一种溅镀工艺制造技术

本发明专利技术属于溅镀加工技术领域，具体的说是一种溅镀工艺；该工艺中使用的溅镀装置包括箱体，电机和承载装置；承载装置由电机驱动，所述承载装置包括下支撑板、剪叉机构和上支撑板，所述剪叉机构由一组相互铰接的料杆组成；剪叉机构底部一端与下支撑板铰接，剪叉机构底部另一端转动连接的滚轮能够在下支撑板上的滑槽内滑动；剪叉机构顶部与上支撑板一端铰接，剪叉机构顶部与上支撑板另一端滑动连接；所述料杆包括上料杆、中料杆和下料杆，所述中料杆能够相对转动；所述一号气缸用于推动滚轮在滑槽内滑动。本发明专利技术中使用的溅镀装置通过剪叉机构和料杆配合能够在工件溅镀时转动，使得被镀工件镀膜均匀，从而提升溅镀装置的镀膜效果。

【技术实现步骤摘要】
一种溅镀工艺
本专利技术属于溅镀加工
，具体的说是一种溅镀工艺。
技术介绍
溅镀是一种物理气相沉积技术，溅镀原理是在真空环境下，利用辉光放电或离子束产生的高能等离子体撞击耙材，以动量转移方式将耙材内的原子从耙材上轰击出来而沉积在基板上形成薄膜。由于溅镀可以达成较佳的沉积效率、精确的成份控制，以及较低的制造成本，因此已广泛应用于工业中各种金属和非金属膜层的制作。现有技术中也出现了一些溅镀装置的技术方案，如申请号为2010106052656的一项中国专利公开了一种溅镀装置，包括一个本体、一个承载装置及至少一个驱动齿轮装置。该本体包括一个顶板、一个底板及一个侧壁。该承载装置包括一个与底板的上轴承座转动连接的外圈承载架、一个与底板的下轴承座转动连接的内圈承载架。该外圈承载架包括多个第一料杆，多个第一料杆均匀间隔设置且排布成一个外圈，相邻两个第一料杆间具有第一间距。该内圈承载架包括多个第二料杆，每个第二料杆的直径小于该第一间距。该多个第二料杆均匀间隔设置且排布成一个位于该外圈内且与外圈同轴的内圈。该驱动齿轮装置设置于该内圈承载架与外圈承载架之间并用于驱动该多个第一料杆与该多个第二料杆同时本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种溅镀工艺，其特征在于，该工艺步骤如下：步骤一：将被镀工件进行清洁处理；步骤二：将步骤一中清洁后的工件放入自动喷漆房喷涂底漆；步骤三：将步骤二中喷涂底漆后的工件放入溅镀装置中进行镀膜处理；步骤四：将步骤三中镀膜后的工件喷涂面漆后烘干；其中，所述溅镀装置包括箱体(1)，电机(2)和承载装置(3)；所述承载装置(3)安装在箱体(1)内，承载装置(3)由电机(2)驱动，所述电机(2)位于箱体(1)底部；所述靶材(4)安装在箱体(1)内壁上；电源负极与靶材(4)连接，电源正极与被镀工件连接；所述承载装置(3)包括下支撑板(31)、剪叉机构(32)和上支撑板(33)，所述剪叉机构(32)由一组中部...

【技术特征摘要】
1.一种溅镀工艺，其特征在于，该工艺步骤如下：步骤一：将被镀工件进行清洁处理；步骤二：将步骤一中清洁后的工件放入自动喷漆房喷涂底漆；步骤三：将步骤二中喷涂底漆后的工件放入溅镀装置中进行镀膜处理；步骤四：将步骤三中镀膜后的工件喷涂面漆后烘干；其中，所述溅镀装置包括箱体(1)，电机(2)和承载装置(3)；所述承载装置(3)安装在箱体(1)内，承载装置(3)由电机(2)驱动，所述电机(2)位于箱体(1)底部；所述靶材(4)安装在箱体(1)内壁上；电源负极与靶材(4)连接，电源正极与被镀工件连接；所述承载装置(3)包括下支撑板(31)、剪叉机构(32)和上支撑板(33)，所述剪叉机构(32)由一组中部相互铰接的料杆(34)组成；剪叉机构(32)底部一端与下支撑板(31)铰接，剪叉机构(32)底部另一端转动连接有滚轮(35)，所述滚轮(35)能够在下支撑板(31)上的滑槽内滑动；剪叉机构(32)顶部一端与上支撑板(33)底部铰接，剪叉机构(32)顶部另一端通过滚轮(35)与上支撑板(33)底部滑动连接；所述料杆(34)包括上料杆(341)、中料杆(342)和下料杆(343)，所述下料杆(343)端头与中料杆(342)一端...

【专利技术属性】
技术研发人员：余泽军，
申请(专利权)人：余泽军，
类型：发明
国别省市：广东,44