The present invention provides a method for manufacturing a LTPS array substrate and the manufacturing method includes: forming a base in a lower layer; an upper layer formed on the base layer, the upper layer comprises a superposition part and the base and the non overlapping, the non overlapping part and the lower layer to form a contact; a photoresist layer on the upper layer; the photoresist layer is placed in a mask, using lithography process to remove the photoresist layer is not covered by the mask plate and the upper part of the corresponding, wherein the mask plate with the superposition width in a first direction is higher than that of the mask and the non superposition of the corresponding part of the width in the first direction.
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及显示屏领域,尤其涉及一种LTPS阵列基板的制造方法。
技术介绍
因LTPS(低温多晶硅)液晶显示屏的生产层别多,且对层别的线宽均一性要求较高,生产中因出现不同层别叠加处受光阻流动性出现光阻膜厚薄不一而引发在光刻时叠加处与非叠加处存在差异,造成层别的形成线宽不一,从而无法实现高品质产品的生产和监控。
技术实现思路
为克服现有技术的不足,本专利技术提供一种提升层别的线宽的均一性的LTPS阵列基板的制造方法。本专利技术提供一种LTPS阵列基板的制造方法,所述制造方法包括:在一下层上形成一基层;在所述基层上形成一上层,所述上层包括与所述基层的叠加部和非叠加部,所述非叠加部与所述下层接触;在所述上层上形成一光阻层;在所述光阻层上放置一掩膜板,利用光刻工艺去除掉未被掩膜板遮盖的光阻层及所述上层,其中所述掩膜板与所述叠加部对应的部分在第一方向上的宽度大于所述掩膜板与所述非叠加部对应的部分在所述第一方向的宽度。进一步地,所述下层为玻璃板。进一步地,所述基层为多晶硅层,所述上层位栅极膜,利用光刻工艺去除掉未被掩膜板遮盖的栅极膜而形成栅极线。进一步地,所述掩膜板与所述叠加部对应的部分在第一方向上的宽度所述掩膜板与所述非叠加部对应的部分在所述第一方向的宽度之间的差值为0.2um。进一步地,所述掩膜板与所述叠加部对应的部分在第二方向上的宽度与所述掩膜板与所述多晶硅层在所述第二方向上的宽度的差值为1.2um,所述第一方向垂直所述第二方向。进一步地,所述多晶硅层呈U形。进一步地,所述栅极线呈长条形。在本专利技术中,在所述光阻层上放置一掩膜板,利用光刻工艺去除掉未被掩膜板遮 ...
【技术保护点】
一种LTPS阵列基板的制造方法,其特征在于:所述制造方法包括:在一下层上形成一基层;在所述基层上形成一上层,所述上层包括与所述基层的叠加部和非叠加部,所述非叠加部与所述下层接触;在所述上层上形成一光阻层;在所述光阻层上放置一掩膜板,利用光刻工艺去除掉未被掩膜板遮盖的光阻层及所述上层,其中所述掩膜板与所述叠加部对应的部分在第一方向上的宽度大于所述掩膜板与所述非叠加部对应的部分在所述第一方向的宽度。
【技术特征摘要】
1.一种LTPS阵列基板的制造方法,其特征在于:所述制造方法包括:在一下层上形成一基层;在所述基层上形成一上层,所述上层包括与所述基层的叠加部和非叠加部,所述非叠加部与所述下层接触;在所述上层上形成一光阻层;在所述光阻层上放置一掩膜板,利用光刻工艺去除掉未被掩膜板遮盖的光阻层及所述上层,其中所述掩膜板与所述叠加部对应的部分在第一方向上的宽度大于所述掩膜板与所述非叠加部对应的部分在所述第一方向的宽度。2.根据权利要求1所述的制造方法,其特征在于,所述下层为玻璃板。3.根据权利要求2所述的制造方法,其特征在于,所述基层为多晶硅层,所述上层位栅极膜,利...
【专利技术属性】
技术研发人员:王中来,
申请(专利权)人:武汉华星光电技术有限公司,
类型:发明
国别省市:湖北;42
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