【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及光学计量，更具体地，涉及针对重复结构的光学计量模型 优化。
技术介绍
光学计量涉及在一种结构上引导入射光束、测量所产生的衍射光束以 及分析衍射光束以确定各种特性，例如该结构的轮廓。在半导体制造中， 光学计量通常用于质量保证。例如，在半导体晶片上半导体芯片附近制造 周期性光栅结构之后，光学计量系统用于确定周期性光栅的轮廓。通过确 定周期性光栅结构的轮廓，可以评估用于形成周期性光栅结构的制造过程 的质量，并且可以扩展到评估周期性光栅结构附近的半导体芯片。在光学计量中，通常开发光学计量模型来测量结构。光学计量模型可 以用计量模型变量表示。 一般而言，在开发光学计量模型中允许浮动的计 量模型变量的数目越大，利用光学计量模型获得的测量结果的准确度越 高。然而，增大允许浮动的计量模型变量的数目也将会增大开发光学计量 模型所需要的时间量。另外，在一些情况下，允许太多的计量模型变量会 产生错误测量结果。
技术实现思路
在一个示例性实施例中，为重复结构定义多个单位元配置。每个单位 元配置由一个或多个单位元参数来定义。所述多个单位元配置中的各个单 位元在至少一个单位元参数...
【技术保护点】
一种针对光学计量而对形成于晶片上的重复结构进行建模的方法，该方法包括： ａ）定义所述重复结构的多个单位元配置，每个单位元配置由一个或多个单位元参数定义，其中，各个所述单位元配置在至少一个单位元参数方面彼此不同； ｂ）基于一个或多个选择标准，从所述多个单位元配置中选择单位元配置；以及 ｃ）利用所选择的单位元配置来表征所述重复结构的俯视图轮廓。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：李世芳，施吉科玛罗夫，宫城真，斯利韦罗哈拜罗，鲍君威，乔格比斯彻夫，
申请(专利权)人：东京毅力科创株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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