阻焊膜形成方法和感光性组合物技术

本发明专利技术的阻焊膜的形成方法如下，将感光性组合物涂布到基材上使其干燥后，对该干燥涂膜照射第１激光和与所述第１激光波长不同的第２激光，形成所述第１激光和第２激光双方照射得到的图案潜影，然后，通过碱性水溶液进行显影。另外，用于本发明专利技术的阻焊膜形成方法的感光性组合物如下，其曝光前的干燥涂膜每２５μｍ厚度，在３５５～３８０ｎｍ的波长范围显示０．６～１．２的吸光度，并且，在４０５ｎｍ的波长下显示０．３～０．６的吸光度。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及如下阻焊膜的形成方法，将感光性组合物涂布 到基材上使其干燥后，对该干燥涂膜照射激光后，通过碱性水溶液进行显影而形成阻焊膜；还涉及用于本方法的感光性组合 物、以及将该组合物涂布到载膜上后进行干燥而得到的干膜。
技术介绍
印刷电路板的最外层设有称为阻悍膜的永久保护膜。为了 形成该阻焊膜，广泛采用可准确形成微细图案的光刻法。其中， 从环境方面考虑等，主流是碱显影型的光刻法。作为光刻法中的 一个方法，广为人知的是使用从产生紫外 线的灯发出的光的一次性曝光法，公开于例如日本特开平Ol -141904号。该一次性曝光法是在将感光性组合物涂布到基材上 并使之干燥后，隔着光掩模使从产生紫外线的灯发出的光对该 干燥涂膜进行全面曝光。因此，可在非常短的时间形成图案潜 影。然而，该一次性曝光法需要使光掩模与基材的位置对齐， 该位置对齐花费时间。另外，基材因其电路形成时的热历程而 尺寸发生变化，容易产生偏离设计值的偏差。相对于此，光掩 模不产生上述那样的尺寸变化，因此不能进行与该基材的偏差 对应的位置修正。越是微细的图案，越较大受到偏差的影响， 准确的图案潜影形成变得困难。为了形成准确的图案潜影，分 别测定各个基材在电路形成后的尺寸，相应地需要对每个基材 制作掩模，非常繁杂。相对于此，使用激光的直接描绘法基于来自电脑的数据， 使用激光光源发出的单 一 波长的光，对干燥阻焊涂膜直接描绘 图案潜影(国际公开WO02/096969号)。该直接描绘法中，对于 上述那样偏离基材尺寸的设计值的偏差，通过测定电路形成后 的基材的尺寸，用计算机修正偏离设计值的偏差，可形成期望 的准确的图案潜影。因此，直接描绘法相比于一次性曝光法， 可更准确且容易地形成微细的图案潜影。然而，直接描绘法在基材上扫描激光而描绘图案潜影。因 此，用于通过直接描绘法在1张基材上形成图案潜影的时间相比 于一次性曝光法更长，生产率也处于变差倾向。因此，为了提 高生产率，要求可用于高速直接描绘的高感光度的感光性组合 物。感光性组合物的感光度低的话，则不能以高速直接描绘、 即用短时间的激光照射充分形成图案潜影。通常的紫外线固化 型感光性组合物具有200mJ 600mJ的感光度。对于用直接描绘 法曝光厚膜干燥阻焊涂膜并使其充分固化来说，该感光度范围 是较低的。另外，激光直接描绘法使用单一波长。通常，使用更短的 短波长的激光时，光线的能量高，因而，具有可以迅速进行固 化的优点，另一方面，由于存在光难以透过到深部的倾向，因 而，具有阻焊膜的固化深度降低的倾向。使用更长的长波长的 激光时，具有光到达感光性组合物干燥涂膜的深部，固化深度 变高的优点，另一方面，由于光线的能量变低，因而效率变差 且固化花费时间。另外，在这期间，涂膜表面容易受到氧气的 固化阻碍，因而，具有不能获得充分的表面固化的倾向。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供阻焊膜的形成方法，该方法具有 更短的短波长激光和更长的长波长激光各自的优点，并且，弥 补各自的不足，可使由感光性组合物形成的涂膜从表面到深部充分地固化；以及可适用于该方法的高感光度的感光性组合物。 为了解决上述目的，根据本专利技术的第一方面，提供阻焊膜 的形成方法，其特征在于，将感光性组合物涂布到基材上使其 干燥后，对该干燥涂膜照射彼此波长不同的2种以上激光，形成 所述2种以上激光分别照射得到的图案潜影，然后，通过碱性水 溶液进行显影。根据本专利技术的其他方面，提供阻焊膜的形成方法，其特征 在于，将感光性组合物涂布到基材上使其干燥后，对该干燥涂 膜照射第l激光和与所述第l激光波长不同的第2激光，形成所述 第1激光和第2激光双方照射得到的图案潜影，然后，通过碱性 水溶液进行显影。根据本专利技术的其他方面，提供感光性组合物，其特征在于， 该感光性组合物用于权利要求2所述的阻焊膜的形成方法，其 中，其曝光前的干燥涂膜每25[im厚度，在355 ~ 380nm的波长 范围显示0.6~ 1.2的吸光度，并且，在405nm的波长下显示0.3 ~ 0.6的吸光度。另外，根据本专利技术的其他方面，提供干膜，其是将上述感 光性组合物涂布到载膜上后进行干燥而得到的。附图说明图l是对感光性组合物的干燥涂膜进行曝光，对其显影后得 到的阻焊膜的截面形状的示意图。具体实施例方式下面，进一步详细地说明本专利技术。本专利技术的阻焊膜的形成方法是将感光'性组合物涂布到基材 上使其干燥后，对该干燥涂膜照射彼此波长不同的2种以上激光，形成所述2种以上激光分别照射得到的图案潜影，然后，通 过碱性水溶液进行显影。尤其是，本专利技术的阻焊膜的形成方法是将感光性组合物涂 布到基材上使其干燥后，对该干燥涂膜照射第l激光和与所述第1激光波长不同的第2激光，形成所述第1激光和第2激光双方照 射得到的图案潜影，然后，通过碱性水溶液进行显影。通过对感光性组合物的干燥涂膜照射彼此波长不同的2种 以上激光，例如，照射第1激光和与第1激光波长不同的第2激光， 两激光照射得到的干燥涂膜部分可充分固化，并准确形成图案 潜影(两激光照射的部分)。2种以上波长不同的激光照射中， 先照射哪个激光都可以，不论顺序。另外，也可同时照射2种以 上的波长不同的激光。以下，对于使用第l激光和第2激光的形态进行说明。用于本专利技术的阻焊膜的形成方法的第l激光和第2激光可使 用半导体激光和固体激光。特别是第l激光和第2激光中的一方 优选蓝紫激光(例如405nm)。另一激光通常是紫外激光。该第 1激光和第2激光的光源可设置在1台激光照射装置内。上述本专利技术的阻焊膜的形成方法中，可适宜使用如下所述 的本专利技术的感光性组合物，该感光性组合物其曝光前的干燥涂 膜每25(im厚度，在355 ~ 380nm的波长范围显示0.6 ~ 1.2的吸光 度，并且在405nm的波长下显示0.3 ~ 0.6的吸光度。更详细地说， 通过曝光前的干燥涂膜在短波长侧的355 ~ 380nm的波长范围 显示0.6~ 1.2的吸光度，在干燥涂膜的表层部大量吸收入射的 光，使表面发生固化，并且，通过在405nm的波长下显示0.3 ~ 0.6的吸光度，使光透过到干燥涂膜的底部，得到充分的固化深 度，由此，实现高感光度。在此，在本专利技术中，所谓的"曝光前的干燥涂膜每25pm厚度，在355 ~ 380nm的波长范围显示0.6 1.2的吸光度，并且在 405nm的波长下显示0.3 ~ 0.6的吸光度"是指对于涂布并干燥 感光性组合物糊剂而得到的干燥涂膜，制作4个不同的厚度与各 干燥涂膜厚度时在波长355 ~ 380nm下的吸光度的图表，从其近 似式算出膜厚2 5 |a m的干燥涂膜的吸光度，所得到的吸光度在 0.6~1.2的范围，并且，对于涂布并干燥感光性组合物糊剂而 得到的干燥涂膜，制作4个不同的厚度与各干燥涂膜厚度时在波 长405nm下的吸光度的图表，从其近似式算出膜厚25pm的干燥 涂膜的吸光度，所得到的吸光度在0.3 ~ 0.6的范围。这将在后 述的实施例中详细描述。另外，本专利技术中，所谓的"曝光前的干燥涂膜每25pm厚度， 在355 ~ 380nm的波长范围的最大吸光度与在405nm的波长下的 吸光度之差为0.3以上且不足0.6"是指对于涂布并干燥感光性 组合物糊剂而得到的千燥涂膜，制作4本文档来自技高网...

【技术保护点】
阻焊膜的形成方法，其特征在于，将感光性组合物涂布到基材上使其干燥后，对该干燥涂膜照射彼此波长不同的２种以上激光，形成所述２种以上激光分别照射得到的图案潜影，然后，通过碱性水溶液进行显影。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：柴崎阳子，加藤贤治，有马圣夫，
申请(专利权)人：太阳油墨制造株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]