【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体，特别涉及一种调焦调平测量装置。
技术介绍
1、在现今的扫描投影光刻装置中，多使用光学测量法来实现对硅片的调焦调平测量，且多利用三角测量原理。常用的光学测量方法基本原理为，利用光学照明系统和投影系统，将光斑照射到工件表面，并利用成像和探测系统去探测工件反射的光斑。当工件表面高度和倾斜发生变化时，从工件表面反射的光斑的位置也发生变化，或者光斑探测信号规律发生变化，通过检测这种光斑位置的变化信息，或光斑探测信号规律信息，就可以确定工件表面高度或整体清晰度。
2、但在对不同工艺制程的工件(不同的工艺片)进行调焦调平时，光斑的反射信号不仅携带了工件表面的位置信息，还容易受到待测区域本身的表面结构或基底结构的影响，从而影响调焦调平对不同工艺的适应性。表面结构例如待测区域的表面设置有沟槽、镀有金属膜层，基底结构例如为透明基底、键合基底(键合片)或树脂基底等。
技术实现思路
1、本专利技术的目的在于提供一种调焦调平测量装置，以提高调焦调平测量装置对不同工艺的适应性。
2、为解决上述技术问题，本专利技术提供一种调焦调平测量装置，包括照明单元、投影单元及探测单元，所述照明单元发出入射光线经所述投影单元投射于待测区域形成至少两个子光斑，至少两个所述子光斑的反射光携带所述待测区域的至少两个表面信息进入所述探测单元，利用至少两个所述表面信息获得所述待测区域的位置信息。
3、可选的，所述投影单元包括顺次设置的光路整形镜组、狭缝及投影镜组。
5、可选的，还包括多波段分割单元，设于所述照明单元与所述投影单元之间，其中，所述照明单元为宽光谱光源，所述多波段分割单元包括滤波转轮，所述探测单元为多波段探测单元。
6、可选的，所述调焦调平测量装置包括第一投影支路及第二投影支路，所述第一投影支路及所述第二投影支路均设有所述照明单元及所述投影单元，所述第一投影支路及所述第二投影支路在所述待测区域形成错开排列的第一测量光斑及第二测量光斑，所述第一测量光斑及所述第二测量光斑各包括至少一个所述子光斑。
7、可选的，所述第一测量光斑位于所述待测区域的中间位置，所述第一测量光斑的第一反射光进入所述探测单元，所述第二测量光斑位于所述待测区域的边缘区域，所述第二测量光斑的第二反射光进入所述探测单元。
8、可选的，所述第一测量光斑为可见光波段的光斑，所述第二测量光斑为红外波段的光斑。
9、可选的，还包括控制器，所述控制器被配置为：
10、开启所述第一投影支路，关闭所述第二投影支路，以获取所述第一测量光斑携带的第一表面信息；
11、开启所述第二投影支路，关闭所述第一投影支路，以获取所述第二测量光斑携带的第二表面信息；
12、判断所述第一表面信息的信息强度是否大于预设信息强度；
13、若所述第一表面信息的信息强度大于所述预设信息强度，利用所述第一表面信息及所述第二表面信息以获得所述待测区域的位置信息；
14、若所述第一表面信息的信息强度小于或等于所述预设信息强度，利用所述第二表面信息获得所述待测区域的位置信息。
15、可选的，所述调焦调平测量装置包括第三投影支路，所述第三投影支路设有所述照明单元及所述投影单元，所述第三投影支路在所述待测区域上至少依次形成第三测量光斑及第四测量光斑，所述第三测量光斑及所述第四测量光斑的光波段不同，所述第三测量光斑及所述第四测量光斑各包括至少一个所述子光斑。
16、可选的，还包括控制器，所述控制器被配置为：
17、开启所述第三投影支路，形成所述第三测量光斑，以获取所述待测区域的第三表面信息；
18、开启所述第三投影支路，形成所述第四测量光斑，以获取所述待测区域的第四表面信息；
19、比较所述第三表面信息及所述第四表面信息的信息强度，输出较大者对应的位置信息。
20、综上所述，本专利技术提供的调焦调平测量装置包括照明单元、投影单元及探测单元，通过在待测区域的不同区域形成至少两个子光斑，或者在待测区域形成至少两个不同光波段的子光斑，获得不同区域或不同光波段的表面信息，在获取待测区域的更全面的表面信息时，还可利用不同子光斑对不同工艺片的敏感程度，提高调焦调平测量装置对不同工艺的适应性，以利用提高调焦调平测量的效果及效率。
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1.一种调焦调平测量装置，其特征在于，包括照明单元、投影单元及探测单元，所述照明单元发出入射光线经所述投影单元投射于待测区域形成至少两个子光斑，至少两个所述子光斑的反射光携带所述待测区域的至少两个表面信息进入所述探测单元，利用至少两个所述表面信息获得所述待测区域的位置信息。
2.根据权利要求1所述的调焦调平测量装置，其特征在于，所述投影单元包括顺次设置的光路整形镜组、狭缝及投影镜组。
3.根据权利要求1所述的调焦调平测量装置，其特征在于，一个或者多个所述子光斑形成一组或多组测量光斑，每组所述测量光斑的任意两个所述子光斑之间具有非等间距；或每组所述测量光斑的任一所述子光斑均具有不同的尺寸。
4.根据权利要求1所述的调焦调平测量装置，其特征在于，还包括多波段分割单元，设于所述照明单元与所述投影单元之间，其中，所述照明单元为宽光谱光源，所述多波段分割单元包括滤波转轮，所述探测单元为多波段探测单元。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的调焦调平测量装置，其特征在于，所述调焦调平测量装置包括第一投影支路及第二投影支路，所述第一投影支路及所述第
6.根据权利要求5所述的调焦调平测量装置，其特征在于，所述第一测量光斑位于所述待测区域的中间位置，所述第一测量光斑的第一反射光进入所述探测单元，所述第二测量光斑位于所述待测区域的边缘区域，所述第二测量光斑的第二反射光进入所述探测单元。
7.根据权利要求6所述的调焦调平测量装置，其特征在于，所述第一测量光斑为可见光波段的光斑，所述第二测量光斑为红外波段的光斑。
8.根据权利要求6或7所述的调焦调平测量装置，其特征在于，还包括控制器，所述控制器被配置为：
9.根据权利要求1至4中任一项所述的调焦调平测量装置，其特征在于，所述调焦调平测量装置包括第三投影支路，所述第三投影支路设有所述照明单元及所述投影单元，所述第三投影支路在所述待测区域上至少依次形成第三测量光斑及第四测量光斑，所述第三测量光斑及所述第四测量光斑的光波段不同，所述第三测量光斑及所述第四测量光斑各包括至少一个所述子光斑。
10.根据权利要求9所述的调焦调平测量装置，其特征在于，还包括控制器，所述控制器被配置为：
...【技术特征摘要】
1.一种调焦调平测量装置，其特征在于，包括照明单元、投影单元及探测单元，所述照明单元发出入射光线经所述投影单元投射于待测区域形成至少两个子光斑，至少两个所述子光斑的反射光携带所述待测区域的至少两个表面信息进入所述探测单元，利用至少两个所述表面信息获得所述待测区域的位置信息。
2.根据权利要求1所述的调焦调平测量装置，其特征在于，所述投影单元包括顺次设置的光路整形镜组、狭缝及投影镜组。
3.根据权利要求1所述的调焦调平测量装置，其特征在于，一个或者多个所述子光斑形成一组或多组测量光斑，每组所述测量光斑的任意两个所述子光斑之间具有非等间距；或每组所述测量光斑的任一所述子光斑均具有不同的尺寸。
4.根据权利要求1所述的调焦调平测量装置，其特征在于，还包括多波段分割单元，设于所述照明单元与所述投影单元之间，其中，所述照明单元为宽光谱光源，所述多波段分割单元包括滤波转轮，所述探测单元为多波段探测单元。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的调焦调平测量装置，其特征在于，所述调焦调平测量装置包括第一投影支路及第二投影支路，所述第一投影支路及所述第二投影支路均设有所述照明单元及所述投影单元，所述第一投影支路及所述第二投...
【专利技术属性】
技术研发人员：杨宣华，朱振朋，袁明波，唐江锋，蓝科，刁雷，陈雪影，
申请(专利权)人：上海微电子装备集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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