一种高真空磁控轴瓦溅镀机制造技术

本发明专利技术公开了一种高真空磁控轴瓦溅镀机，涉及溅渡装置技术领域，结构包括溅渡壳体，溅渡壳体内设有溅渡腔，溅渡腔设有溅射靶和轴瓦支撑架，溅渡壳体底部设有底座，底座上设有溅射靶架旋转轴，溅射靶架旋转轴固定设有用来活动放置溅射靶的溅射靶支撑架，所述溅射靶为双面靶，正面为镍靶、背面为合金靶，溅射靶支撑架中间固定连接有溅射靶架旋转轴，两侧边缘为凹凸锯齿状，在所述底座7上还设有挡板10，所述挡板边缘设有与溅射靶支撑架3两侧边缘为凹凸锯齿状配合的凹凸锯齿状，所述轴瓦支撑架包括轴瓦支架旋转轴和活动装设在轴瓦支架旋转轴上用来悬挂轴瓦的挂柱，本种溅镀方式是安全环保的，通过设置可旋转的两面靶，解决以往受降温以及更换靶材等步骤制约，增加了工作产量、提高了效率。

【技术实现步骤摘要】
一种高真空磁控轴瓦溅镀机
本专利技术涉及溅渡装置，尤其涉及一种高真空磁控轴瓦溅镀机。
技术介绍
目前标准轴瓦都分为四层：钢背，烧结在钢背上的铜基合金，镍栅层，减磨合金层，通常加工标准轴瓦的方法是：1、先制造钢背，2、在钢背上烧结或浇筑铜基合金层，3、再在将镍栅层电镀于铜基合金层上，4、再送入溅镀设备内溅镀减磨合金层，这种方法缺点是：方法步骤中包含电镀方式，属于污染严重且对人体伤害较大的加工方法，另一种加工标准轴瓦的方法是：1、先制造钢背，2、在钢背上烧结或浇筑铜基合金层，3、将该轴瓦基体送入溅镀设备分层溅镀镍栅层和减磨合金层，本方法是安全环保的，但缺点是由于要溅镀两层(镍栅层和减磨合金层)，受目前溅镀设备的限制，因此在溅镀完镍栅层后要降温冷却后更换镍靶换成合金材料靶，这种溅镀方式受降温以及更换靶材等步骤制约，产量、效率很低。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术提供了一种高真空磁控轴瓦溅镀机。为解决上述技术问题，本专利技术所采用的技术方案是：提供了一种高真空磁控轴瓦溅镀机，包括溅渡壳体，溅渡壳体内设有溅渡腔，所述溅渡腔设有溅射靶和轴瓦支撑架，所述溅渡壳体底部设有底座，所述底座上设有溅射靶架旋转轴，所述溅射靶架旋转轴固定设有用来活动放置溅射靶的溅射靶支撑架，所述所述溅射靶为双面靶，正面为镍靶、背面为合金靶，所述溅射靶支撑架中间固定连接有溅射靶架旋转轴，两侧边缘为方便溅射靶支撑架之间互相配合的凹凸锯齿状，所述轴瓦支撑架包括轴瓦支架旋转轴和活动装设在轴瓦支架旋转轴上用来悬挂轴瓦的挂柱。进一步地，在所述底座下方设有电机，所述溅射靶架旋转轴6和轴瓦支架旋转轴各独自连接一个电机。进一步地，所述轴瓦支架旋转轴表面设有多个螺纹孔，所述挂柱尾端设有与螺纹孔配合的牙，所述挂柱中间半径小于首段半径。进一步地，所述每两个根轴瓦支架旋转轴由一个挡板和挡板两侧边缘各垂直紧靠一个溅射靶支撑架以及溅渡壳体围绕着，所述每两个根轴瓦支架旋转轴转向相反，所述溅射靶架旋转轴转向为顺时针。进一步地，所述溅渡壳体顶部设置有液压装置，所述液压装置通过圆杆贯穿溅渡壳体顶面连接一个设置在溅渡壳体内部的圆形密封盖。由上述对本专利技术结构的描述可知，和现有技术相比，本专利技术具有如下优点：1.本种溅镀方式是安全环保的，通过两面靶，解决以往受降温以及更换靶材等步骤制约，增加了工作产量、提高了效率。2.挂柱活动连接在轴瓦支架旋转轴上，选择不同大小不同尺寸的挂柱以适应不同尺寸规格轴瓦的要求，这样就避免了对不同轴瓦麻烦。附图说明构成本申请的一部分的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：图1为本专利技术一种高真空磁控轴瓦溅镀机整体构示意图；图2为本专利技术轴瓦支撑架的轴瓦支架旋转轴和挂柱结构示意图。具体实施方式为了使本专利技术的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本专利技术进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本专利技术，并不用于限定本专利技术。实施例通过参考图1和图2，一种高真空磁控轴瓦溅镀机，包括溅渡壳体1，溅渡壳体1内设有溅渡腔8，所述溅渡腔8设有溅射靶2和轴瓦支撑架4，所述溅渡壳体1底部设有底座7，所述底座7上设有溅射靶架旋转轴6，所述溅射靶架旋转轴6固定设有用来活动放置溅射靶2的溅射靶支撑架3，所述所述溅射靶2为双面靶，正面为镍靶、背面为合金靶，所述溅射靶支撑架3中间固定连接有溅射靶架旋转轴6，两侧边缘为凹凸锯齿状，在所述底座7上还设有挡板10，所述挡板边缘设有与溅射靶支撑架3两侧边缘为凹凸锯齿状配合的凹凸锯齿状，所述轴瓦支撑架4包括轴瓦支架旋转轴5和活动装设在轴瓦支架旋转轴5上用来悬挂轴瓦的挂柱9，在所述底座7下方设有电机，所述溅射靶架旋转轴6和轴瓦支架旋转轴5各独自连接一个电机，所述轴瓦支架旋转轴5表面设有多个螺纹孔，所述挂柱9尾端设有与螺纹孔配合的牙，所述挂柱9中间半径小于首段半径，所述每两个根轴瓦支架旋转轴5由一个挡板10和挡板10两侧边缘各垂直紧靠一个溅射靶支撑架3以及溅渡壳体1围绕着，所述每两个根轴瓦支架旋转轴5转向相反，所述溅射靶架旋转轴6转向为顺时针，所述溅渡壳体1顶部设置有液压装置11，所述液压装置11通过圆杆贯穿溅渡壳体1顶面连接一个设置在溅渡壳体1内部的圆形密封盖12。所谓溅镀，是在靶材和承载件上分别接入电源的正负极，在靶材和承载件之间即可建立起一个电磁场，电源正极为电磁场阳极，电源负极为电磁场阴极。接通电源后电磁场能量通过溅镀设备内的惰性气体对靶材轰击，将靶材轰击为中性离子溅射并沉积到对面的轴瓦基体上本专利技术则通过对溅射靶2设置为双面靶，正面为镍靶、背面为合金靶，将溅射靶2设置在溅射靶架旋转轴6上的溅射靶支撑架3，通过旋转溅射靶架旋转轴6实现溅射靶2翻转，在溅射靶支撑架3边缘设置为凹凸锯齿状，正好与挡板10紧密配合，溅渡壳体1顶部设置有液压装置11，液压装置11通过圆杆贯穿溅渡壳体1顶面连接一个设置在溅渡壳体1内部的圆形密封盖12，在对一面进行溅射时，密封盖12向下紧靠挡板10和溅射靶支撑架3，使轴瓦支架旋转轴5存在一个密闭范围内，在对一面进行溅射不容易造成不同靶面的不同靶材的污染，才能保持溅射靶2表面平整度，提高最终溅射效果，轴瓦支架旋转轴5表面设有多个螺纹孔，挂柱9尾端设有与螺纹孔配合的牙，所述挂柱9中间半径小于首段半径，自行选择不同型号挂柱9，使其方便不同轴瓦的溅渡。以上所述仅为本专利技术的较佳实施例而已，并不用以限制本专利技术，凡在本专利技术的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本专利技术的保护范围之内。本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种高真空磁控轴瓦溅镀机，包括溅渡壳体（1），溅渡壳体（1）内设有溅渡腔（2），所述溅渡腔（8）设有溅射靶（2）和轴瓦支撑架（4），所述溅渡壳体（1）底部设有底座（7），其特征在于：在所述，所述底座（7）上设有溅射靶架旋转轴（6），所述溅射靶架旋转轴（6）固定设有用来活动放置溅射靶（2）的溅射靶支撑架（3），所述所述溅射靶（2）为双面靶，正面为镍靶、背面为合金靶，所述溅射靶支撑架（3）中间固定连接有溅射靶架旋转轴（6），两侧边缘为凹凸锯齿状，在所述底座7上还设有挡板（10），所述挡板（10）边缘设有与溅射靶支撑架（3）两侧边缘为凹凸锯齿状配合的凹凸锯齿状，所述轴瓦支撑架（4）包括轴瓦支架旋转轴（5）和活动装设在轴瓦支架旋转轴（5）上用来悬挂轴瓦的挂柱（9）。

【技术特征摘要】
1.一种高真空磁控轴瓦溅镀机，包括溅镀壳体(1)，溅镀壳体(1)内设有溅镀腔(8)，所述溅镀腔(8)设有溅射靶(2)和轴瓦支撑架(4)，所述溅镀壳体(1)底部设有底座(7)，其特征在于：在所述底座(7)上设有溅射靶架旋转轴(6)，所述溅射靶架旋转轴(6)固定设有用来活动放置溅射靶(2)的溅射靶支撑架(3)，所述所述溅射靶(2)为双面靶，正面为镍靶、背面为合金靶，所述溅射靶支撑架(3)中间固定连接有溅射靶架旋转轴(6)，两侧边缘为凹凸锯齿状，在所述底座7上还设有挡板(10)，所述挡板(10)边缘设有与溅射靶支撑架(3)两侧边缘为凹凸锯齿状配合的凹凸锯齿状，所述轴瓦支撑架(4)包括轴瓦支架旋转轴(5)和活动装设在轴瓦支架旋转轴(5)上用来悬挂轴...

【专利技术属性】
技术研发人员：木俭朴，
申请(专利权)人：烟台大丰轴瓦有限责任公司，
类型：发明
国别省市：山东;37