【技术实现步骤摘要】
一种真空溅镀装置
本专利技术属于真空溅镀
，具体的说是一种真空溅镀装置。
技术介绍
溅镀，通常指的是磁控溅镀，属于高速低温溅镀法。该工艺要求真空度在1×10-3Torr左右，即1.3×10-3Pa的真空状态充入惰性气体氩气(Ar)，并在塑胶基材(阳极)和金属靶材(阴极)之间加上高压直流电，由于辉光放电产生的电子激发惰性气体，产生等粒子体，等粒子体将金属靶材的原子轰出，沉积在塑胶基材上。溅镀与常用的蒸发镀相比，溅镀具有电镀层与基材的结合力强，附着力比蒸发镀高过10倍以上，电镀层致密等优点。溅镀的成品的表面的镀膜厚度的均匀性直接决定溅镀后成品的质量，但是现有的设备无法是的溅镀后的基材表面的镀膜厚度一致。专利文献一：溅镀装置，申请号：2010106052656上述专利文献1中，通过第一料杆与第二料杆的转动带动基材转动，但是料杆只能绕轴心公转无法自传，从而使得基材外表面与金属粒子接触的机会比基材内表面与金属粒子的接触机会多，从而使得基材外表面的镀膜比基材内表面的基材镀膜厚，该专利技术实用性不高。
技术实现思路
为了弥补现有技术的不足，本专利技术提出的一种真空溅镀装置，通...
【技术保护点】
1.一种真空溅镀装置，其特征在于：包括反应腔(1)、靶材(2)、一号电机(3)、连接轴(4)、安装板(5)、顶板(6)与一号固定件(7)；所述靶材(2)左右对称安装在反应腔(1)的内壁上，靶材(2)用于产生镀膜所需的金属粒子；所述一号电机(3)安装在反应腔(1)底部，一号电机(3)位于反应腔(1)外部；所述连接轴(4)安装位于反应腔(1)内，连接轴(4)下端与一号电机(3)输出轴相连接，连接轴(4)上端转动安装在反应腔(1)顶部；所述安装板(5)通过连接轴(4)安装在反应腔(1)内，安装板(5)位于反应腔(1)底部；所述顶板(6)通过连接轴(4)安装在反应腔(1)内，顶板(...
【技术特征摘要】
1.一种真空溅镀装置，其特征在于：包括反应腔(1)、靶材(2)、一号电机(3)、连接轴(4)、安装板(5)、顶板(6)与一号固定件(7)；所述靶材(2)左右对称安装在反应腔(1)的内壁上，靶材(2)用于产生镀膜所需的金属粒子；所述一号电机(3)安装在反应腔(1)底部，一号电机(3)位于反应腔(1)外部；所述连接轴(4)安装位于反应腔(1)内，连接轴(4)下端与一号电机(3)输出轴相连接，连接轴(4)上端转动安装在反应腔(1)顶部；所述安装板(5)通过连接轴(4)安装在反应腔(1)内，安装板(5)位于反应腔(1)底部；所述顶板(6)通过连接轴(4)安装在反应腔(1)内，顶板(6)位于底部上方；所述一号固定件(7)上端安装在顶板(6)下表面，一号固定件(7)下端安装在安装板(5)上表面，一号固定件(7)数量若干，一号固定件(7)用于固定基材。2.根据权利要求1所述的一种真空溅镀装置，其特征在于：所述一号固定件(7)包括转轴、滑轮(71)、一号推杆(72)、气缸(73)、连杆(74)、浮动接头(75)与安装件(76)；所述顶板(6)的下表面还设有截面为十字形的滑道(61)，滑道(61)轨迹为圆弧形，滑道(61)数量与一号固定件(7)数量相同；所述转轴安装在滑道(61)内，转轴可以在滑道(61)内滑动；所述滑轮(71)通过转轴安装在滑道(61)内，滑轮(71)可以在滑道(61)内滚动，滑轮(71)用于带动转轴在滑道(61)内滑动；所述一号推杆(72)上端与转轴相铰接；所述气缸(73)安装在安装板(5)上，气缸(73)数量与一号固定件(7)的数量相同；所述连杆(74)底端与气缸(73)的活塞杆相接触，连杆(74)上端设有圆形凹槽，一号推杆(72)的下端通过弹簧安装在连杆(74)上端的圆形凹槽内；所述浮动接头(75)分别位于连杆(74)的底端与气缸(73)活塞杆的顶端，浮动接头(75)用于保证连杆(74)的多角度转动；所述安装件(76)数量若干，安装件(76)对称布置在连杆(74)上，安装件(76)用于安装基材。3.根据权利要求2所述的一种真空溅镀装置，其特征在于：所述安装件(76)包括安装块(761)、吸盘(762)与二号推杆(763)，所述安装块(761)安装在连杆(74)上，安装块(761)上设有圆形凹槽；所述二号推杆(763)一端通过弹簧安装在安装块(761)的圆形凹槽内，二...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。