本发明专利技术提供一种碱显影型的糊剂组合物，其适于使用了最大波长３５０ｎｍ～４２０ｎｍ的活性能量射线的激光直接成像装置，对效率良好地形成精细的图案有用，并且保存稳定性优异。一种碱显影型的糊剂组合物，其特征在于，其包含：（Ａ）含羧基树脂、（Ｂ）玻璃粉、（Ｃ）无机粉末、（Ｄ）一分子中具有至少１个以上自由基聚合性不饱和基团的化合物、和（Ｅ－１）２－（乙酰氧基亚氨基甲基）噻吨－９－酮等肟酯系光聚合引发剂、以及（Ｆ）２－巯基苯并噻唑等硫化合物。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及碱显影型的糊剂组合物和使用其的导电性图案 和黑色矩阵图案的形成方法以及该导电性图案和黑色矩阵图 案，其中该碱显影型的黑色糊剂组合物适合于对薄型显示器等 有用的导电性图案和黑色矩阵图案的形成。另外，下面将指示 导电性图案和黑色矩阵图案两者的情况表示成图案。除此以外 的情况下，分别表示成导电性图案、黑色矩阵图案。本专利技术更 详细地说，涉及一种碱显影型的糊剂组合物，其适于使用了最大波长350nm 420nm的活性能量射线的激光直接成像装置，对 效率良好地形成精细的图案有用，并且保存稳定性优异，以及 涉及使用了该组合物的图案的形成方法及其图案。
技术介绍
一直以来，薄型显示器的玻璃基板等形成有作为电极的导 电性图案。另外，前面板使用黑色矩阵图案。而且其形成法如 下，例如，在玻璃基板上，涂布千燥图案用的抗蚀剂而形成涂 膜，该涂膜通过描绘有电路、电极图案的光掩模而使用活性能 量射线曝光图像，然后利用曝光部和非曝光部对显影液的溶解 性的不同，以^喊性水溶液进行显影处理，由此形成与电路、电 极图案对应的抗蚀层，进行烧成，从而形成与玻璃基板密合的 图案。通过作为该活性能量射线的激光扫描使其感光、曝光的组 合物，提出了含有特定的染料敏化剂和二茂钛化合物等的组合 物(例如，参照专利文献1和专利文献2。.)、含有特定的双酰基 膦氧化物的激光感光性组合物(例如，参照专利文献3。)，但这 些组合物得不到对于活性能量射线的充分的感光度专利文献1 专利文献2 专利文献3日本特开2002 - 351071号公报(权利要求书) 日本特开2002 - 351072号公净艮(权利要求书) 曰本特开2004 — 45596号/>净艮(一又利要求书)
技术实现思路
专利技术所要解决的问题本专利技术是鉴于上述问题而进行的，其主要目的在于提供一 种碱显影型的糊剂组合物，其对活性能量射线的感光度高并且 对于效率良好地形成精细的图案有用，以及提供使用了该组合 物的图案的形成方法及其图案。用于解决问题的方法为了解决上述课题，本专利技术具备以下组成。 (1 ) 一种碱显影型的糊剂组合物，其特征在于，其包含 (A)含羧基树脂、(B)玻璃粉、(C)无机粉末、(D) —分子 中具有至少l个以上自由基聚合性不饱和基团的化合物、(E-1 )下述通式(I)所示的肟酯系光聚合引发剂、以及(F)下述 通式(II)所示的硫化合物，<formula>formula see original document page 6</formula>式中，W表示氢原子、碳原子数1 6的烷基、或苯基，R2 表示氢原子、碳原子数1 6的烷基，式中，W表示烷基、芳基或取代芳基，W表示氢原子或烷 基，另外，R^和R"表示相互结合形成可以包含选自氧、硫和氮原子的杂原子的5元环到7元环所需要的非金属原子群。(2)根据(1)所述的碱显影型的糊剂组合物，其特征在 于，所述肟酯系光聚合引发剂(E - 1 )为下述通式(III)所示 的(1)所述的肟酯系光聚合引发剂，<formula>formula see original document page 7</formula>式中，1个或2个RS如下述通式(I )所示，其中2个RS如通 式(I)所示时，包括115各自不同的情况；其余RS表示氢原子、 曱基、苯基或卤原子，其中包括各RS各自不同的情况，<formula>formula see original document page 7</formula>2 …(I )6的烷基、或苯基，R:式中，Rt表示氢原子、碳原子数l 表示氢原子、碳原子数1 6的烷基。(3 )根据(1 )或(2)所述的碱显影型的糊剂组合物，其 特征在于，所述含羧基树脂(A)进一步是(A - 1 )具有一个 以上自由基聚合性不饱和基团的含羧基树脂。(4)根据(1 )或(2)所述的碱显影型的糊剂组合物，其 特征在于，还包含(E-2)下述通式(IV)所示的氧化膦系光 聚合引发剂，<formula>formula see original document page 7</formula>式中，R6、 R7各自地独立表示碳原子数l ~ IO的直链状或支 链状的烷基、环己基、环戊基、芳基、或者被面原子、烷基或烷氧基取代的芳基、或者任一方为碳原子数l ~ 20的羰基。(5) 根据(4)所述的碱显影型的糊剂组合物，其特征在 于，所述通式(I)所示的肟酯系光聚合引发剂(E- 1)的配合 量比所述通式(IV)所示的氧化膦系光聚合引发剂(E-2)的 配合量少。(6) 根据(1 )或(2)所述的碱显影型的糊剂组合物，其 特征在于，还含有(G)硼酸。(7) 根据(1 )或(2)所述的碱显影型的糊剂组合物，其 特征在于，还含有(H)下述通式(V)或通式(VI)所示的磷 化合物。(8) 根据(1) ~ ( 7)任一项所述的碱显影型的糊剂组合 物，其特征在于，涂布干燥所述(l) ~ (7)任一项所述的组 合物而得到的涂膜的每ljim膜厚的吸光度为O.l ~ 0.8。(9) 根据(1 )或(2)所述的碱显影型的糊剂组合物，其 特征在于，所述(C)无机粉末是黑色颜料或银粉。(10) 根据(1 )或(2)所述的碱显影型的糊剂组合物， 其特征在于，所述通式(I)所示的肟酯系光聚合引发剂(E- 1 ) 的配合量为组合物总量的O.l ~ 1.0质量％。(11 )一种图案的形成方法，其特征在于，是使用了 ( 1 ) ~ (10)任一项所述的组合物的图案的形成方法，其中，该方法 包括(1 )通过活性能量射线进行图案曝光的工序、(2)通过以稀碱性水溶液显影而选择性地形成图案的工序、8(3)在400 ~ 600。C下烧成的工序。(12) 根据(11 )所述的图案的形成方法，其特征在于， 所述活性能量射线为激光振荡光源或灯光源。(13) —种图案，其通过(11)或(12)所述的图案的形成方法而获得o(14) 根据(13)所述的图案，其特征在于，所述图案为 导电性图案。(15) 根据(13)或(14)所述的图案，其特征在于，所 述图案包含黑色矩阵图案。(16) —种等离子显示面板，其包含使用(1 ) ~ ( 10)任 一项所述的碱显影型的糊剂组合物而形成的图案。(17) —种等离子显示面板，其包含(13) ~ U5)任一 项所述的图案。专利技术的效果本专利技术的碱显影型的糊剂组合物通过配合上述通式(II ) 所示的硫化合物，对活性能量射线具有充分的感光度，并可形 成高精度的图案。另外，上述糊剂组合物由于对活性能量射线具有充分的感 光度，因此可以在短时间进行曝光，通过缩短曝光所需要的时 间可提高图案的制造效率。另外，由于对于最大波长为350nm ~ 420nm的活性能量射线 显示优异的光固化性，因此可使用激光直接成像装置作为曝光 装置，可形成可靠性高的图案。具体实施例方式本专利技术的碱显影型的糊剂组合物具有如下特征其包含 (A)含羧基树脂、(B)玻璃粉、(C)无机粉末、(D) —分子中具有至少一个以上自由基重合性不饱和基团的化合物、以及(E - 1)前述通式(I)所示的肟酯系光重合引发本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种碱显影型的糊剂组合物，其特征在于，其包含：（Ａ）含羧基树脂、（Ｂ）玻璃粉、（Ｃ）无机粉末、（Ｄ）一分子中具有至少１个以上自由基聚合性不饱和基团的化合物、（Ｅ－１）下述通式（Ⅰ）所示的肟酯系光聚合引发剂、以及（Ｆ）下述通式（Ⅱ）所示的硫化合物， －＊＝Ｎ－Ｏ－＊－Ｒ↑［２］ …（Ⅰ） 式中，Ｒ↑［１］表示氢原子、碳原子数１～６的烷基、或苯基，Ｒ↑［２］表示氢原子、碳原子数１～６的烷基， ＊＊＊ …（Ⅱ） 式中，Ｒ↑［３］表示烷基、芳基或取代芳基，Ｒ↑［４］表示氢原子或烷基，另外，Ｒ↑［３］和Ｒ↑［４］表示相互结合形成可以包含选自氧、硫和氮原子的杂原子的５元环到７元环所需要的非金属原子群。
【技术特征摘要】
...
【专利技术属性】
技术研发人员：佐佐木正树，伊藤信人，有马圣夫，
申请(专利权)人：太阳油墨制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]
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