The embodiment of the invention discloses a column structure of package substrate and a processing method is used to solve the existing problems in the technology of copper column structure, the structure of copper copper column structure package substrate with high uniformity and high strength. The embodiment of the invention includes providing a circuit board, the circuit board has a substrate, second copper layer and ultra thick dry film, super thick dry film surface in a circuit board; drilling of PCB, the formation of copper column through hole, and the pillars in the inner wall of the through hole forming a first copper layer through the copper plating process; in general, the formation of copper pillars in the hole; the removal of ultra thick dry film, second copper layer and the copper layer was first exposed, copper structure of package substrate.
【技术实现步骤摘要】
一种铜柱结构封装基板及其加工方法
本专利技术涉及电子
,具体涉及一种铜柱结构封装基板及其加工方法。
技术介绍
堆叠封装技术可提高半导体电子元器件集成密度,满足电子封装的小型化、薄型化及高传输性的需求,其中铜柱结构封装基板是一项新技术路线,其优点主要有:1、采取铜柱互联能实现高性能的封装,主要表现在铜柱具有比焊球更低的电阻率,更有利于信号传输,铜柱互联具有比焊球互联更高的平均失效时间(铜柱结构的平均失效时间是焊球互联的2.3倍);2、铜具有极高的热导率(33W/m·℃,无铅焊接锡银铜热导率33W/m·℃),从而实现芯片向基板上迅速散热;3、对于给定的基板表面焊盘节距,采用铜柱互联具有比焊球互联更大的间隙,从而获得更好的可制造性和可靠性;4、可以实现基板上更高密度的布线,从而减小基板的层数和尺寸(减小基板尺寸约15%)。目前铜柱制作方式主要采用“超厚干膜图形开窗-盲孔填孔电镀填窗-褪膜”的加工方式制作,这种加工方式工艺难度大、设备及物料成本昂贵。如图1所示,基板101具有内层图形102,连接面104连接铜柱103与内层图形102。铜柱103存在拱形顶部,减少了封装组装过程中有效接触面积并且尺寸难以控制均一;铜柱103底部的连接面104为电镀铜微蚀线和嵌入油墨层,铜柱103的结构的强度受到影响,以上缺陷使得铜柱结构封装基板的集成度和稳定性。
技术实现思路
本专利技术实施例提供了一种铜柱结构封装基板及其加工方法,用于解决现有技术中铜柱结构存在问题,使得铜柱结构封装基板上的铜柱结构具有高均匀性及高强度。有鉴于此,本专利技术第一方面提供一种铜柱结构封装基板的加工方法 ...
【技术保护点】
一种铜柱结构封装基板的加工方法,其特征在于,包括:提供线路板,所述线路板具有基板、第二铜层及超厚干膜,所述超厚干膜处于所述线路板的一个面上;对所述线路板进行钻孔,形成铜柱通孔,并在所述铜柱通孔内壁形成第一铜层;通过电镀铜工艺,在所述铜柱通孔内形成铜柱;去除所述超厚干膜、所述第二铜层和暴露的所述第一铜层,得到铜柱结构封装基板。
【技术特征摘要】
1.一种铜柱结构封装基板的加工方法,其特征在于,包括:提供线路板,所述线路板具有基板、第二铜层及超厚干膜,所述超厚干膜处于所述线路板的一个面上;对所述线路板进行钻孔,形成铜柱通孔,并在所述铜柱通孔内壁形成第一铜层;通过电镀铜工艺,在所述铜柱通孔内形成铜柱;去除所述超厚干膜、所述第二铜层和暴露的所述第一铜层,得到铜柱结构封装基板。2.根据权利要求1所述的加工方法,其特征在于,所述加工方法还包括:提供基板,所述基板具有载板、铜线路层及阻焊层,所述铜线路层处于所述载板表面,所述阻焊层处于所述铜线路层表面;在所述基板的所述阻焊层表面形成第二铜层;在所述第二铜层表面粘贴超厚干膜,形成线路板。3.根据权利要求1所述的加工方法,其特征在于,所述加工方法还包括:在所述线路板上形成薄铜层,所述薄铜层与所述第一铜层材料相同。4.根据权利要求3所述的加工方法,其特征在于,所述通过电镀铜工艺,在所述铜柱通孔内形成铜柱,包括:在所述薄铜层表...
【专利技术属性】
技术研发人员:李飒,谷新,熊佳,
申请(专利权)人:深南电路股份有限公司,
类型:发明
国别省市:广东,44
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