消光装置、光学系统及光刻机制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种消光装置、光学系统及光刻机。该消光装置包括消光本体；消光本体包括受光面；受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到消光凹槽的光线在消光凹槽内发生多次反射。本实用新型专利技术通过提供一种包括消光本体的消光装置；并设置消光本体包括受光面；受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到消光凹槽内的光线在消光凹槽内发生多次反射，以促使杂散光的能量消散，进而达到消除杂散光的目的，解决了现有的消除杂散光的方法无法消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光的问题，达到了消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光，提高光学系统的性能的目的。

Extinction device, optical system and lithography machine

The utility model discloses a light extinction device, an optical system and a lithography machine. The extinction device comprises an extinction body, an extinction body comprises a receiving surface, and an extinction groove arranged in multiple arrays is arranged on the receiving surface so that the light entering the extinction groove has multiple reflections in the extinction groove. The utility model provides an extinction device including an extinction body, and sets an extinction body including a light receiving surface, and a plurality of array extinction grooves are arranged on the light receiving surface so that the light entering the extinction groove has multiple reflections in the extinction groove, so as to promote the energy dissipation of stray light and thereby eliminate it. The purpose of stray light is to solve the problem that the existing methods can not eliminate the stray light produced in the process of light propagation in the optical system, so as to eliminate the stray light produced in the process of light propagation in the optical system and improve the performance of the optical system.

【技术实现步骤摘要】
消光装置、光学系统及光刻机
本技术涉及光学技术，尤其涉及一种消光装置、光学系统及光刻机。
技术介绍
随着科技的发展，光学系统在半导体、摄像或显示等领域均具有广泛的应用前景。但是，目前杂散光是制约光学系统性能的主要障碍，这是因为杂散光对光学系统的危害很大，将淹没对比度很低的图像或者细节，直接降低光学系统的成像质量以致影响光学系统的分辨率。杂散光的来源有很多种，比如光学系统没有做适当的遮光、光学元件被损伤、光束孔径不匹配和光学系统本身的相差和机械件内壁黑化处理不当等。目前消除光学系统中杂散光的方式主要包括增加消杂散光光阑，增加消杂散光螺纹，在镜筒内壁进行无光发黑氧化或者喷无光漆等。但是这些方式无法消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光，这使得光学系统的性能仍然不佳。
技术实现思路
本技术提供一种消光装置、光学系统及光刻机，以实现消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光，提高光学系统的性能的目的。第一方面，本技术提供了一种消光装置，该消光装置包括消光本体；所述消光本体包括受光面；所述受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到所述消光凹槽的光线在所述消光凹槽内发生多次反射。进一步地，多个所述消光凹槽呈交错阵列排布。进一步地，所述消光凹槽的形状为牛角形。进一步地，所述消光凹槽包括顶点和底面；所述底面位于所述受光面上；所述顶点与所述底面的几何中心的连线与所述底面的夹角大于或等于30°，且小于或等于60°。进一步地，所述底面为圆孔且孔径为1mm，相邻两个所述底面圆孔中心距离为1.2mm。进一步地，所述消光装置为光学器件支撑座；所述消光本体的受光面上设置有至少一个固定结构，以固定光学器件。进一步地，所述固定结构包括至少两个相对设置的光学靠面，且在所述光学靠面上设置有点胶槽，通过点胶以固定所述光学器件；所述消光凹槽设置于相对设置的所述光学靠面之间。进一步地，所述光学器件包括分束镜。第二方面，本技术还提供了一种光学系统，该光学系统包括本技术提供的任意一种所述的消光装置。进一步地，所述光学系统为对准系统。进一步地，所述对准系统包括多个光学镜片和至少一个所述消光装置；所述多个光学镜片构成对准光路，其中，至少一个所述光学镜片包括杂散光出光面；包括所述杂散光出光面的所述光学镜片固定于所述消光装置上，且所述光学镜片的所述杂散光出光面与所述消光装置的受光面对应。第三方面，本技术还提供了一种光刻机，该光刻机包括本技术提供的任意一种所述的光学系统。本技术通过提供一种包括消光本体的消光装置；并设置所述消光本体包括受光面；所述受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到所述消光凹槽内的光线在所述消光凹槽内发生多次反射，以促使杂散光的能量消散，进而达到消除杂散光的目的，解决了现有的消除杂散光的方法无法消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光的问题，达到了消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光，提高光学系统的性能的目的。附图说明图1为本技术实施例提供的一种消光装置的结构示意图；图2为沿图1中A1-A2的剖面结构示意图；图3为光线在消光凹槽内反射的示意图；图4为本实验新型实施例提供的一种消光凹槽阵列排布的结构示意图；图5为本实验新型实施例提供的另一种消光凹槽阵列排布的结构示意图；图6为将光学器件安装于本技术实施例提供的一种消光装置后的结构示意图；图7-图8为利用光度计对本技术实施例提供的消光装置进行消光性能测试时的结构示意图；图9为利用光度计对本技术实施例提供的消光装置进行消光性能测试的测试结果；图10为利用光度计对本技术实施例提供的消光装置消除杂散光的方法和现有的消除杂散光的方法进行对比测试时的结构示意图。具体实施方式下面结合附图和实施例对本技术作进一步的详细说明。可以理解的是，此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本技术，而非对本技术的限定。另外还需要说明的是，为了便于描述，附图中仅示出了与本技术相关的部分而非全部结构。图1为本技术实施例提供的一种消光装置的结构示意图。图2为沿图1中A1-A2的剖面结构示意图。参见图1和图2，该消光装置包括消光本体10；该消光本体包括受光面11；受光面11上设置有多个阵列排布的消光凹槽12，以使进入到消光凹槽12的光线在消光凹槽12内发生多次反射。图3为光线在消光凹槽内反射的示意图。参见图3，当杂散光a从该消光装置的受光面11进入到消光凹槽12后，在消光凹槽12的内壁上发生多次反射。在多次反射的过程中，杂散光a的能量逐渐衰减，最终使得只有极少数的杂散光a能够从受光面11出射，并再次回到光路中，这样可以达到消除杂散光的目的。需要说明的是，在实际设置时，消光凹槽12的阵列排布结构可以有多种。图4和图5示例性地给出了两种消光凹槽阵列排布的结构示意图。可选地，参见图4，多个消光凹槽12呈矩阵结构排布。或者参见图5，多个消光凹槽12呈交错阵列排布。其中，通过设置多个消光凹槽12呈交错阵列排布，可以在面积有限的受光面11上尽可能多地设置多个消光凹槽12，以提高消除杂散光的效果。在实际制作过程中，消光凹槽12的形状可以有多种，例如圆柱形、圆锥形、棱台形或者圆台形等。本申请对此不作限制。可选地，如图3所示，消光凹槽12的形状为牛角形。这样设置的好处是可以尽可能多地增加杂散光在消光凹槽12内发生反射的次数，进而尽可能多地消耗杂散光的能量，提高杂散光的消除效果。进一步地，继续参见图3，可以设置消光凹槽12包括顶点A和底面121；底面121位于消光本体的受光面11上；消光凹槽12的顶点A与底面121的几何中心C的连线与所述底面121的夹角β大于或等于30°，且小于或等于60°。这样设置的好处是，尽可能多地增加杂散光在牛角形消光凹槽12内发生反射的次数，进而最大化地消耗杂散光的能量，提高杂散光的消除效果。需要说明的是，本申请提供的消光装置适用于消除已与有效光相分离的杂散光。实际使用时，该消光装置可以设置于杂散光与有效光分离后，杂散光的任意传播路径上。考虑到在实际中，通常在光学器件的分界面处形成杂散光。图6为将光学器件安装于本技术实施例提供的一种消光装置后的结构示意图。可选地，继续参见图1和图6，该消光装置为光学器件支撑座；消光本体10的受光面11上设置有至少一个固定结构，以固定光学器件20。这样设置，一方面，可以对光学器件20进行固定，进而起到保护光学器件20的作用，同时稳定光线的传播路径；另一方面，能够消除光线在光学系统内传播过程中产生的杂散光a，进而提升光学系统的性能。在实际设置时，固定结构的结构有多种，可选地，根据预计要固定的光学器件20的结构有针对性地进行设计，使之与光学器件20相匹配。示例性地，如图1和图6所示，要固定的光学器件20为长方体形，固定结构可以包括至少两个相对设置的光学靠面，且在光学靠面上设置有点胶槽，通过点胶以固定光学器件20；消光凹槽12设置于相对设置的光学靠面之间。示例性地，参见图1和图6，该消光装置中设置了两组光学靠面，分别为第一组光学靠面13和第二组光学靠面14，每一组光学靠面均包括两个相对设置的光学靠面。由于有效光从第二组光学靠面14与光学器件20相接触的面入射或出射，可选地，设置第二组光学靠本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种消光装置，其特征在于，包括消光本体；所述消光本体包括受光面；所述受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到所述消光凹槽的光线在所述消光凹槽内发生多次反射。

【技术特征摘要】
1.一种消光装置，其特征在于，包括消光本体；所述消光本体包括受光面；所述受光面上设置有多个阵列排布的消光凹槽，以使进入到所述消光凹槽的光线在所述消光凹槽内发生多次反射。2.根据权利要求1所述的消光装置，其特征在于，多个所述消光凹槽呈交错阵列排布。3.根据权利要求1所述的消光装置，其特征在于，所述消光凹槽的形状为牛角形。4.根据权利要求3所述的消光装置，其特征在于；所述消光凹槽包括顶点和底面；所述底面位于所述受光面上；所述顶点与所述底面的几何中心的连线与所述底面的夹角大于或等于30°，且小于或等于60°。5.根据权利要求4所述的消光装置，其特征在于，所述底面为圆孔且孔径为1mm，相邻两个所述底面圆孔中心距离为1.2mm。6.根据权利要求1所述的消光装置，其特征在于；所述消光装置为光学器件支撑座；所述消光本体的受光面上设置有至少一个固定结构，以固定光学器件。7.根据权...

【专利技术属性】
技术研发人员：裴万生，刁雷，周剑锋，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：新型
国别省市：上海,31