中的这样一个数据点，它具有的信号与测得信号最接近；以及选择指定数目的，与最佳符合最接近的数据点；用与所选数据点相关的数据推导出调整乘数因子，该调整乘数因子用来把所选数据点的信号转换为相应的形态参数；以及通过把测得信号和调整乘数因子相乘，计算对应于测得信号的精确化形态参数。20.一种调整形态精确化的参数的方法，以用于确定一集成电路结构的形态，该方法包括通过使用一个精确化程序以及以一指定分辨率建立的一个形态数据空间，确定对应于一测得信号的精确化形态参数，该形态数据空间有数据点，而该数据点代表形态参数和相关信号，该形态参数表征集成电路结构的形态；推导一个乘数因子以把形态参量转换成对应的算得信号，该推导用与所选数据点相关的数据；用乘数因子和测得信号的精确化形态参数计算一个信号；比较计算信号相对于测得信号的符合优值和从形态数据空间的最佳符合信号相对于测得信号的符合优值，而最佳符合信号是通过比较测得信号和形态数据空间各数据点相关的信号得到的，以及选择最接近测得信号的算得信号；其中精确化程序包括一系列步骤，被设计成用测得信号、与最佳符合信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的和/或推导出的其他数据，来确定精确化形态参数。21.权利要求20的方法，其中比较符合优值是用比较算得信号相对于测得信号的代价函数与最佳符合信号相对于测得信号的代价函数来实现的。22.权利要求20的方法，还包括执行一个改正措施以改进算得信号相对于测得信号的符合优值。23.权利要求22的方法，其中执行改正措施包括以一个比原来分辨率更高的分辨率重新建立形态数据空间。24.权利要求20的方法，其中执行改正措施包括把精确化程序改变为一个不同的精确化程序。25.一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法，该方法包括用一种量度装置，测量来自一个结构的信号，该测量产生一个测得信号；在一个形态数据空间中选择测得信号的最佳符合，数据点代表形态参数和相关信号，形态参数表征集成电路结构的形态，最佳符合是形态数据空间中的一个数据点，其信号与测得信号最为接近；在形态数据空间的一个子集内选择第一数据点，该形态数据空间子集包括测得信号和与最佳符合信号相关联的数据点最接近的数据点；以对应于所选第一数据点的形态参数模拟来自一结构的信号；验证一个形态精确化预置标准被满足，该形态精确化预置标准包括模拟信号相对于测得信号的符合优值的量度；以及提取与满足形态精确化预置标准的模拟信号相关联的形态参数。26.权利要求25的方法，其中验证形态精确化预置标准被满足包括检验一个误差量度是否在形态精确化预置标准范围内，该误差量度测量该模拟信号相对于测得信号的符合优值；以及如果误差量度是在形态精确化预置标准范围外，执行一种优化方法以在数据空间子集内选择下一个数据点，下一个数据点被用来确定下一个模拟信号。27.权利要求26的方法，其中执行优化方法以在数据空间子集中选择下一个数据点，涉及应用一种整体优化方法和/或一种局域优化方法。28.权利要求25的方法，其中形态数据空间是包含这样的数据点，这些数据点用量度模拟方法所产生，量度模拟方法从一组形态参数来计算来自结构的信号。29.一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法，该方法包括用一种量度装置，测量来自一个结构的信号，该测量产生一个测得信号；在一个形态数据空间中选择测得信号的最佳符合，数据点代表形态参数和相关信号，形态参数表征集成电路结构的形态，最佳符合是形态数据空间中的一个数据点，其信号与测得信号最为接近；计算灵敏度矩阵，该灵敏度矩阵是形态参数的变化引起的信号变化的一个量度；用算得的灵敏度矩阵和最佳符号形态参数确定第一组精确化形态参数；用第一组精确化形态参数模拟第一信号；并用所算得的灵敏度矩阵和第一组精确化形态参数确定第二组精确化形态参数。30.权利要求29的方法，还包括用第二组精确化形态参数模拟第二信号；并用算得的灵敏度矩阵和第二组精确化形态参数确定第三组精确化形态参数。31.一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法，该方法包括用一种量度装置，测量来自一个结构的信号，该测量产生一个测得信号；在一个形态数据空间中选择测得信号的最佳符合，数据点代表形态参数和相关信号，形态参数表征集成电路结构的形态，最佳符合是形态数据空间中的一个数据点，其信号与测得信号最为接近；用一种精确化程序来确定第一组精确化形态参数，该精确化程序是一系列步骤，设计成用测得信号、与最佳符合信号相关联的数据、以及其他从形态数据空间得到的和/或推导出的数据来确定精确化形态参数。围绕第一组精确化形态参数建立形态参数的范围；用围绕第一组精确化形态参数建立的范围，建立第二形态数据空间；以及用精确化程序确定第二组精确化形态参数；其中精确化程序包括一系列步骤，设计成用测得信号、与最佳符合信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的和/或推导出的其他数据来确定精确化形态参数。32.权利要求31的方法，还包括用围绕第二组精确化形态参数建立的范围，建立第三形态数据空间；以及用精确化程序确定第三组精确化形态参数。33.一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法，该方法包括用一种量度装置，测量来自一个结构的衍射谱，该测量产生一个测得衍射谱；在一个形态库中选择测得衍射谱的最佳符合，该形态库有具有给定非线性程度的库项，形态库库项包括形态参数和相关的衍射谱，该形参数表征集成电路结构的形态，最佳符合是形态库的一个库项，其衍射谱与测得衍射谱最为接近；以及用一种精确化程序，基于所选信号的形态参数，确定对应于测得衍射谱的精确化形态参数；其中精确化程序包括一系列步骤，设计成用测得信号、与最佳符合信号相关联的数据、以及从形态数据空间得到的和/或推导出的其他数据来确定精确化形态参数。34.权利要求33的方法，其中在形态库中选择测得衍射谱的最佳符合包括指定在形态库的库项之间的非线性程度；以及验证在形态库的库项之间存在指定的非线性程度。35.权利要求34的方法，其中指定非线性的程度包括对每一个形态参数建立一个阈值偏离。36.权利要求34的方法，其中验证在形态库的库项之间存在指定的非线性程度包括计算在形态库中库项的精确化分辨率，该精确化分辨率被设计成保证在形态库中的库项之间存在指定的非线性程度；以及用形态参数范围和算得的精确化分辨率来建立形态库。37.权利要求36的方法，其中计算在形态库中库项的精确化分辨率包括计算一个灵敏度矩阵，该灵敏度矩阵是形态参数的变化引起信号变化的一个量度；对一个形态参数确定一个最大的精确化分辨率，同时保持在形态库的库项之间指定的非线性程度。38.权利要求33的方法，其中确定对应于测得信号的精确化形态参数包括在一个形态数据空间中选择一个多面体，该形态数据空间有表示形态库库项的数据点，该多面体包含最佳符合数据点并有多个角，这些角对应于最邻近最佳府合数据点的所选数据点，最佳符合数据点对应于形态库的最佳符合库项；以及使总代价函数最小化，总代价函数包括对应于所选数据点的衍射谱相对于测得衍射谱的代价函数以及最佳符合衍射谱相对于测得衍射谱的代价函数。39.权利要求38的方法，其中所选的多面体有一个角与每一个形态参数相关联。40.权利要求38的方法，其中所选的多面体有二个角与每一个形态参数相关联。41.权利要求38的方法，其中使总代价函数最小化包括选择一组权重矢量，每一个权重矢量有矢量元，每一个矢量元和对应于一个所选数据点的衍射谱相关联；用该组权重矢量的一个权重矢量计算总代价函数；以及选择和最小总代价函数相关联的权重矢量。42.权利要求41的方法，还包括用与最小代价函数相关联的权重矢量计算精确化形态参数。43.权利要求33的方法，其中确定对应于测得信号的精确化形态参数包括计算一个灵敏度矩阵，该矩阵是形态参数的一个变化引起信号变化的一个量度；用灵敏度矩阵确定形态参数的调整值；以及通过把形态参数的调整值加到形态库的最佳符合库项的相应的形态参数上以计算精确化形态参数。44.权利要求43的方法，其中确定形态参数的调整值包括计算最佳符合谱和测得谱的差；以及用最佳符号谱和测得谱的差以及算得的灵敏度矩阵来计算调整值。45.权利要求33的方法，其中用来确定精确化形态参数的精确化程序利用双线性精确化，拉格朗日精确化，Cubic Spline精确化，Aitken精确化，权重平均精确化，多-二次精确化，双-立方精确化，Turran精确化，波包精确化，贝塞尔精确化，Everett精确化，有限-差值精确化，高斯精确化，厄米特精确化，牛顿分差异精确化，密切精确化，Thiele’s精确化算法。46.一种从测量信号确定集成电路结构的形态的方法，该方法包括用一种量度装置，测量来自一个结构的衍射谱，该测量产生一个测得衍射谱；把测得衍射谱与簇代表的衍射谱加以比较以选出测得衍射谱的最佳符合，簇代表有一个相关联的调整乘数因子矩阵以用来把衍射谱转换为形态参数。簇代表选自形态库库项的簇，形态库的库项包括衍射谱和形态参数，而形态参数表征集成电路结构的形态，形态库的库项以指定的非线性程度建立；以及通过把测量得衍射谱和调整乘数因子矩阵相乘来计算精确化形态参数。47.权利要求46的方法，其中通过...
【专利技术属性】
技术研发人员：鲍君威，斯瑞尼瓦斯多迪，尼契尔扎卡特达，旺韦，
申请(专利权)人：音质技术公司，
类型：发明
国别省市：US[美国]
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