【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本公开内容要求于2021年7月15日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2021-0092621号的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。本公开内容涉及用于记录全息干涉图案的设备和使用所述设备记录全息干涉图案的方法，特别地，涉及用于记录全息干涉图案的设备和使用所述设备记录全息干涉图案的方法，所述设备和方法能够简化以下过程：使光源和光敏材料对齐以在三维坐标系上记录全息干涉图案，然后使光源和光敏材料重新对齐以记录不同的全息干涉图案。
技术介绍
1、通常，为了在光敏材料上记录全息干涉图案，向光敏材料发射对象光和参考光，并由此将由于对象光与参考光之间的干涉现象而实现的干涉图案记录在光敏材料上。
2、为了记录特定的全息干涉图案，需要调节在光敏材料上发射对象光和参考光的发射角度。因此，对象光、参考光和光敏材料分别需要在特定的位置对齐。
3、即，为了在用于记录全息干涉图案的设备中使用，光敏材料需要具有特定的形状。通常，在其中在所述设备中使用具有特定形状的光敏材料的状态下，全息干涉图案被记录在光敏材料上。然而，在其中在所述设备中使用具有特定形状的光敏材料的状态下记录全息干涉图案的情况下，出现这样的问题：在大多数情况下，对象光、参考光和光敏材料需要定位在三维坐标系上，以及对象光、参考光和光敏材料难以布置在三维坐标系上。此外，在对记录在光敏材料上的全息干涉图案进行复制的过程中，在三维坐标系上还实现了由再现光被全息干涉图案衍射而产生的衍射光的路径。因此，出现这样的问题：衍射光的路径难以确定，以及用于记录全息干涉图案的
4、此外，为了复制细微变化的全息干涉图案，在其中在所述设备中使用具有特定形状的光敏材料的状态下，需要改变对象光、参考光和光敏材料的三维布置。因此，出现这样的问题：使对象光、参考光和光敏材料对齐花费过多的时间。
5、因此，迫切需要开发即使全息干涉图案变化也可以容易地实现对象光、参考光和光敏材料的布置的技术。
技术实现思路
1、技术问题
2、本公开内容的目的是提供用于记录全息干涉图案的设备和使用所述设备记录全息干涉图案的方法，所述设备和方法能够通过向其上将记录全息干涉图案的光敏材料发射再现光来将由衍射光形成的光路的三维布置变为其二维布置，然后得出分别对应于再现光和衍射光的参考光和对象光的布置。使用所述设备和方法，即使待记录的全息干涉图案变化，也可以容易地改变对象光、参考光和光敏材料的布置。
3、然而，本公开内容不限于上述目的，根据以下描述，未提及的目的对于本领域普通技术人员将是可清楚理解的。
4、技术方案
5、根据本公开内容的一个方面，提供了记录全息干涉图案的方法，所述方法包括：通过在预定位置向其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品发射再现光来分别确定由再现光的路径和衍射光的路径形成的光路；通过将光敏材料样品旋转来将光路布置在二维坐标系上；以为了记录实现与布置在二维坐标系上的光路相同的光路的第二全息干涉图案的方式得出参考光的路径和对象光的路径；以及提供其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料，在参考光的路径和对象光的路径上分别在预定位置提供参考光和对象光，发射参考光和对象光，并由此记录第二全息干涉图案。
6、根据本公开内容的另一个方面，提供了用于记录全息干涉图案的设备，所述设备包括：被配置成固定其上将记录实现与由记录在光敏材料样品上的第一全息干涉图案实现的光路相同的光路的第二全息干涉图案的光敏材料的光敏材料固定单元；被配置成向光敏材料发射参考光的参考光发射单元；被配置成向光敏材料发射对象光的对象光发射单元；固定有分别在被布置在预定位置之后的光敏材料固定单元、参考光发射单元和对象光发射单元的载物台单元；以及被配置成得出预定位置的计算单元，其中由于参考光与对象光之间的干涉现象而形成的第二全息干涉图案被记录在光敏材料上。
7、有益效果
8、根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法可以将对象光和参考光的布置根据待记录的全息干涉图案(即，根据待实现的光路)转换成二维布置，因此，即使全息干涉图案变化，也可以容易地改变参考光、对象光和光敏材料的各自位置。
9、即使待记录的全息干涉图案变化(即，即使待实现的光路变化)，根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备也可以容易地改变参考光、对象光和光敏材料的各自位置，因此可以简化记录全息干涉图案的过程。
10、本公开内容不限于上述有益效果。根据本说明书和附图，以上未提及的有益效果对于本领域普通技术人员将是明显的。
本文档来自技高网...【技术保护点】
1.一种记录全息干涉图案的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中将所述光路布置在所述二维坐标系上是为了将其中所述再现光在所述二维坐标系上与所述光敏材料样品相遇的点指定为原点。
3.根据权利要求1所述的方法，其中记录所述第二全息干涉图案是为了以这样的方式提供其上将记录所述第二全息干涉图案的所述光敏材料：所述光敏材料以与旋转布置的所述光敏材料样品相同的方式对齐。
4.一种用于记录全息干涉图案的设备，所述设备包括：
5.根据权利要求4所述的设备，其中所述计算单元通过执行以下步骤来得出所述预定位置：
6.根据权利要求5所述的设备，其中所述光敏材料固定单元使所述光敏材料以这样的方式旋转：所述光敏材料以与旋转布置的所述光敏材料样品相同的方式对齐。
7.根据权利要求5所述的设备，还包括：
8.根据权利要求5所述的设备，其中所述载物台单元包括：
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种记录全息干涉图案的方法，所述方法包括：
2.根据权利要求1所述的方法，其中将所述光路布置在所述二维坐标系上是为了将其中所述再现光在所述二维坐标系上与所述光敏材料样品相遇的点指定为原点。
3.根据权利要求1所述的方法，其中记录所述第二全息干涉图案是为了以这样的方式提供其上将记录所述第二全息干涉图案的所述光敏材料：所述光敏材料以与旋转布置的所述光敏材料样品相同的方式对齐。
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【专利技术属性】
技术研发人员：宋民守，金成研，柳然才，李俊英，
申请(专利权)人：株式会社LG化学，
类型：发明
国别省市：
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