用于纯化双特异性抗体的抗体修饰方法技术

本发明专利技术发现了高效纯化双特异性抗体的方法：对于构成双特异性抗体的２种抗体，通过修饰存在于抗体可变区表面的氨基酸，在２种抗体的Ｈ链之间导入等电点差异，利用等电点差异，用色谱柱高效纯化双特异性抗体。还发现：向等电点有差异的抗体的恒定区整合各抗原结合部位（重链可变区），使它们共表达，用色谱柱高效纯化双特异性抗体。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】
多特异性抗体的制备方法，所述多特异性抗体含有第１多肽和第２多肽，该制备方法包含以下步骤：　（ａ）修饰编码第１多肽的氨基酸残基的核酸和编码第２多肽的氨基酸残基的核酸两者或其中之一，使第１多肽与第２多肽的等电点产生差异；　（ｂ）培养 宿主细胞，使其表达该核酸；　（ｃ）从宿主细胞培养物中回收多特异性抗体。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：井川智之，角田浩行，
申请(专利权)人：中外制药株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]