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本发明属于真空溅镀技术领域，具体的说是一种真空溅镀装置，包括反应腔、靶材、一号电机、连接轴、安装板、顶板与一号固定件；靶材左右对称安装在反应腔的内壁上，靶材用于产生镀膜所需的金属粒子；一号电机安装在反应腔底部，一号电机位于反应腔外部；连接轴...
该专利属于余泽军所有，仅供学习研究参考，未经过余泽军授权不得商用。

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